TH50367A - บาธและกระบวนการสำหรับการชุบดีบุกแบบนอน-กัลวานิกของทองแดงและโลหะผสมทองแดง - Google Patents
บาธและกระบวนการสำหรับการชุบดีบุกแบบนอน-กัลวานิกของทองแดงและโลหะผสมทองแดงInfo
- Publication number
- TH50367A TH50367A TH1004327A TH0001004327A TH50367A TH 50367 A TH50367 A TH 50367A TH 1004327 A TH1004327 A TH 1004327A TH 0001004327 A TH0001004327 A TH 0001004327A TH 50367 A TH50367 A TH 50367A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- bath
- tin
- copper
- base layer
- thiourea
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (31/01/44) การประดิษฐ์นี้บรรยายถึงกระบวนการสำหรับการชุบดีบุกแบบนอน-กัลวานิกของทองแดง และโลหะผสมทองแดงโดยการตกตะกอนของดีบุกจากกรดมีเธนซัลโฟนิกและอิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีดีบุก ซึ่งกระบวนการนี้จะมีตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อน เพื่อจะบรรยายถึงกระบวนการที่จะก่อให้เกิด ชั้นดีบุกที่ทนทานและสามารถบัดกรีได้ ซึ่งชั้นดีบุกนี้จะขัดขวางการปล่อยเป็นอิสระของวัสดุฐานใน เวลาเดียวกัน การประดิษฐ์นี้ได้เสนอแนะให้อิเล็กโทรไลต์มีโลหะปะปนเติมลงไปอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดเพื่อก่อเกิดตัวขวางกั้นการแพร่ในชั้นดีบุกนี้ การประดิษฐ์นี้บรรยายถึงกระบวนการสำหรับการชุบดีบุกแบบนอน-กัลวานิกของทองแดง และโลหะผสมทองแดงโดยการตกตะกอนของดีบุกจากกรดมีเธนซัลโฟนิกและอิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีดีบุก ซึ่งกระบวนการนี้จะมีตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อน เพื่อจะบรรยายถึงกระบวนการที่จะก่อให้เกิด ชั้นดีบุกที่ทนทานและสามารถบัดกรีได้ ซึ่งชั้นดีบุกนี้จะขัดขวางการปล่อยเป็นอิสระของวัสดุฐานใน เวลาเดียวกัน การประดิษฐ์นี้ได้เสนอแนะให้อิเล็กโทรไลต์มีโลหะปะปนเติมลงไปอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดเพื่อก่อเกิดตัวขวางกั้นการแพร่ในชั้นดีบุกนี้
Claims (9)
1. บาธ (bath) สำหรับการชุบแบบนอน-กัลวานิกของชั้นดีบุกไปบนชั้นฐานที่เป็นทองแดง หรือโลหะผสมทองแดง, บาธประกอบรวมด้วย; อิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีดีบุก; กรด; ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อน; โลหะปะปนซึ่งระงับการแพร่กระจายของวัสดุชั้นฐานผ่านชั้นดีบุก; และ สารต้านการเกิดออกซิเดชั่น
2. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 โดยที่ความเข้มข้นของดีบุกในบาธเท่ากับ 1 ถึง 30 กรัม/ลิตร
3. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 โดยที่อิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีดีบุกประกอบรวมด้วยเกลือของดีบุก ชนิดวาเลนซีสอง
4. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 โดยที่เกลือของดีบุกชนิดวาเลนซีสองประกอบรวมด้วยดีบุก มีเธนซัลโฟเนท
5. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 โดยบาธที่มีพีเอชเท่ากับ 0 ถึง 3
6. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 โดยที่กรดประกอบรวมด้วยกรดมีเธนซัลโฟนิก
7. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 6 โดยที่ความเข้มข้นของกรดมีเธนซัลโฟนิกในบาธเท่ากับ 5 ถึง 200 กรัม/ลิตร
8. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 โดยที่ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อนประกอบรวมด้วยไธโอยูเรีย หรืออนุพันธ์ของไธโอยูเรีย
9. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 8 โดยที่ความเข้มข้นของไธโอยูเรียหรืออนุพันธ์ของไธโอยูเรีย เท่ากับ 10-200 กรัม/ลิตร 1
0. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ซึ่งประกอบเพิ่มเติมรวมด้วยตัวกระทำให้เปียก 1
1. บาธ ของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 โดยที่ความเข้มข้นของตัวกระทำให้เปียกในบาธเท่ากับ 1 ถึง 10 กรัม/ลิตร 1
2. บาธสำหรับการชุบแบบนอน-กัลวานิกของชั้นดีบุกไปบนชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือ โลหะผสมทองแดง, บาธประกอบรวมด้วย; อีเล็กโทรไลต์ซึ่งมีดีบุกโดยที่ความเข้มข้นของดีบุกในบาธเท่ากับ 1 ถึง 30 กรัม/ลิตร; กรด; ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อน; และ โลหะปะปนซึ่งระงบการแพร่กระจายของวัสดุชั้นฐานผ่านชั้นดีบุกโดยที่โลหะปะปนคือ อินเดียมในความเข้มข้นของ 1 ถึง 500 มิลลิกรัม/ลิตร 1
3. บาธสำหรับการชุบแบบนอน-กัลวานิกของชั้นดีบุกที่มีเสถียรภาพสำหรับการแพร่ ไปบนชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดง, บาธประกอบโดยพื้นฐานด้วยไธโอยูเรีย, กรดมีเธนซัลโฟนิก, ดีบุกมีเธนซัลโฟเนท, ตัวกระทำให้เปียกและบิสมัท 1
4. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 13 โดยที่ความเข้มข้น, ในบาธ,ของไธโอยูเรียเท่ากับ 100 กรัม/ ลิตร, ของกรดมีเธนซัลโฟนิลเท่ากับ 100 กรัม/ลิตร, ของดีบุกเท่ากับ 5 กรัม/ลิตร, ของตัวกระทำให้ เปียกเท่ากับ 5 กรัม/ลิตร และของบิสมัทเท่ากับ 30 มิลลิกรัม/ลิตร 1
5. บาธสำหรับการชุบแบบนอน-กัลวานิกของชั้นดีบุกที่มีเสถียรภาพสำหรับการแพร่ ไปบนชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดง, บาธประกอบโดยพื้นฐานด้วยโอยูเรีย, กรดมีเธนซัลโฟนิก, ดีบุกมีเธนซัลโฟเนท, ตัวกระทำให้เปียก, สารต้านการเกิดออกซิเตชั่น และ ไททาเนียม 1
6. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 15 โดยที่ความเข้มข้น, ในบาธ, ของไธโอยูเรียเท่ากับ 100 กรัม/ ลิตร, ของกรดมีเธนซัลโฟนิกเท่ากับ 100 กรัม/ลิตร, ของดีบุกเท่ากับ 15 กรัม/ลิตร,ของตัวกระทำให้ เปียกเท่ากับ 3 กรัม/ลิตร, ของสารต้านการเกิดออกซิเดชั่นเท่ากับ 5 กรัม/ลิตร และของไททาเนียม เท่ากับ 5 มิลลิกรัม/ลิตร 1
7. บาธสำหรับการชุบแบบนอน-กัลวานิกของชั้นดีบุกที่มีเสถียรภาพสำหรับการแพร่ ไปบนชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดง, บาธประกอบโดยพื้นฐานด้วยไธโอยูเรีย, กรดมีเธนซัลโฟนิก, ดีบุกมีเธนซัลโฟเนท, ตัวกระทำให้เปียก, สารต้านการเกิดออกซิเดชั่น และ อินเดียม 1
8. บาธของข้อถือสิทธิข้อที่ 17 โดยที่ความเข้มข้น, ในบาธ, ของไธโอยูเรียเท่ากับ 120 กรัม/ ลิตร, ของกรดมีเธนซัลโฟนิกเท่ากับ 140 กรัม/ลิตร, ของดีบุกเท่ากับ 15 กรัม/ลิตร, ของตัวกระทำให้ เปียกเท่ากับ 5 กรัม/ลิตร, ของสารต้านการเกิดออกซิเดชั่นเท่ากับ 5 กรัม/ลิตร และของอินเดียมเท่ากับ 50 มิลลิกรัม/ลิตร 1
9. กระบวนการสำหรับการชุบชั้นดีบุกไปบนชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดง, กระบวนการประกอบรวมด้วย; การสัมผัสชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดงกับบาธ ซึ่งประกอบรวมด้วย อิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีดีบุก,กรด,ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อน และโลหะปะปนซึ่งระงับการแพร่ กระจายของวัสดุชั้นฐานผ่านชั้นดีบุกโดยที่ความเข้มข้นของดีบุกในบาธอยู่ในช่วงของ 1 ถึง 30 กรัม/ ลิตรและความเข้มข้นของโลหะปะปนในบาธอยู่ในช่วงของ 1 ถึง 500มิลลิกรัม/ลิตร และ การตกตะกอนดีบุกและโลหะปะปนแบบนอน-กัลวานิกจากบาธไปบนชั้นฐานดังนั้นจึงก่อรูป ชั้นโลหะดีบุกบนชั้นฐานที่มีตัวขวางกั้นการแพร่ของโลหะปะปนในที่นั้น 2
0. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่อิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีดีบุกประกอบรวมด้วยเกลือ ของดีบุกชนิดวาเลนซีสอง 2
1. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 20 โดยที่เกลือของดีบุกชนิดวาเลนซีสองประกอบ รวมด้วยดีบุกมีเธนซัลโฟเนท 2
2. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 21 โดยที่บาธมีพิเอชเท่ากับ 0 ถึง 3 2
3. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 22 โดยที่กรดประกอบรวมด้วยกรดมีเธนซัลโฟนิก 2
4. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 23 โดยที่ความเข้มข้นของกรดมีเธนซัลโฟนิกในบาธ เท่ากับ 5 ถึง 200 กรัม/ลิตร 2
5. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 24 โดยที่ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อนประกอบ รวมด้วยไธโอยูเรียหรืออนุพันธ์ของไธโอยู่เรียและความเข้มข้นของตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อน ในบาธเท่ากับ 10-200กรัม/ลิตร 2
6. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่โลหะปะปนถูกเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย เงิน, บิสมัท, นิกเกิล, ไททาเนียม, เซอร์โคเนียม, อินเดียม และของผสมของสิ่งนั้น 2
7. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่บาธยังประกอบรวมด้วยต่อไปด้วยตัวกระทำ ให้เปียกและความเข้มข้นของตัวกระทำให้เปียกในบาธเท่ากับ 1 ถึง 10 กรัม/ลิตร 2
8. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่บาธยังประกอบรวมด้วยต่อไปด้วยตัวกระทำ ให้เปียก 2
9. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่โลหะปะปนคืออินเดียม 3
0. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่โลหะปะปนคืออินเดียมและบาธยังประกอบ รวมด้วยต่อไปด้วยตัวกระทำให้เปียก 3
1. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่โลหะปะปนคืออินเดียมและบาธยังประกอบ รวมด้วยต่อไปด้วยสารต้านการเกิดออกซิเดชั่น 3
2. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่โลหะปะปนคืออินเดียมและบาธยังประกอบ รวมด้วยต่อไปด้านสารต้านการเกิดออกซิเดชั่นและตัวกระทำให้เปียก 3
3. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่โลหะปะปนคือบิสมัท 3
4. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่โลหะปะปนคือบิสมัทและบาธยังประกอบ รวมด้วยต่อไปด้วยตัวกระทำให้เปียก 3
5. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่โลหะปะปนคือบิสมัทและบาธยังประกอบ รวมด้วยต่อไปด้วยสารต้านการเกิดออกซิเดชั่น 3
6. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 19 โดยที่โลหะปะปนคือบิสมัทและบาธยังประกอบ รวมด้วยต่อไปด้วยสารต้านการเกิดออกซิเดชั่นและตัวกระทำให้เปียก 3
7. กระบวนการสำหรับการชุบชั้นดีบุกไปบนชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดง, กระบวนการประกอบรวมด้วย; การสัมผัสชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือ โลหะผสมทองแดงกับบาธที่พีเอชเท่ากับ 0 ถึง 3 ซึ่ง ประกอบรวมด้วยดีบุกมีเธนซัลโฟเนท, กรดมีเธนซัลโฟนิก, ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อนของ ไธโอยูเรียหรืออนุพันธ์ของไธโอยูเรียในความเข้มข้นในบาธระหว่าง 10 และ 200 กรัม/ลิตร , ตัว กระทำให้เปียกในความเข้มข้นในบาธระหว่าง 1 และ 10 กรัม/ลิตร สารต้านการเกิดออกซิเดชั่น และ โลหะปะปนที่เลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยเงิน, บิสมัท,นิกเกิล,ไททาเนียม,เซอร์โคเนียม,อินเดียม และของผสมของสิ่งนั้น; และ การตกตะกอนดีบุกและโลหะปะปนแบบนอน-กัลวานิกจากบาธไปบนชั้นฐาน 3
8. กระบวนการสำหรับการชุบชั้นดีบุกไปบนชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดง, กระบวนการประกอบรวมด้วย; การสัมผัสชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดงกับบาธซึ่งประกอบรวมด้วย อิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีดีบุก, กรด, ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อน, สารต้านการเกิดออกซิเดชั่น และโลหะ ปะปนซึ่งระงัลการแพร่กระจายของวัสดุชั้นฐานผ่านชั้นดีบุก; และ การตกตะกอนดีบุกและโลหะปะปนแบบนอน-กัลวานิกจากบาธไปบนชั้นฐาน 3
9. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 38 โดยที่อิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีดีบุกประกอบรวมด้วย เกลือของดีบุกชนิดความเลนซีสอง 4
0. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 39 โดยที่เกลือของดีบุกชนิดวาเลนซีสองประกอบ รวมด้วยดีบุกมีเธนซัลโฟเนท 4
1. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 38 โดยที่บาธมีพีเอชเท่ากับ 0 ถึง 3 4
2. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 38 โดยที่ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อนประกอบ รวมด้วย ไธโอยูเรียหรืออนุพันธ์ของไธโอยูเรียและความเข้มข้นของตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อน ในบาธเท่ากับ 10-200 กรัม/ลิตร 4
3. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 38 โดยที่โลหะปะปนถูกเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย เงิน, บิสมัท, นิกเกิล, ไททาเนียม, เซอร์โคเนียม, อินเดียม และของผสมของสิ่งนั้น 4
4. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 38 โดยที่บาธยังประกอบรวมด้วยต่อไปด้วยตัวกระทำ ให้เปียก 4
5. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 38 โดยที่โลหะปะปนคืออินเดียม 4
6. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 38 โดยที่โลหะปะปนคือบิสมัท 4
7. กระบวนการสำหรับการชุบชั้นดีบุกไปบนชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดง, กระบวนการประกอบรวมด้วย; การสัมผัสชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดงกับบาธ ซึ่งประกอบโดยพื้นฐานด้วย ไธโอยูเรีย, กรดมีเธนซัลโฟนิก, ดีบุกมีเธนซับโฟเนท,ตัวกระทำให้เปียก, สารต้านการเกิดออกซิเดชั่น และไททาเนียม; และ การตกตะกอนดีบุกและไททาเนียมแบบนอน-กัลวานิกจากบาธไปบนชั้นฐานที่ซึ่งการแพร่ กระจายของไททาเนียมของวัสดุชั้นฐานจะผ่านชั้นดีบุก 4
8. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 47 โดยที่ความเข้มข้น,ในบาธ,ของไธโอยูเรียเท่ากับ 100 กรัม/ลิตร, ของกรดมีเธนซัลโฟนิกเท่ากับ 100 กรัม/ลิตร, ของดีบุกเท่ากับ 15 กรัม/ลิตร , ของ ตัวกระทำให้เปียกเท่ากับ 3 กรัม/ลิตร, ของสารต้านการเกิดออกซิเดชั่นเท่ากับ 5 กรัม/ลิตร และของ ไททาเนียมเท่ากับ 5 มิลลิกรัม/ลิตร 4
9. กระบวนการสำหรับการชุบชั้นดีบุกไปบนชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดง, กระบวนการประกอบรวมด้วย; การสัมผัสชั้นฐานที่เป็นทองแดงหรือโลหะผสมทองแดงกับบาธ ซึ่งประกอบโดยพื้นฐานด้วย ไธโอยูเรีย, กรดมีเธนซัลโฟนิก, ดีบุกมีเธนซัลโฟเนท, ตัวกระทำให้เปียก, สารต้านการเกิดออกซิเดชั่น และอินเดียม; และ การตกตะกอนดีบุกและไททาเนียมแบบนอน-กัลวานิกจากบาธไปบนชั้นฐานที่ซึ่งการแพร่ กระจายของไททาเนียมของวัสดุจากวัสดุชั้นฐานจะผ่านชั้นดีบุก 5
0. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 49 โดยที่ความเข้มข้น, ในบาธ, ของไธโอยูเรียเท่ากับ 120 กรัม/ลิตร , ของกรดมีเธนซัลโฟนิกเท่ากับ 140 กรัม/ลิตร, ของดีบุกเท่ากับ 15 กรัม/ลิตร, ของ ตัวกระทำให้เปียกเท่ากับ 5 กรัม/ลิตร, ของสารต้านการเกิดออกซิเดชั่นเท่ากับ 5 กรัม/ลิตร และของ อินเดียมเท่ากับ 50 มิลลิกรัม/ลิตร
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH50367A true TH50367A (th) | 2002-04-01 |
| TH21246B TH21246B (th) | 2007-01-18 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Goh et al. | Effects of hydroquinone and gelatin on the electrodeposition of Sn–Bi low temperature Pb-free solder | |
| JP6370380B2 (ja) | 銀−パラジウム合金の電着のための電解質、及びその析出方法 | |
| CA2023871C (en) | Electrodeposition of palladium films | |
| DE2445538C2 (de) | Cyanidfreies Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Edelmetall - Legierungen | |
| ES2791197T3 (es) | Baño de galvanoplastia para la deposición electroquímica de una aleación de Cu-Sn-Zn-Pd, procedimiento para la deposición electroquímica de dicha aleación, sustrato que comprende dicha aleación y usos del sustrato | |
| EP3159435B1 (de) | Zusatz für silber-palladium-legierungselektrolyte | |
| CA1291440C (en) | Palladium and palladium alloy plating | |
| AU2004239226A1 (en) | High purity electrolytic sulfonic acid solutions | |
| CN101260549B (zh) | 一种无预镀型无氰镀银电镀液 | |
| ES2220757T3 (es) | Baño electrolitico destinado para el deposito electroquimico del paladio o de sus aleaciones. | |
| US6821323B1 (en) | Process for the non-galvanic tin plating of copper or copper alloys | |
| DE19928047A1 (de) | Schadstoffarme bis schadstoffreie wäßrige Systeme zur galvanischen Abscheidung von Edelmetallen und Edelmetall-Legierungen | |
| JP2003530486A5 (th) | ||
| Rajamani et al. | Electrodeposition of tin-bismuth alloys: Additives, morphologies and compositions | |
| DE60111727T2 (de) | Komplexes palladiumsalz und seine verwendung zur anpassung der palladiumkonzentration in elektrolytischen bädern bestimmt für die abscheidung von palladium oder einer seiner legierungen | |
| Kondo et al. | Bright tin-silver alloy electrodeposition from an organic sulfonate bath containing pyrophosphate, iodide & triethanolamine as chelating agents | |
| JPS609116B2 (ja) | パラジウム及びパラジウム合金の電着方法 | |
| TH50367A (th) | บาธและกระบวนการสำหรับการชุบดีบุกแบบนอน-กัลวานิกของทองแดงและโลหะผสมทองแดง | |
| TH21246B (th) | บาธและกระบวนการสำหรับการชุบดีบุกแบบนอน-กัลวานิกของทองแดงและโลหะผสมทองแดง | |
| EP3443146B1 (en) | Noble metal salt preparation, a method for production thereof and use for electroplating | |
| Tsai et al. | Composition control of Sn–Bi deposits: interactive effects of citric acid, ethylenediaminetetraacetic acid, and poly (ethylene glycol) | |
| EP1230034B1 (en) | Process for the non-galvanic tin plating of copper or copper alloys | |
| EP3580364A1 (en) | Yellow/rose inox bronze and its use in galvanized products | |
| US4274926A (en) | Process for the electrolytic deposition of silver and silver alloy coatings and compositions therefore | |
| JP3645955B2 (ja) | 錫−銀合金酸性めっき浴 |