TH46180A - กระบวนการสำหรับการผลิตพอลิเมอร์ชนิดปราศจากเจลแบบต่อเนื่องและการใช้งานเป็นสารเคลือบผิวในรูปผง และของเหลวที่มีพอลิเมอร์ชนิดปราศจากเจล - Google Patents

Abstract

DC60 (06/10/43) ได้มีการเปิดเผยกระบวนการสำหรับกระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบ ต่อเนื่อง สำหรับการเตรียมผลิตภัณฑ์ พอลิเมอร์ชนิดปราศจากเจล กระบวนการนี้ประกอบด้วยการ บรรจุเข้าใน เครื่องปฏิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยมอนอเมอร์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด เพื่อให้เครื่อง ปฏิกรณ์ได้รับการบรรจุถึง 100 เปอร์เซ็นต์ของปริมาตรใช้งานของเครื่อง คงเครื่องปฏิกรณ์ นี้ไว้ที่ อุณหภูมิซึ่งมีประสิทธิภาพในช่วงเวลาที่มี ประสิทธิภาพเพื่อทำให้เกิดการสังเคราะห์พอลิเมอร์ของ มอนอเ มอร์ให้เป็นผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์ เพื่อก่อรูปผลิตภัณฑ์พอลิเ มอร์นี้ขึ้นโดยปราศจากอนุภาคเจล อย่างเป็นสำคัญ ได้มีการเปิดเผยกระบวนการสำหรับกระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบ ต่อเนื่อง สำหรับการเตรียมผลิตภัณฑ์ พอลิเมอร์ชนิดปราศจากเจล กระบวนการนี้ประกอบด้วยการ บรรจุเข้าใน เครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยมอนอเมอร์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด เพื่อให้เครื่อง ปฎิกรณ์ได้รับการบรรจุถึง 100 เปอร์เซ็นต์ของปริมาตรใช้งานของเครื่อง คงเครื่องปฎิกรณ์ นี้ไว้ที่ อุณหภูมิซึ่งมีประสิทธิภาพในช่วงเวลาที่มี ประสิทธิภาพเพื่อทำให้เกิดการสังเคราะห์พอลิเมอร์ของ มอนอเ มอร์ให้เป็นผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์ เพื่อก่อรูปผลิตภัณฑ์พอลิเ มอร์นี้ขึ้นโดยปราศจากอนุภาคเจล อย่างเป็นสำคัญ

Claims (41)

1. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อเนื่องสำหรับการเตรียมผลิตภัณฑ์ พอลิเมอร์ที่ได้รับการ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ ซึ่งประกอบด้วย (a) การบรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยมอ นอเมอร์ (หลายตัว) หนึ่งชนิด หรือมากกว่า เพื่อให้ เครื่องปฎิกรณ์ได้รับการบรรจุถึง 100 เปอร์เซ็นต์ของ ปริมาตร ใช้งานของเครื่อง (b) การสังเคราะห์พอลิเมอร์ของมอนอเมอร์ (หลายตัว) เพื่อผลิต ผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์ ที่ซึ่งเครื่องปฎิกรณ์ได้รับการบรรจุถึง 100 เปอร์เซ็นต์ของปริมาตรใช้งานของเครื่อง ในระหว่างการ สังเคราะห์พอลิเมอร์ของมอนอเมอร์ (หลายตัว) เพื่อให้ผลิต ภัณฑ์ พอลิเมอร์ได้รับการก่อนรูปขึ้นโดยปราศจากอนุภาคเจล อย่างเป็นสำคัญ

2 . กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง ผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์ คือ พอลิเมอร์ชนิดเติม

3. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอุณหภูมิ ภายในเครื่องปฎิ กรณ์เป็นตั้งแต่ประมาณ 160 ํซ ถึงประมาณ 270 ํซ และเวลาในการคง อยู่ของมอนอเมอร์ภายใน เครื่องปฎิกรณ์น้อยกว่า 60 นาที

4. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง (a) ประกอบต่อไปด้วยการ บรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยสาร ประกอบเพิ่มเติม หนึ่งชนิด หรือมากกว่า ซึ่งคัดเลือกได้จาก กลุ่มที่ประกอบด้วยตัวทำละลาย ตัวริเริ่มการ สังเคราะห์พอ ลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ และสารประกอบรวมของสารเหล่านี้

5. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 4 ที่ซึ่ง (a) ประกอบต่อไปด้วยการ บรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยตัวทำละลาย หนึ่งชนิด หรือมากกว่า ในปริมาณจนถึง 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำ หนักของน้ำหนักทั้งหมดของมอนอเมอร์

6. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 4 ที่ซึ่งตัวริเริ่ม การสังเคราะห์ พอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ คือ ได-t-อะมิสเพอร์ออกไซด์

7. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง กระบวนการประกอบต่อไปด้วย การคงความดันคงที่ภายในเครื่องปฎิกรณ์ไว้เหนือความดัน บรรยากาศ

8. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ซึ่ง คงความดันซึ่งคงที่ภายใน เครื่องปฎิกรณ์โดยการเติมแก๊สซึ่งเฉื่อยต่อปฎิกิริยา

9. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง (a) ประกอบต่อไปด้วยการ บรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยอะคริลิกมอนอเ มอร์ ชนิดหมู่เชิงหน้าที่อีพอกซีอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

10. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่ง อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิด หมู่เชิงหน้าที่อีพอกซี คือ ไกลซิดิลเมธาคริเลท

11. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ประกอบต่อไปด้วย มอนอเมอร์ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วย อนุมูล อิสระเพิ่มเติมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

12. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 11 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ประกอบต่อไป ด้วยมอนอเมอร์ (หลายตัว) ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเ มอร์ ด้วยอนุมูลอิสระเพิ่มเติม ได้รับการคัดเลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบด้วยเมธาคริเลทมอนอเมอร์ ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ อะคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ สไทรีนิกมอนอเ มอร์ชนิด ไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ และสารประกอบรวมของมอนอเมอร์ เหล่านี้

13. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่ เชิงหน้าที่ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูล อิสระ ประกอบต่อไปด้วยเมธาคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิง หน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด และอะคริเลทมอนอเมอร์ชนิด ไม่มีหมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

14. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่ เชิงหน้าที่ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูล อิสระ ประกอบต่อไปด้วยเมธาคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิง หน้าที่ซึ่งแตกต่างกันอย่างน้อย ที่สุดสองชนิด และอะคริเลท มอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิด

15. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่ เชิงหน้าที่ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิ สระ ประกอบต่อไปด้วยเมธาคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิง หน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด และ สไทรีนิกมอนอเมอร์ชนิด ไม่มีหมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

16. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิแบบต่อเนื่อง ในข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่ง โดยสาระสำคัญแล้ว มอนอเมอร์ ประกอบด้วยอะคริลิกมอนอเมอร์ ชนิดหมู่เชิงหน้าที่อีพอกซี (หลายตัว) และสไทรีนิกมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ (หลายตัว)

17. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่ง (a) ประกอบต่อไปด้วยการ บรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยมอนอเมอร์ ซึ่งโดย สาระสำคัญแล้วประกอบด้วย (i) อะคริมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่อีพอกซีอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด ตั้งแต่ ประมาณ 1 เปอร์เซ็นต์ ถึง 100 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บน น้ำหนักทั้งหมด ของมอนอเมอร์ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ (ii) มอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วย อนุมูลอิสระอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด ตั้งแต่ 0 เปอร์เซ็นต์ ถึงประมาณ 99 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนักทั้งหมดของมอนอเมอร์ ซึ่ง สามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ และ (iii) ตัวริเริ่มการสังเคราะห์พอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

18. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่ง (a) ประกอบต่อไปด้วยการ บรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยมอนอเมอร์ ซึ่งโดย สาระสำคัญแล้วประกอบด้วย (i) อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่อีพอกซีอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด ตั้งแต่ ประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์ ถึง 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บน น้ำหนักทั้งหมด ของมอนอเมอร์ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ (ii) มอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด ซึ่ง คัดเลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยอะคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่ มีหมู่เชิงหน้าที่ เมธาคริเลทมอนอเมอร์ ชนิดไม่มีหมู่เชิง หน้าที่ และสารประกอบรวมของมอนอเมอร์เหล่านี้ จนถึงประมาณ 85 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนักทั้ง หมดของมอนอเมอร์ซึ่ง สามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ (iii) ตัวริเริ่มการสังเคราะห์พอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดประมาณ 0.0005 ถึงประมาณ 0.06 โ มลต่อโมลของมอนอเมอร์ (iv) สไทรีนิกมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิด 0 เปอร์เซ็นต์ ถึง ประมาณ 25 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนักทั้งหมดของ มอนอเมอร์ ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ (v) ตัวทำละลาย 0 เปอร์เซ็นต์ ถึงประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนักทั้งหมดของมอนอเมอร์ซึ่ง สามารถสังเคราะห์เป็น พอลิเมอร์ได้

19. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 18 ที่ซึ่ง เมธาคริเลทมอนอเมอร์ ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ และอะคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มี หมู่เชิง หน้าที่ได้รับการคัดเลือกจากกลุ่มที่ประกอบ ด้วยเมธิลเมธาคริเลท บิวทิลเมธาคริเลท บิวทิลอะคริเลท ไอโซ บิวทิลเมธาคริเลท ไซโคลเฮกซิลเมธาคริเลท ไซโคลเฮกซิลอะค ริเลท ไอโซบอร์นิลอะคริเลท ไอโซบอร์นิลเมธาคริเลท และสาร ประกอบรวมของมอนอเมอร์เหล่านี้

20. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง (a) ประกอบต่อไปด้วยการ บรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยอะคริลิกมอนอเ มอร์ ชนิดหมู่เชิงหน้าที่อีพอกซีอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด และอะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่ ไฮดรอกซีอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิด

21. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 20 ที่ซึ่ง อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิด หมู่เชิงหน้าที่อีพอกซี คือ ไกลซิดิลเมธาคริเลท

22. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 20 ที่ซึ่ง อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิด หมู่เชิงหน้าที่ไฮดรอกซี คือ 2-ไฮดรอกซีเอธิลเมธาคริเลท

23. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 20 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ประกอบต่อไป ด้วยมอนอเมอร์ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ด้วย อนุมูลอิสระเพิ่มเติมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

24. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ (หลายตัว) ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ด้วยอนุมูลอิสระเพิ่ม เติม ได้รับการคัดเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยเมธาคริเลทมอ นอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ อะคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ สไทรีนิกมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ และสารประกอบรวมของมอนอเ มอร์เหล่านี้

25. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 24 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ด้วยอนุมูลอิสระประกอบต่อไปด้วย เมธาคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่ สุดหนึ่งชนิด และอะคริเลท มอนอเมอร์ฃนิดไม่มีหมู่เชิงหน้า ที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

26. กระบวนการสังเคราะห์พอลิมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 24 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ด้วยอนุมูลอิสระประกอบต่อไปด้วย เมธาคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีเชิงหน้าที่ซึ่งแตกต่างกัน อย่างน้อยที่สุดสองชนิด และ อะคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่ เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

27. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภุมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 24 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ด้วยอนุมูลอิสระประกอบต่อไปด้วย เมธาคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ซึ่งแตก ต่างกันอย่างน้อยที่สุดสองชนิด อะคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มี หมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด และสไทรีนิก มอนอเ มอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

28. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิแบบต่อเนื่องใน ข้อถือสิทธิข้อ 24 ที่ซึ่ง (a) ประกอบต่อไปด้วยการบรรจุ เข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยมอนอเมอร์ ซึ่งโดย สาระ สำคัญแล้ว ประกอบด้วย (i) อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่อีพอกซีอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดประมาณ 1 เปอร์เซ็นต์ ถึงประมาณ 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนัก ทั้งหมด ของมอนอเมอร์ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ (ii) อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่ไฮดรอกซีอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด ประมาณ 1 เปอร์เซ็นต์ถึงประมาณ 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนัก ทั้งหมด ของมอนอเมอร์ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ เพื่อ ให้น้ำหนัก ประกอบรวมของอะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิง หน้าที่อีพอกซี (หลายตัว) และ อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่ เชิงหน้าที่ไฮดรอกซี (หลายตัว) ไม่มากเกินกว่า 75 เปอร์เซ็นต์ของน้ำหนักทั้งหมดของมอนอเมอร์ซึ่งสมารถ สังเคราะห์เป็น พอลิเมอร์ได้ (iii) มอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ด้วย อนุมูลอิสระอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด ประมาณ 25 เปอร์เซ็นต์ ถึงประมาณ 98 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนักทั้งหมดของมอนอเมอร์ ซึ่ง สามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ และ (iv) ตัวริเริ่มการสังเคราะห์พอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

29. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง มอนอมเมอร์ (หลายตัว) ประกอบด้วยอะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่กรด- คาร์บอก ซิลิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

30. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 29 ที่ซึ่ง อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิด หมู่เชิงหน้าที่กรดคาร์บอกซิลิก คือ กรดอะคริลิก

31. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 29 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ประกอบต่อไป ด้วยมอนอเมอร์ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุ มูล อิสระเพิ่มเติมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

32. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 31 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ (หลายตัว) ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระเพิ่ม เติม ได้รับการคัดเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยเมธาคริเลทมอ นอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ อะคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่ มีหมู่เชิงหน้าที่ สไทรีนิกมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้า ที่ และสารประกอบรวมของมอนอเมอร์เหล่านี้

33. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 32 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระประกอบต่อไปด้วย เมธาคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่ สุดหนึ่งชนิด และอะคริเลท มอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

34. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่ อุณหภูมิสูงแบบต่อเนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 32 ที่ซึ่ง มอนอเ มอร์ซึ่งสามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ ประกอบต่อไปด้วย เมธาคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้า ที่ซึ่งแตกต่างกันอย่างน้อยที่สุดสองชนิด และ อะคริเลทมอ นอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

35. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 32 ที่ซึ่ง มอนอเมอร์ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระประกอบต่อไปด้วย เมธาคริเลทมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ซึ่งแตกต่าง กันอย่างน้อยที่สุดสองชนิด อะคริเลทมอนอชนิดไม่มีหมู่เชิง หน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด และสไทรีนิกมอนอเมอร์ ชนิด ไม่มีหมู่เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

36. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องในข้อถือสิทธิข้อ 32 ที่ซึ่ง (a) ประกอบต่อไปด้วยการ บรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วย (i) อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่กรดคาร์บอกซิลิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิด ตั้งแต่ประมาณ 5 เปอร์เซ็นต์ ถึง 100 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บน น้ำหนักทั้งหมดของมอนอเมอร์ซึ่ง สามารถสังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ (ii) มอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วย อนุมูลอิสระอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด ตั้งแต่ 0 เปอร์เซ็นต์ ถึงประมาณ 95 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก โดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนักทั้งหมดของมอนอเมอร์ ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ และ (iii) ตัวริเริ่มการสังเคราะห์พอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด

37. สารผสมเคลือบผิวในรูปผง ซึ่งประกอบด้วย (a) ผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์ที่ทำได้ตามกระบวนการในข้อถือสิทธิ ข้อ 1 และ (b) วัสดุชนิดอื่นที่เพียงพอในการก่อรูปสารผสมเคลือบผิวใน รูปผงเมื่อประกอบรวมกับ ผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์

38. สารผสมเคลือบผิวในรูปของเหลว ซึ่งประกอบด้วย (a) ผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์ที่ทำได้ตามกระบวนการในข้อถือสิทธิ ข้อ 1 และ (b) วัสดุชนิดอื่นที่เพียงพอในการก่อรูปสารผสมเคลือบผิวใน รูปของเหลวเมื่อประกอบ รวมกับผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์

39. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อ เนื่องสำหรับการเตรียมผลิตภัณฑ์ พอลิเมอร์ที่ได้รับการ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ ซึ่งประกอบด้วย (a) การบรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยมอนอเ มอร์ (หลายตัว) ซึ่งโดย สาระสำคัญแล้วประกอบด้วย (i) อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่อีพอกซีอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด (ii) อย่างเป็นทางเลือกแล้ว เป็นมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่ เชิงหน้าที่ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ด้วย อนุมูลอิสระอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด เพื่อให้เครื่องปฎิกรณ์ได้รับการบรรจุถึง 100 % ของปริมาตร ใช้งานของเครื่อง (b) การสังเคราะห์พอลิเมอร์ของมอนอเมอร์เพื่อผลิตภัณฑ์พอ ลิเมอร์ ที่ซึ่ง เครื่องปฎิกรณ์ได้รับการบรรจุถึง 100 % ของปริมาตรใช้งานของเครื่อง ในระหว่าง การสังเคราะห์พอลิ เมอร์ของมอนอเมอร์ (หลายตัว) เพื่อให้ผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์ ได้ รับการก่อรูปขึ้นโดยปราศจากอนุภาคเจลอย่างเป็นสำคัญ

40. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อเนื่อง สำหรับการเตรียมผลิตภัณฑ์ พอลิเมอร์ที่ได้รับการสังเคราะห์ เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ ซึ่งประกอบด้วย (a) การบรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยมอนอเ มอร์ (หลายตัว) ซึ่งโดย สาระสำคัญแล้วประกอบด้วย (i) อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่อีพอกซีอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด (ii) อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่ไฮดรอกซีอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด (iii) มอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ ด้วยอนุมูลอิสระอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด เพื่อให้เครื่องปฎิกรณ์ได้รับการบรรจุถึง 100 % ของปริมาตร ใช้งานของเครื่อง (b) การสังเคราะห์พอลิเมอร์ของมอนอเมอร์เพื่อผลิตภัณฑ์พอ ลิเมอร์ ที่ซึ่ง เครื่องปฎิกรณ์ได้รับการบรรจุถึง 100 % ของปริมาตรใช้งานของเครื่อง ในระหว่าง การสังเคราะห์พอลิ เมอร์ของมอนอเมอร์ (หลายตัว) เพื่อให้ผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์ ได้ รับการก่อนรูปขึ้นโดยปราศจากอนุภาคเจลอย่างเป็นสำคัญ

41. กระบวนการสังเคราะห์พอลิเมอร์ที่อุณหภูมิสูงแบบต่อเนื่อง สำหรับการเตรียมผลิตภัณฑ์ พอลิเมอร์ที่ได้รับการสังเคราะห์ เป็นพอลิเมอร์ด้วยอนุมูลอิสระ ซึ่งประกอบด้วย (a) การบรรจุเข้าในเครื่องปฎิกรณ์อย่างต่อเนื่องด้วยมอนอเ มอร์ (หลายตัว) ซึ่งโดย สาระสำคัญแล้วประกอบด้วย (i) อะคริลิกมอนอเมอร์ชนิดหมู่เชิงหน้าที่กรดคาร์บอกซิลิกอย่าง น้อยที่สุด หนึ่งชนิด (ii) อย่างเป็นทางเลือกแล้ว เป็นมอนอเมอร์ชนิดไม่มีหมู่เชิงหน้าที่ ซึ่งสามารถ สังเคราะห์เป็นพอลิเมอร์ได้ด้วย อนุมูลอิสระอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด เพื่อให้เครื่องปฎิกรณ์ได้รับการบรรจุถึง 100 % ของปริมาตร ใช้งานของเครื่อง (b) การสังเคราะห์พอลิเมอร์ของมอนอเมอร์เพื่อผลิตภัณฑ์พอ ลิเมอร์ ที่ซึ่ง เครื่องปฎิกรณ์ได้รับการบรรจุถึง 100 % ของปริมาตรใช้งานของเครื่อง ในระหว่าง การสังเคราะห์พอลิ เมอร์ของมอนอเมอร์ (หลายตัว) เพื่อให้ผลิตภัณฑ์พอลิเมอร์ ได้ รับการก่อรูปขึ้นโดยปราศจากอนุภาคเจลอย่างเป็นสำคัญ