TH56301A - การขัดแผ่นกดชนิดเคลือบด้วยไทเทเนียมไดโบไรด์ - Google Patents

Abstract

DC60 (18/10/44) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับวิธีการสำหรับการเตรียมแผ่นกดลามิเนท จะปฏิบัติวิธีการนี้ในขั้น แรกด้วยการเคลือบพื้น ผิวกดที่เป็นระนาบด้วยไดโบไรด์ที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่ง ประกอบด้วย ฮาฟเนียมไดโบไรด์ โมลิบดีนัมไดโบไรด์ แทนทาลัมได โบไรด์ ไทเทเนียมไดโบไรด์ ทังสเตน ไดโบไรด์ วาเนเดียมไดโบ ไรด์ หรือเซอร์โคเนียมไดโบไรด์หรือของผสมของสารนั้น จากนั้นจะ ทำการ ขัดมันพื้นผิวกดที่เป็นระนาบซึ่งผ่านการเคลือบแล้วนี้ การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับวิธีการสำหรับการเตรียมแผ่นกดลามิเนท จะปฏิบัติวิธีการนี้ในขั้น แรกด้วยการเคลือบพื้น ผิวกดที่เป็นระนาบด้วยไดโบไรด์ที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่ง ประกอบด้วย ฮาฟเนียมไดโบไรด์ โมลิบดีนัมไดโบไรด์ แทนทาลัมได โบไรด์ ไทเทเนียมไดโบไรด์ ทังสเตน ไดโบไรด์ วาเนเดียมไดโบ ไรด์ หรือเซอร์โคเนียมไดโบไรด์หรือของผสมของสารนั้น จากนั้นจะ ทำการ ขัดมันพื้นผิวกดที่เป็นระนาบซึ่งผ่านการเคลือบแล้วนี้

Claims (27)

1. วิธีการสำหรับการเตรียมแผ่นกดลามิเนท ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนสุดท้ายต่อไปนี้ การเคลือบพื้นผิวกดที่เป็นระนาบด้วยไดโบไรด์ที่คัดเลือก จากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย ฮาฟเนียมไดโบไรด์ โมลิบดีนัมไดโบ ไรด์ แทนทาลัมไดโบไรด์ ไทเทเนียมไดโบไรด์ ทังสเตนไดโบไรด์ ทังสเตนไดโบโรว์ วาเนเดียมไดโบไรด์ หรือเซอร์โคเนียมไดโบไรด์หรือของผสมของ สารนั้น และ การขัดมันพื้นผิวกดที่เป็นระนาบซึ่งผ่านการเคลือบแล้วนี้

2. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งไดโบไรด์นี้ได้รับ การเคลือบในระบบการเคลือบแบบ แมกนีตรอนสปัตเตอร์ทางแนวระนาบ

3. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ที่ซึ่งเคลือบไดโบไรด์นี้ได้รับ การประยุกต์ให้มีความแข็งวิกเกอร์ อย่างน้อยที่สุดเท่ากับ 2000

4. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ที่ซึ่งจะปฏิบัติขั้นตอน การเคลือบนี้โดยการทำให้พื้นผิวกดที่เป็น ระนาบและหัวสปัต เตอร์ของระบบการเคลือบแบบแม็กนีตรอนสปัตเตอร์ทางแนวระนาบมี การ เคลื่อนที่สัมพันธ์ซึ่งกันและกัน ณ อัตราเร็วในการกวาด ที่มากเพียงพอที่จะทำให้มีแกรเดียนต์ของความ ร้อนในพื้นที่ ผิวกดที่เป็นระนาบนี้ที่อุณหภูมิ 10 องศาเซลเซียสหรือน้อย กว่านั้น

5. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งจะปฏิบัติขั้นตอน การขัดมันนี้โดยใช้แผ่นรองสำหรับการ ขัดมันซึ่งประกอบรวม ด้วยปิระมิดรูปทรงแน่นอนซึ่งมีแร่ระดับไมครอน

6. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ซึ่งแผ่นรองสำหรับการ ขัดมันนี้เป็นแผ่นรองสำหรับการขัดมัน ชนิด 35 ไมครอน

7. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ซึ่งแร่นี้คือ AIO2

8. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ซึ่งจะหมุนแผ่นรอง สำหรับการขัดมันอย่างน้อยที่สุดหนึ่งแผ่น ที่อัตราการหมุน ประมาณ 600 รอบต่อนาที

9. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ซึ่งจะขัดมันแผ่นนี้ที่ อัตราทางแนวตรงประมาณ 7.62 เซนติเมตร ต่อนาที

10. แผ่นกดลามิเนทที่ผลิตตามวิธีการซึ่งประกอบรวมด้วยขั้น ตอนต่อไปนี้ การเคลือบพื้นผิวกดที่เป็นระนาบด้วยไดโบไรด์ที่คัดเลือก จากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยฮาฟเนียม ไดโบไรด์ โมลิบดีนัมไดโบ ไรด์ แทนทาลัมไดโบไรด์ ไทเทเนียมไดโบไรด์ ทังสเตนไดโบไรด์ วาเนเดียมไดโบไรด์ หรือเซอร์โคเนียมไดโบไรด์หรือของผสมของ สารนั้น และ การขัดมันพื้นผิวกดที่เป็นระนาบซึ่งผ่านการเคลือบแล้วนี้

11. แผ่นกดลามิเนทตามข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่งไดโบไรด์ นี้ได้รับการเคลือบในระบบการเคลือบ แมกนีตรอนสปัตเตอร์ทาง แนวระนาบ

12. แผ่นกดลามิเนทตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ที่ซึ่งเคลือบไดโบไรด์ นี้ได้รับการประยุกต์ให้มี ความแข็งวิกเกอร์อย่างน้อยที่สุด เท่ากับ 2000

13. แผ่นกดลามิเนทตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ที่ซึ่งจะปฏิบัติ ขั้นตอนการเคลือบนี้โดยการทำให้พื้นผิว กดที่เป็นระนาบและ หัวสปัตเตอร์ของระบบการเคลือบแบบแม็กนีตรอนสปัตเตอร์ทางแนว ระนาบ มีการเคลื่อนที่สัมพันธ์ซึ่งกันและกัน ณ อัตราเร็วใน การกวาดที่มากเพียงพอที่จะทำให้มีแกรเดียนต์ของความ ร้อนใน พื้นที่ผิวกดที่เป็นระนาบนี้ที่อุณหภูมิ 10 องศาเซลเซียส หรือน้อยกว่านั้น

14. แผ่นกดลามิเนทตามข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่งจะปฏิบัติ ขั้นตอนการขัดมันนี้โดยใช้แผ่นรอง สำหรับการขัดมันซึ่ง ประกอบรวมด้วยปิระมิดรูปทรงแน่นอนซึ่งมีแร่ระดับไมครอน

15. แผ่นกดลามิเนทตามข้อถือสิทธิข้อ 14 ที่ซึ่งแผ่นรอง สำหรับการขัดมันนี้เป็นแผ่นรองสำหรับ การขัดมันชนิด 35 ไมครอน

16. แผ่นกดลามิเนทตามข้อถือสิทธิข้อ 14 ที่ซึ่งแร่นี้คือ AIO2

17. แผ่นกดลามิเนทตามข้อถือสิทธิข้อ 14 ที่ซึ่งจะหมุนแผ่น รองสำหรับการขัดมันอย่างน้อยที่สุด หนึ่งแผ่นที่อัตราการ หมุนประมาณ 600 รอบต่อนาที

18. แผ่นกดลามิเนทตามข้อถือสิทธิข้อ 14 ที่ซึ่งจะขัดมัน แผ่นนี้ที่อัตราทางแนวตรงประมาณ 7.62 เซนติเมตรต่อนาที

19. ลามิเนทตกแต่งที่ผลิตตามกรรมวิธีการซึ่งประกอบรวมด้วย ขั้นตอนต่อไปนี้ การจัดซ้อนแผ่นบางของกระดาษที่ชุมอิ่มตัวด้วยเรซิน สังเคราะห์จำนวนหนึ่ง การวางแผ่นของบางกระดาษที่ชุ่มอิ่มตัวด้วยเรซินนี้ระหว่าง แผ่นกดลามิเนทเพื่อที่จะผลิต ชั้นซ้อนของลามิเนท ที่ซึ่ง แผ่นกดลามิเนทนี้ได้รับการผลิตตามวิธีการซึ่งประกอบรวมด้วย ขั้นตอน การเคลือบพื้นผิวกดที่เป็นระนาบด้วยไดโบไรด์ที่คัด เลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยฮาฟเนียม ไดโบไรด์ โมลิบ ดีนัทมไดโบไรด์ แทนทาลัมไดโบไรด์ ไทเทเนียมไดโบไรด์ ทังสเ ตนไดโบไรด์ วาเนเดียมไดโบไรด์ หรือเซอร์โคเนียมไดโบไรด์ หรือของผสมของสารนั้น และ การขัดมันพื้นผิวกดที่ เป็นระนาบซึ่งผ่านการเคลือบแล้วนี้ และ การให้ความร้อนชั้นซ้อนของลามิเนทนี้จนถึงอุณหภูมิที่มาก เพียงพอเป็นเวลาหนึ่งเพื่อรวม ลามิเนทนี้เข้าด้วยกันและ บ่มเรซินนี้

20. ลามิเนทตกแต่งตามข้อถือสิทธิข้อ 19 ที่ซึ่งไดโบไรด์ นี้ได้รับการเคลือบในระบบการเคลือบ แมกนีตรอนสปัตเตอร์ทาง แนวระนาบ

21. ลามิเนทตกแต่งตามข้อถือสิทธิข้อ 20 ที่ซึ่งเคลือบไดโบไรด์ นี้ได้รับการประยุกต์ให้มี ความแข็งวิกเกอร์อย่างน้อยที่สุด เท่ากับ 2000

22. ลามิเนทตกแต่งตามข้อถือสิทธิข้อ 20 ที่ซึ่งจะปฏิบัติ ขั้นตอนการเคลือบนี้โดยการทำให้พื้นผิว กดที่เป็นระนาบและ หัวสปัตเตอร์ของระบบการเคลือบแบบแม็กนีตรอนสปัตเตอร์ทางแนว ระนาบ เคลื่อนที่สัมพันธ์ซึ่งกันและกัน ณ อัตราเร็วใน การกวาดที่มากเพียงพอที่จะทำให้มีแกรเดียนต์ของความ ร้อนใน พื้นที่ผิวกดที่เป็นระนาบนี้ที่อุณหภูมิ 10 องศาเซลเซียส หรือน้อยกว่านั้น

23. ลามิเนทตกแต่งตามข้อถือสิทธิข้อ 20 ที่ซึ่งจะปฏิบัติ ขั้นตอนการขัดมันนี้โดยใช้แผ่นรอง สำหรับการขัดมันซึ่ง ประกอบรวมด้วยปิระมิดรูปทรงแน่นอนซึ่งมีแร่ระดับไมครอน

24. ลามิเนทตกแต่งตามข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่งแผ่นรอง สำหรับการขัดมันนี้เป็นแผ่นรองสำหรับ การขัดมันชนิด 35 ไมครอน

25. ลามิเนทตกแต่งตามข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่งแร่นี้คือ AIO2

26. ลามิเนทตกแต่งตามข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่งจะหมุนแผ่น รองสำหรับการขัดมันอย่างน้อยที่สุด หนึ่งแผ่นที่อัตราการ หมุนประมาณ 600 รอบต่อนาที

27. ลามิเนทตกแต่งตามข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่งจะขัดมัน แผ่นนี้ที่อัตราทางแนวตรงประมาณ 7.62 เซนติเมตรต่อนาที