TH65770A - สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง - Google Patents
สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุงInfo
- Publication number
- TH65770A TH65770A TH201002528A TH0201002528A TH65770A TH 65770 A TH65770 A TH 65770A TH 201002528 A TH201002528 A TH 201002528A TH 0201002528 A TH0201002528 A TH 0201002528A TH 65770 A TH65770 A TH 65770A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- atoms
- heteroatoms selected
- group
- arylene
- cycloalkylene
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (01/12/57) สารผสมทำความสะอาดที่ปราศจากแอมโมเนีย สำหรับการทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิค ซับสเทรท และโดยเฉพาะเกี่ยวกับสารผสมทำความสะอาดที่มีประโยชน์ด้วย และที่มีความเข้า กันได้ที่ปรับปรุงกับไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรทที่ให้ลักษณะเฉพาะโดยไดอิเล็กทริครูพรุนที่ไว, ไดอิเล็กทริค แคปปา ต่ำ หรือ แคปปา สูง และการฉาบด้วยโลหะทองแดง สารผสมทำความสะอาด สำหรับการ ลอกโฟโทเรซิสท์ออก, การทำความสะอาดส่วนเหลือสารประกอบอนินทรีย์, ออร์แกโนเมทัลลิค และ อินทรีย์ที่ก่อกำเนิดจากพลาสมา และการทำความสะอาดส่วนเหลือจากกรรมวิธีการทำให้เป็นระนาบ สารผสมทำความสะอาดนั้นมีเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออนตรงข้ามที่มีประจุเป็น บวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิคหนึ่งสาร หรือมากกว่า และสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน หนึ่งสาร หรือมากกว่า ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนที่กล่าวแล้วนั้นมีอย่างน้อย สองตำแหน่งที่สามารถที่จะทำให้เกิดสารเชิงซ้อนกับโลหะ สารผสมความสะอาดที่ปราศจากแอมโมเนีย สำหรับการทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิค ซับสเทรท และโดยเฉพาะเกี่ยวกับสารผสมทำความสะอาดเช่นนั้นที่มีประโยชน์ด้วย และที่มีความเข้า กันได้ที่ปรับปรุงกับไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรทที่ให้ลักษณะเฉพาะโดยไดอิเล็กทริครูพรุนที่ไว, ไดอิเล็กทริค K ต่ำ หรือ K สูง และการฉาบด้วยโลหะทองแดง สารผสมทำความสะอาด สำหรับการ ลอกโฟโทเรซิสท์ออก, การทำความสะอาดส่วนเหลือสารประกอบอนินทรีย์, ออร์แกโนเมทัลลิค และ อินทรีย์ที่ก่อกำเนิดจากพลาสมา และการทำความสะอาดส่วนเหลือจากกรรมวิธีการทำให้เป็นระบบ สารผสมทำความสะอาดนั้นมีเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออนตรงข้ามที่มีประจุเป็น บวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิคหนึ่งสาร หรือมากกว่า และสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน หนึ่งสาร หรือมากกว่า ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนที่กล่าวแล้วนั้นมีอย่างน้อย สองตำแหน่งที่สามารถที่จะทำให้เกิดสารเชิงซ้อนกับโลหะ
Claims (48)
1. สารผสมทำความสะอาดสำหรับการทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรท ซึ่ง สารผสมทำความสะอาดที่กล่าวแล้วนั้นประกอบรวมด้วย: จากประมาณ 0.05% ถึง 30% โดยน้ำหนัก ของเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียม ที่มีไอออน ตรงข้ามที่มีประจุเป็นบวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิค หนึ่งสาร หรือมากกว่า จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 99.95% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการ กัดกร่อนหนึ่งสาร หรือมากกว่า ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนที่กล่าวแล้วนั้นมี อย่างน้อยสองตำแหน่งที่สามารถที่จะทำให้เกิดสารเชิงซ้อนกับโลหะ; จากประมาณ 0 ถึงประมาณ 99.45% โดยน้ำหนัก ของน้ำ หรือตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่นๆ; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของสเทอริคฮินเดอเรดแอมีน หรือแอลคานอแลมีน; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของกรดอินทรีย์ หรืออนินทรีย์; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบตัวยับยั้งการกัดกร่อนโลหะอื่น ๆ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารลดความตึงผิว; จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบซิลิเกตที่ปราศจากไอออนโลหะ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารช่วยการคีเลทโลหะ และ จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบฟลูออไรด์
2. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมนั้น เป็นเททระแอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือของสารนั้น
3. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งเททระแอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือเป็นสารประกอบที่มีสูตร: [(R)4N]p[X]-q ซึ่งแต่ละ R อย่างเป็นอิสระเป็นหมู่ซับสทิทิวเทด หรืออันซับสทิทิวเทดแอลคิล และ X เป็น OH หรือ แอนไอออนเกลือ และ p และ q เท่ากัน และเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 3
4. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิล ที่มี 1 ถึง 22 คาร์บอน อะตอม และ X เป็น OH
5. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิล ที่มี 1 ถึง 6 คาร์บอน อะตอม
6. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัด กร่อนนั้นเป็นสารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่าที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
7. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งสารประกอบตตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัด กร่อนนั้นเป็นสารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
8. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัด กร่อนนั้นเป็นสารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
9. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัด กร่อนนั้นเป็นสารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
10. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัด กร่อนนั้นเป็นสารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
11. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 10 ซึ่งในนิยามของ R ถึง R5 หมู่แอลคิลมีจาก 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม และหมู่แอริลมีจาก 3 ถึง 14 คาร์บอนอะตอม
12. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน นั้นจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิล อีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
13. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน นั้นจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิล อีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
14. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน นั้นจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิล อีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
15. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน นั้นจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิล อีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
16. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อน นั้นจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิล อีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
17. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อยหนึ่ง ตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน และ ไดเมธิลพิเพอริโดน
18. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 6 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อยหนึ่ง ตัวทำละลายร่วมอื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน และไดเมธิล พิเพอริโดน
19. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อย หนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, และไดเมธิลพิเพอริโดน
20. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 16 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อย หนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, และไดเมธิลพิเพอริโดน
21. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน, แทรนส์-1,2-ไซโคลเฮกเซนไดแอมีนเททระแอซิติก แอซิด, ซัลฟอเลน และน้ำ
22. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน และน้ำ
23. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิลฃ แอมโนเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน และน้ำ
24. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน, เอธิลีนไกลคอล, เอธิลีนไดแอมีนเททระ (เมธิลีนฟอสฟอนิคแอซิด และน้ำ
25. กรรมวิธีสำหรับการทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรทที่มีอย่างน้อยหนึ่งของ ไดอิเล็กทริครูพรุน, ไดอิเล็กทริค K ต่ำ หรือ K สูง และการฉาบด้วยโลหะทองแดง ซึ่งกรรมวิธีนั้น ประกอบรวมด้วยการสัมผัสซับสเทรทนั้นกับสารผสมทำความสะอาดนานเวลาที่เพียงพอที่จะทำความ สะอาดซับสเทรทนั้น ซึ่งสารผสมทำความสะอาดประกอบรวมด้วย: จากประมาณ 0.05% ถึง 30% โดยน้ำหนัก ของเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออน ตรงข้ามที่มีประจุเป็นบวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิค หนึ่งสาร หรือมากกว่า จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 99.95% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการ กัดกร่อนหนึ่งสาร หรือมากกว่า ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนที่กล่าวแล้วนั้นมี อย่างน้อยสองตำแหน่งที่สามารถที่จะทำให้เกิดสารเชิงซ้อนกับโลหะ; จากประมาณ 0 ถึงประมาณ 99.45% โดยน้ำหนัก ของน้ำ หรือตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของ สเทอริคฮินเดอเรดแอมีน หรือแอลคานอแลมีน; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของกรดอินทรีย์ หรืออนินทรีย์; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบตัวยับยั้งการกัดกร่อนโลหะอื่น ๆ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารลดความตึงผิว; จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบซิลิเกตที่ปราศจากไอออนโลหะ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารช่วยการคีเลทโลหะ และ จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบฟลูออไรด์
26. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 24 ซึ่งเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมนั้นเป็นเททระ แอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือของสารนั้น
27. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งเททระแอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือเป็น สารประกอบที่มีสูตร: [(R)4N+]p[X]-q ซึ่งแต่ละ R อย่างเป็นอิสระเป็นหมู่ซับสทิทิวเทด หรืออันซับสทิทิวเทดแอลคิล และ X เป็น OH หรือ แอนไอออนเกลือ และ p และ q เท่ากัน และเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 3
28. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 26 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิลที่มี 1 ถึง 22 คาร์บอนอะตอม และ X เป็น OH หรือคาร์บอเนท
29. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิลที่มี 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม
30. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารประกอบตัวทำลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นเป็น สารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
31. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 26 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นเป็น สารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
32. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นเป็น สารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
33. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 28 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นเป็น สารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
34. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งสารประกอบตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นเป็น สารประกอบที่เลือกสูตร: W-(CR1R2)n1-X-[(CR1R2)n2-Y]z หรือ T-[(CR3R4)m-Z]y ซึ่งเลือกแต่ละ W และ Y อย่างเป็นอิสระจาก =O, -OR, -O-C(O)-R, -C(O)-, -C(O)-R, -S, -S(O)-R, -SR, -S-C(O)-R, -S(O)2-R, -S(O)2, -N, -NH-R, -NR1R2, -N-C(O)-R, -NR1-C(O)-R2, -P(O), -P(O)-OR และ -P(O)-(OR)2; เลือก X จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือไซโคลแอลคิลีน ที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอริลีน หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือกแต่ละ R,R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือไซโคล แอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และแอลริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; แต่ละ n1 และ n2 อย่างเป็นอิสระเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6 เมื่อ X เป็นแอลคิลีน, ไซโคลแอลคิลีน หรือแอริลีน และ z เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 5 เมื่อ X เป็นไซโคล แอลคิลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม หรือ แอริลีนที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; เลือก T จาก -O,-S,-N และ -P; เลือก Z จากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, OR5, -N(R5)2 และ -SR5; เลือกแต่ละ R3, R4 และ R5 อย่างเป็นอิสระจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจน, แอลคิล, ไซโคลแอลคิล หรือ ไซโคลแอลคิลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม และ แอริล หรือแอริลที่มีเฮเทอโรอะตอมหนึ่งอะตอม หรือมากกว่า ที่เลือกจาก O,S,N และ P อะตอม; m เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 6 และ y เป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 6
35. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งจากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบ ซิลิเกตที่ปราศจากไอออนโลหะ และจากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารช่วยการคีเลทโลหะ, หมู่แอลคิลนั้นมีจาก 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม และหมู่แอริลมีจาก 3 ถึง 14 คาร์บอนอะตอม
36. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์, มอนอ เอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2- เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
37. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 26 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์, มอนอ เอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2- เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
38. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์, มอนอ เอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2- เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
39. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 28 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์, มอนอเอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2-เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
40. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งเลือกตัวทำละลายที่ยับยั้งการกัดกร่อนนั้นจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, กลิเซรัล, ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์, มอนอ เอธานอแลมีน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, N,N-ไดเมธิลเอธานอแลมีน, 1-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน, 4-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)มอร์ฟอลีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล, 2-อะมิโน-2- เมธิล-1-โพรพานอล, 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซิ)-เอธานอล, N-(2-ไฮดรอกซิ เอธิล)แอซิแทมิด, N-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)ซัคซินิมิด และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
41. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน และไดเมธิลพิเพอริโดน
42. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์,ซัลฟอเลน และไดเมธิลพิเพอริโดน
43. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 35 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน และไดเมธิลพิเพอริโดน
44. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 40 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน และไดเมธิลพิเพอริโดน
45. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดประกอบรวมด้วย เททระเมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน, แทรนส์-1,2-ไซโคลเฮกเซนไดแอมีน เททระแอซีติกแอซิด, ซัลฟอเลน และน้ำ
46. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยเททระ เมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)-2-พิร์โรลิดิโนน และน้ำ
47. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน และน้ำ
48. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยเททระ เมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไทรเอธานอแลมีน, เอธิลีนไกลคอล, เอธิลีนไดแอมีนเททระ (เมธิลีนฟอสฟอนิคแอซิด และน้ำ)
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH65770A true TH65770A (th) | 2004-12-23 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2452885A1 (en) | Ammonia-free alkaline microelectronic cleaning compositions with improved substrate compatibility | |
| CA2452921A1 (en) | Microelectronic cleaning compositions containing ammonia-free fluoride salts | |
| KR100541300B1 (ko) | 개선된 수성 스트립핑 조성물 | |
| US7767636B2 (en) | Nanoelectronic and microelectronic cleaning compositions | |
| JP2005500408A5 (th) | ||
| US7393819B2 (en) | Ammonia-free alkaline microelectronic cleaning compositions with improved substrate compatibility | |
| KR20030046308A (ko) | 구리 구조물 함유 반도체 기판으로부터 잔류물을스트리핑하기 위한 제제로서, 1,3-디카르보닐 화합물킬레이트제 및 구리 부식 억제제를 포함하는 제제 | |
| CA2452884C (en) | Ammonia-free alkaline microelectronic cleaning compositions with improved substrate compatibility | |
| JP2004536181A5 (th) | ||
| ES2345616T3 (es) | Composiciones de limpieza no acuosas para microelectronica que contienen fructosa. | |
| KR20260019511A (ko) | 전자 제조 응용을 위한 n-치환 피페라진 함유 조성물 | |
| KR20130128952A (ko) | 플랫 패널 디스플레이용 레지스트 박리액 조성물 | |
| JP4501248B2 (ja) | レジスト剥離剤 | |
| TW202524227A (zh) | 用於電子應用的光阻劑剝離組成物 | |
| TH61688A (th) | สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็คโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง | |
| TH49478B (th) | สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็คโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง | |
| TW202611284A (zh) | 處理液及其使用方法 | |
| TW202414119A (zh) | Igzo基板用剝離液組合物、其製備方法及半導體裝置 | |
| TH52089B (th) | สารผสมทำความสะอาดนาโนอิเล็กโทรนิก และ ไมโครอิเล็กทรอนิก | |
| TH78156A (th) | สารผสมทำความสะอาดนาโนอิเล็กโทรนิก และ ไมโครอิเล็กทรอนิก | |
| TH61689A (th) | องค์ประกอบทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคที่มีเกลือฟลู?ออโรด์ที่ปราศจากแอมโมเนียสำหรับการลอกเอาโฟโทเร?ซิสท์ที่เลือกจำเพาะ และการทำความสะอาดเรซิดิวที่เป็นเถ้า?พลาสมา | |
| TH38565B (th) | องค์ประกอบทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคที่มีเกลือฟลู?ออโรด์ที่ปราศจากแอมโมเนียสำหรับการลอกเอาโฟโทเร?ซิสท์ที่เลือกจำเพาะ และการทำความสะอาดเรซิดิวที่เป็นเถ้า?พลาสมา |