TH56882B

TH56882B - Stabilized alkaline mixtures for cleaning micro-electric substrates

Info

Publication number: TH56882B
Application number: TH101004171A
Authority: TH
Inventors: ซี. สกี นายเดวิด
Original assignee: อแวนเทอร์ เพอร์ฟอร์แมนซ์ แมทีเรียลส์ อิงค์
Filing date: 2001-10-12
Publication date: 2003-06-20

Abstract

การประดิษฐ์ให้สารผสมแอคเควียส แอลคาลินที่ใช้ประโยชน์ในอุตสาหกรรมไมโคร อิเล็คโทรนิคสำหรับสทริพพิง หรือทำความสะอาดเซมิคอนดัคเตอร์ เวเฟอร์ ซับสเทรทโดยกำจัด โฟโทรีซิสท์ตกค้าง และสารปนเปื้อนอื่นที่ไม่ต้องการ โดยทั่วไปสารผสมมี (a) เบสที่ปราศจาก ไอออนของโลหะหนึ่งชนิด หรือมากกว่าในปริมาณที่เพียงพอจะผลิตพีเอชจากประมาณ 10-13 และ สารทำให้เสถียรในอ่างหนึ่งชนิด หรือมากกว่าที่มี pKa อย่างน้อยหนึ่งค่าในช่วง 10-13 เพื่อรักษา พีเอชนี้ไว้ในระหว่างใช้; (b) ซิลิเคทที่ปราศจากไอออนของโลหะที่ละลายน้ำได้ประมาณ 0.01% ถึง ประมาณ 5% โดยน้ำหนัก (คำนวณเป็น % ของ SiO2) อย่างเลือกได้; (c) สารก่อคีเลทหนึ่งชนิด หรือ มากกว่าประมาณ 0.01% ถึงประมาณ 10% โดยน้ำหนักอย่างเลือกได้; (d) ตัวทำลายอินทรีย์ร่วมที่ ละลายน้ำได้หนึ่งชนิด หรือมากกว่าประมาณ 0.01% ถึงประมาณ 80% โดยน้ำหนักอย่างเลือกได้ และ (e) สารลดแรงตึงผิวที่ละลายน้ำได้ประมาณ 0.01% ถึงประมาณ 1% โดยน้ำหนักอย่างเลือกได้ The invention of the compound act Alkalins for use in the micro industry Electronic for Striping Or clean the semiconductor wafer substrate by removing Residual photoresist And other unwanted contaminants Mixtures generally contain (a) free bases. A metal ion A sufficient amount of pH is produced from approximately 10-13 and a stabilizer in one bath. Or more containing at least one pKa in the range 10-13 to maintain this pH during use; (b) Selective silicate of dissolved metal ions of approximately 0.01% to approximately 5% by weight (calculated as% of SiO2) selectively; (c) One or more chelating agents approximately 0.01% to approximately 10% by weight selectively; (d) Co-organic solvent Soluble in one kind Or greater, approx. 0.01% to approx. 80% by selectable weight, and (e) 0.01% to approx. 1% water-soluble surfactant by selectable weight.

Claims

1. Mixture Acquies Alkaline for Stripping Or cleaning the substrate of the circuit A sum containing (a) a non-ionic base of a metal. Or more in quantities sufficient to produce PH of mixtures from 11 or more (b) the amount of stabilization effective in a bath of stabilizers in a bath containing an acidic compound containing at least one pKa in Range 11 to 13 (c) water and (d) soluble metal ionic silicate from 0.01% to 5% by weight of the mixture.

2. Compound ingredients: