TH64901B - กระบวนการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสงและองค์ประกอบโพลีเมอร์ที่มีสารประกอบนั้นเป็นองค์ประกอบ - Google Patents

กระบวนการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสงและองค์ประกอบโพลีเมอร์ที่มีสารประกอบนั้นเป็นองค์ประกอบ

Info

Publication number
TH64901B
TH64901B TH701001896A TH0701001896A TH64901B TH 64901 B TH64901 B TH 64901B TH 701001896 A TH701001896 A TH 701001896A TH 0701001896 A TH0701001896 A TH 0701001896A TH 64901 B TH64901 B TH 64901B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
compounds
polythyol
optical material
chemical formula
production
Prior art date
Application number
TH701001896A
Other languages
English (en)
Other versions
TH92675B (th
TH92675A (th
Inventor
โคบายาชิ นายเซย์อิชิ
คุมะ นายชิเกโทชิ
คาวากูชิ นายมาซารุ
Original Assignee
นางสาวปัณณพัฒน์ เหลืองธาตุทอง
นางสาวปัณณพัฒน์ เหลืองธาตุทอง นางสาวอภิญญา บัณฑิตวุฒิสกุล นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์
นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์
นางสาวอภิญญา บัณฑิตวุฒิสกุล
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปัณณพัฒน์ เหลืองธาตุทอง, นางสาวปัณณพัฒน์ เหลืองธาตุทอง นางสาวอภิญญา บัณฑิตวุฒิสกุล นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์, นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์, นางสาวอภิญญา บัณฑิตวุฒิสกุล filed Critical นางสาวปัณณพัฒน์ เหลืองธาตุทอง
Publication of TH92675B publication Critical patent/TH92675B/th
Publication of TH92675A publication Critical patent/TH92675A/th
Publication of TH64901B publication Critical patent/TH64901B/th

Links

Abstract

DC60 (20/07/60) กระบวนการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสง ที่ในการทำปฏิกิริยากัน ระหว่าง 2-เมอร์คัปโตเอธานอลและสารประกอบเอปิฮาโลไฮดรินผ่านการเกิดขึ้นของโพลีแอลกอฮอล์ นั้น ใน 2-เมอร์คัปโตเอธานอล มี บิส (2-ไฮดรอกซีเอธิล) ไดซัลไฟด์ อยู่ไม่เกิน 0.5% โดยน้ำหนัก

Claims (3)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :------06/10/2560------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 2 หน้า ข้อถือสิทธิ
1. กระบวนการสำหรับการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสง, ที่ประกอบ ด้วย : การทำปฏิกิริยา 2-เมอร์คัปโตเอธานอล กับ และสารประกอบเอปิฮาโลไอดรินที่แสดงด้วยโครง สร้าง (1) เพื่อให้ได้มาซึ่งโพลีแอลกอฮอล์ที่แสดงด้วยโครงสร้าง (2), การทำปฏิกิริยาโพลีแอลกอฮอล์กับไธโอยูเรียเพื่อให้ได้มาซึ่งเกลือไธโอโลเนียมและ การทำปฏิกิริยาไฮโดรไลซิสเกลือไธโอโลเนียมโดยใช้สารละลายแอมโมเนียเพื่อผลิตสาร ประกอบโพลีไธออล, โดยที่ส่วนประกอบของ บิส (2-ไฮดรอกซีเอธิล)ไดซัลไฟด์ ใน 2-เมอร์คัปโตเอธานอล เป็น 0.45% โดยน้ำหนัก หรือ น้อยกว่า : (สูตรเคมี)
2. กระบวนการสำหรับการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสงตามข้อถือสิทธิ ข้อที่ 1,โดยที่X ในโครงสร้าง (1) ดังกล่าวหมายถึงอะตอมของคลอรีน หน้า 2 ของจำนวน 2 หน้า
3. กระบวนการสำหรับการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสงตามข้อถือสิทธิ ข้อที่ 1 หรอ 2, ยังประกอบเพิ่มเติมด้วย : การทำให้บริสุทธิ์ของ 2-เมอร์คัปโตเอธานอล เพื่อลดส่วนประกอบของบิส (2-ไฮดรอกซีเอธิล) ไดซัลไฟด์ใน 2-เมอร์คัปโตเอธานอล เป็น 0.45% โดยน้ำหนัก หรือ น้อยกว่าก่อนขั้นตอนสำหรับการ ทำปฏิกิริยา 2-เมอร์คัปโตเอธานอล วับ และสารประกอบเอปิฮาโลไฮดริน ------------ 1 วิธีการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสง ที่ในวิธีการผลิต สารประกอบโพลีไธออลที่มีโครงสร้างตามที่แสดงด้วยโครงสร้าง 3 (โครงสร้าง 3) (สูตรเคมี) (X ในโครงสร้างหมายถึงอะตอมของฮาโลเจน) ที่ได้จากการทำปฏิกิริยากันระหว่าง 2-เมอร์คัปโตเอธานอลและสารประกอบเอปิฮาโลไฮดรินที่มี โครงสร้างตามที่แสดงด้วยโครงสร้าง 1 (โครงสร้าง 1) (สูตรเคมี) ผ่านการเกิดขึ้นของโพลีแอลกอฮอล์ที่มีโครงสร้างตามที่แสดงด้วยโครงสร้าง 2 (โครงสร้าง 2) (สูตรเคมี) ใน 2-เมอร์คัปโตเอธานอล มี บิส (2-ไฮดรอกซีเอธิล) ไดซัลไฟด์ อยู่ไม่เกิน 0.5% โดยน้ำหนัก 2 วิธีการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสงในข้อถือสิทธิ 1 ที่โพลี แอลกอฮอล์ที่มีโครงสร้างตามที่แสดงด้วยโครงสร้าง 2 นั้น เกิดปฏิกิริยาไฮโดรไลซิสผ่านเกลือไธโอโล เนียมโดยใช้ไธโอยูเรีย 3 วิธีการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสงในข้อถือสิทธิ 2 ที่ในการ เกิดปฏิกิริยาไฮโดรไลซิสของเกลือไธโอโลเนียมนั้น ใช้สารละลายแอมโมเนียด้วย 4 วิธีการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสงในข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่ง ในข้อถือสิทธิ 1~3 ที่ X ในโครงสร้าง 1 นั้น หมายถึงอะตอมของคลอรีน 5 สารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสง ที่ได้จากวิธีการผลิตในข้อถือสิทธิข้อใด ข้อหนึ่งในข้อถือสิทธิ 1~4 6 องค์ประกอบโพลีเมอร์ที่มีสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสง ในข้อถือ สิทธิ 5 และสารประกอบโพลีไอโซ (ไธโอ) ไซยาเนตเป็นองค์ประกอบ 7 เรซินที่ได้จากการนำองค์ประกอบโพลีเมอร์ในข้อถือสิทธิ 6 ไปทำให้แข็ง 8 วัสดุเชิงแสงที่ได้จากเรซินในข้อถือสิทธิ 7 9 เลนส์ที่ได้จากเรซินในข้อถือสิทธิ 7
TH701001896A 2007-04-19 กระบวนการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสงและองค์ประกอบโพลีเมอร์ที่มีสารประกอบนั้นเป็นองค์ประกอบ TH64901B (th)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH92675B TH92675B (th) 2008-12-19
TH92675A TH92675A (th) 2008-12-19
TH64901B true TH64901B (th) 2018-09-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
IN2014DN09746A (th)
TW200718677A (en) Metal-containing compound, method for producing the same, metal-containing thin film, and method for forming the same
WO2003010603A1 (en) Positive type radiosensitive composition and method for forming pattern
DE60224554D1 (de) Fluorsulfonylverbindungen und verfahren zur herstellung von davon abgeleiteten verbindungen
BR112014021938B1 (pt) Metodo para produzir composto epóxi contendo enxofre
WO2019189761A1 (ja) ポリチオール化合物の製造方法、硬化性組成物の製造方法、および硬化物の製造方法
ATE413408T1 (de) Herstellung von schwefelhaltigen organosiliconverbindungen durch ein verfahren mit einem gepufferten phasentransferkatalysator
JP2010105229A (ja) プラスチックレンズの製造方法
WO2008105138A1 (ja) ポリチオウレタン系光学材料用重合触媒、それを含む重合性組成物、それより得られる光学材料、およびその製造方法
BRPI0408824A (pt) composição de reticulação, processo para a produção da mesma, e, composição curável
ATE445657T1 (de) Verwendung einer substituierten guanidin- verbindung als härter für epoxidharze
MY168978A (en) Photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film, semiconductor element and electronic device
JP2004315556A (ja) 光学材料用組成物、光学材料及び眼鏡レンズ
WO2011105319A1 (ja) エピスルフィド化合物の製造方法
TH64901B (th) กระบวนการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสงและองค์ประกอบโพลีเมอร์ที่มีสารประกอบนั้นเป็นองค์ประกอบ
TH92675A (th) กระบวนการผลิตสารประกอบโพลีไธออลสำหรับใช้เป็นวัสดุเชิงแสงและองค์ประกอบโพลีเมอร์ที่มีสารประกอบนั้นเป็นองค์ประกอบ
JPWO2017159839A1 (ja) (ポリ)スルフィド化合物の製造方法およびエピスルフィド化合物の製造方法
JP4084957B2 (ja) 新規スルホニウム塩化合物及びその製造方法
CN111868025B (zh) 有机巯基化合物或其中间体的制造方法、(多)硫醇成分、光学材料用聚合性组合物、成型体、光学材料及透镜
JP6681007B2 (ja) 過酸化水素の安定化剤を含有するエポキシ化合物の製造方法
WO2021200783A9 (ja) アミデート化合物及びその製造方法、ブロック剤解離触媒並びに熱硬化性樹脂組成物
DE60103923D1 (de) Verfahren zur herstellung von razemischer thioctsäure
ATE517112T1 (de) Verfahren zur herstellung von mercaptoalkylalkoxysilanen
ATE418748T1 (de) Positive lichtempfindliche zusammensetzung und verfahren zur strukturformung damit
TW200712091A (en) Process for production of polymer compound