TH65770A - สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง - Google Patents

สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง

Info

Publication number
TH65770A
TH65770A TH201002528A TH0201002528A TH65770A TH 65770 A TH65770 A TH 65770A TH 201002528 A TH201002528 A TH 201002528A TH 0201002528 A TH0201002528 A TH 0201002528A TH 65770 A TH65770 A TH 65770A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
atoms
heteroatoms selected
group
arylene
cycloalkylene
Prior art date
Application number
TH201002528A
Other languages
English (en)
Inventor
ปิน เชอร์แมน ฉู นายเชียน
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายรุทร นพคุณ
อแวนเทอร์ เพอร์ฟอร์แมนซ์ แมทีเรียลส์
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายรุทร นพคุณ, อแวนเทอร์ เพอร์ฟอร์แมนซ์ แมทีเรียลส์ filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH65770A publication Critical patent/TH65770A/th

Links

Abstract

DC60 (01/12/57) สารผสมทำความสะอาดที่ปราศจากแอมโมเนีย สำหรับการทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิค ซับสเทรท และโดยเฉพาะเกี่ยวกับสารผสมทำความสะอาดที่มีประโยชน์ด้วย และที่มีความเข้า กันได้ที่ปรับปรุงกับไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรทที่ให้ลักษณะเฉพาะโดยไดอิเล็กทริครูพรุนที่ไว, ไดอิเล็กทริค แคปปา ต่ำ หรือ แคปปา สูง และการฉาบด้วยโลหะทองแดง สารผสมทำความสะอาด สำหรับการ ลอกโฟโทเรซิสท์ออก, การทำความสะอาดส่วนเหลือสารประกอบอนินทรีย์, ออร์แกโนเมทัลลิค และ อินทรีย์ที่ก่อกำเนิดจากพลาสมา และการทำความสะอาดส่วนเหลือจากกรรมวิธีการทำให้เป็นระนาบ สารผสมทำความสะอาดนั้นมีเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออนตรงข้ามที่มีประจุเป็น บวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิคหนึ่งสาร หรือมากกว่า และสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน หนึ่งสาร หรือมากกว่า ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนที่กล่าวแล้วนั้นมีอย่างน้อย สองตำแหน่งที่สามารถที่จะทำให้เกิดสารเชิงซ้อนกับโลหะ สารผสมความสะอาดที่ปราศจากแอมโมเนีย สำหรับการทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิค ซับสเทรท และโดยเฉพาะเกี่ยวกับสารผสมทำความสะอาดเช่นนั้นที่มีประโยชน์ด้วย และที่มีความเข้า กันได้ที่ปรับปรุงกับไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรทที่ให้ลักษณะเฉพาะโดยไดอิเล็กทริครูพรุนที่ไว, ไดอิเล็กทริค K ต่ำ หรือ K สูง และการฉาบด้วยโลหะทองแดง สารผสมทำความสะอาด สำหรับการ ลอกโฟโทเรซิสท์ออก, การทำความสะอาดส่วนเหลือสารประกอบอนินทรีย์, ออร์แกโนเมทัลลิค และ อินทรีย์ที่ก่อกำเนิดจากพลาสมา และการทำความสะอาดส่วนเหลือจากกรรมวิธีการทำให้เป็นระบบ สารผสมทำความสะอาดนั้นมีเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออนตรงข้ามที่มีประจุเป็น บวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิคหนึ่งสาร หรือมากกว่า และสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน หนึ่งสาร หรือมากกว่า ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนที่กล่าวแล้วนั้นมีอย่างน้อย สองตำแหน่งที่สามารถที่จะทำให้เกิดสารเชิงซ้อนกับโลหะ

Claims (48)

1. สารผสมทำความสะอาดสำหรับการทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรท ซึ่ง สารผสมทำความสะอาดที่กล่าวแล้วนั้นประกอบรวมด้วย: จากประมาณ 0.05% ถึง 30% โดยน้ำหนัก ของเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียม ที่มีไอออน ตรงข้ามที่มีประจุเป็นบวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิค หนึ่งสาร หรือมากกว่า จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 99.95% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการ กัดกร่อนหนึ่งสาร หรือมากกว่า ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนที่กล่าวแล้วนั้นมี อย่างน้อยสองตำแหน่งที่สามารถที่จะทำให้เกิดสารเชิงซ้อนกับโลหะ; จากประมาณ 0 ถึงประมาณ 99.45% โดยน้ำหนัก ของน้ำ หรือตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่นๆ; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของสเทอริคฮินเดอเรดแอมีน หรือแอลคานอแลมีน; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของกรดอินทรีย์ หรืออนินทรีย์; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบตัวยับยั้งการกัดกร่อนโลหะอื่น ๆ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารลดความตึงผิว; จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบซิลิเกตที่ปราศจากไอออนโลหะ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารช่วยการคีเลทโลหะ และ จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบฟลูออไรด์
2. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมนั้น เป็นเททระแอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือของสารนั้น
3. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งเททระแอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือเป็นสารประกอบที่มีสูตร: [(R)4N]p[X]-q ซึ่งแต่ละ R อย่างเป็นอิสระเป็นหมู่ซับสทิทิวเทด หรืออันซับสทิทิวเทดแอลคิล และ X เป็น OH หรือ แอนไอออนเกลือ และ p และ q เท่ากัน และเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 3
4. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิล ที่มี 1 ถึง 22 คาร์บอน อะตอม และ X เป็น OH
5. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิล ที่มี 1 ถึง 6 คาร์บอน อะตอม
6. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัด กร่อนนั้นเป็นสารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่าที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
7. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งสารประกอบตตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัด กร่อนนั้นเป็นสารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
8. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัด กร่อนนั้นเป็นสารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
9. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัด กร่อนนั้นเป็นสารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
10. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัด กร่อนนั้นเป็นสารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
11. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 10 ซึ่งในนิยามของ R ถึง R5 หมู่แอลคิลมีจาก 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม และหมู่แอริลมีจาก 3 ถึง 14 คาร์บอนอะตอม
12. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน นั้นจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิล อีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
13. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน นั้นจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิล อีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
14. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน นั้นจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิล อีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
15. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน นั้นจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิล อีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
16. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน นั้นจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิล อีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
17. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อยหนึ่ง ตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน และ ไดเมธิลพิเพอริโดน
18. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 6 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อยหนึ่ง ตัวทำละลายร่วมอื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน และไดเมธิล พิเพอริโดน
19. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อย หนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, และไดเมธิลพิเพอริโดน
20. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 16 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อย หนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, และไดเมธิลพิเพอริโดน
21. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน, แทรนส์-1,2-ไซโคลเฮกเซนไดแอมีนเททระแอซิติก แอซิด, ซัลฟอเลน และน้ำ
22. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน และน้ำ
23. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิลฃ แอมโนเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน และน้ำ
24. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน, เอธิลีนไกลคอล, เอธิลีนไดแอมีนเททระ (เมธิลีนฟอสฟอนิคแอซิด และน้ำ
25. กรรมวิธีสำหรับการทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรทที่มีอย่างน้อยหนึ่งของ ไดอิเล็กทริครูพรุน, ไดอิเล็กทริค K ต่ำ หรือ K สูง และการฉาบด้วยโลหะทองแดง ซึ่งกรรมวิธีนั้น ประกอบรวมด้วยการสัมผัสซับสเทรทนั้นกับสารผสมทำความสะอาดนานเวลาที่เพียงพอที่จะทำความ สะอาดซับสเทรทนั้น ซึ่งสารผสมทำความสะอาดประกอบรวมด้วย: จากประมาณ 0.05% ถึง 30% โดยน้ำหนัก ของเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออน ตรงข้ามที่มีประจุเป็นบวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิค หนึ่งสาร หรือมากกว่า จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 99.95% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการ กัดกร่อนหนึ่งสาร หรือมากกว่า ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนที่กล่าวแล้วนั้นมี อย่างน้อยสองตำแหน่งที่สามารถที่จะทำให้เกิดสารเชิงซ้อนกับโลหะ; จากประมาณ 0 ถึงประมาณ 99.45% โดยน้ำหนัก ของน้ำ หรือตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของ สเทอริคฮินเดอเรดแอมีน หรือแอลคานอแลมีน; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของกรดอินทรีย์ หรืออนินทรีย์; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบตัวยับยั้งการกัดกร่อนโลหะอื่น ๆ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารลดความตึงผิว; จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบซิลิเกตที่ปราศจากไอออนโลหะ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารช่วยการคีเลทโลหะ และ จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบฟลูออไรด์
26. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 24 ซึ่งเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมนั้นเป็นเททระ แอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือของสารนั้น
27. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งเททระแอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือเป็น สารประกอบที่มีสูตร: [(R)4N+]p[X]-q ซึ่งแต่ละ R อย่างเป็นอิสระเป็นหมู่ซับสทิทิวเทด หรืออันซับสทิทิวเทดแอลคิล และ X เป็น OH หรือ แอนไอออนเกลือ และ p และ q เท่ากัน และเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 3
28. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 26 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิลที่มี 1 ถึง 22 คาร์บอนอะตอม และ X เป็น OH หรือคาร์บอเนท
29. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิลที่มี 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม
30. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารประกอบตัวทำลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นเป็น สารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
31. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 26 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นเป็น สารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
32. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นเป็น สารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
33. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 28 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นเป็น สารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
34. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นเป็น สารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
35. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งจากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบ ซิลิเกตที่ปราศจากไอออนโลหะ และจากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารช่วยการคีเลทโลหะ, หมู่แอลคิลนั้นมีจาก 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม และหมู่แอริลมีจาก 3 ถึง 14 คาร์บอนอะตอม
36. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์, มอนอ เอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2- เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
37. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 26 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์, มอนอ เอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2- เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
38. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์, มอนอ เอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2- เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
39. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 28 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
40. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์, มอนอ เอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2- เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
41. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน และไดเมธิลพิเพอริโดน
42. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์,ซัลฟอเลน และไดเมธิลพิเพอริโดน
43. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 35 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน และไดเมธิลพิเพอริโดน
44. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 40 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน และไดเมธิลพิเพอริโดน
45. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดประกอบรวมด้วย เททระเมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน, แทรนส์-1,2-ไซโคลเฮกเซนไดแอมีน เททระแอซีติกแอซิด, ซัลฟอเลน และน้ำ
46. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยเททระ เมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน และน้ำ
47. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน และน้ำ
48. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยเททระ เมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน, เอธิลีนไกลคอล, เอธิลีนไดแอมีนเททระ (เมธิลีนฟอสฟอนิคแอซิด และน้ำ)
TH201002528A 2002-07-09 สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง TH65770A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH65770A true TH65770A (th) 2004-12-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2452885A1 (en) Ammonia-free alkaline microelectronic cleaning compositions with improved substrate compatibility
CA2452921A1 (en) Microelectronic cleaning compositions containing ammonia-free fluoride salts
KR100541300B1 (ko) 개선된 수성 스트립핑 조성물
US7767636B2 (en) Nanoelectronic and microelectronic cleaning compositions
JP2005500408A5 (th)
US7393819B2 (en) Ammonia-free alkaline microelectronic cleaning compositions with improved substrate compatibility
KR20030046308A (ko) 구리 구조물 함유 반도체 기판으로부터 잔류물을스트리핑하기 위한 제제로서, 1,3-디카르보닐 화합물킬레이트제 및 구리 부식 억제제를 포함하는 제제
CA2452884C (en) Ammonia-free alkaline microelectronic cleaning compositions with improved substrate compatibility
JP2004536181A5 (th)
ES2345616T3 (es) Composiciones de limpieza no acuosas para microelectronica que contienen fructosa.
KR20260019511A (ko) 전자 제조 응용을 위한 n-치환 피페라진 함유 조성물
KR20130128952A (ko) 플랫 패널 디스플레이용 레지스트 박리액 조성물
JP4501248B2 (ja) レジスト剥離剤
TW202524227A (zh) 用於電子應用的光阻劑剝離組成物
TH61688A (th) สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็คโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง
TH49478B (th) สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็คโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง
TW202611284A (zh) 處理液及其使用方法
TW202414119A (zh) Igzo基板用剝離液組合物、其製備方法及半導體裝置
TH52089B (th) สารผสมทำความสะอาดนาโนอิเล็กโทรนิก และ ไมโครอิเล็กทรอนิก
TH78156A (th) สารผสมทำความสะอาดนาโนอิเล็กโทรนิก และ ไมโครอิเล็กทรอนิก
TH61689A (th) องค์ประกอบทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคที่มีเกลือฟลู?ออโรด์ที่ปราศจากแอมโมเนียสำหรับการลอกเอาโฟโทเร?ซิสท์ที่เลือกจำเพาะ และการทำความสะอาดเรซิดิวที่เป็นเถ้า?พลาสมา
TH38565B (th) องค์ประกอบทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคที่มีเกลือฟลู?ออโรด์ที่ปราศจากแอมโมเนียสำหรับการลอกเอาโฟโทเร?ซิสท์ที่เลือกจำเพาะ และการทำความสะอาดเรซิดิวที่เป็นเถ้า?พลาสมา