TH39280A - กระบวนการและอุปกรณ์ผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่?มีโฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ - Google Patents

Abstract

DC60 (14/10/42) ที่เปิดเผย คือ วิธีการและอุปกรณ์ถูกจัดให้ ซึ่งสามารถผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีระดับ ที่น่าพอใจของ โฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ อย่างมีประสิทธิภาพ องค์ประกอบเคลือบที่เป็น โฟโตคะตะ ลิสท์ ที่ประกอบด้วยโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือพรีเคอร์เซอร์ ของโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก ถูกเคลือบบนผิวหน้าของซับสเทรท ผิวหน้าของ ซับสเทรท ที่ถูกเคลือบถูกให้ ความร้อนอย่างรวดเร็ว เพื่อตรึงโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก ลงบนผิวหน้าของซับสเทรท การให้ความร้อนอย่างรวดเร็วนี้ สามารถทำให้การผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีระดับที่น่าพอใจของ โฟโต คะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ในวิถีทางที่มีประสิทธิภาพเป็นจริงขึ้นมา อุปกรณ์, ซึ่งสามารถดำเนินการให้ความ ร้อนที่รวดเร็วอย่างต่อเนื่องทันที หลังจากการผลิตซับสเทรท, สามารถผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีโฟโต คะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ในวิธีการที่มีประสิทธิภาพ ที่เปิดเผย คือ วิธีการและอุปกรณ์ถูกจัดให้ ซึ่งสามารถผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีระดับ ที่น่าพอใจของ โฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ อย่างมีประสิทธิภาพ องค์ประกอบเคลือบที่เป็น โฟโตคะตะ ลิสท์ ที่ประกอบด้วยโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือพรีเคอร์เซอร์ ของโลฟะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก ถูกเคลือบบนผิวหน้าของซับสเทรท ผิวหน้าของ ซับสเทรท ที่ถูกเคลือบถูกให้ ความร้อนอย่างรวดเร็ว เพื่อตรึงโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก ลงบนผิวหน้าของซับสเทรท การให้ความร้อนอย่างรวดเร็วนี้ สามารถทำให้การผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีระดับที่น่าพอใจของ โฟโต คะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ในวิถีทางที่มีประสิทธิภาพเป็นจริงขึ้นมา อุปกรณ์, ซึ่งสามารถดำเนินการให้ความ ร้อนที่รวดเร็วอย่างต่อเนื่องทันที หลังจากการผลิตซับสเทรท, สามารถผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีโฟโต คะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ในวิธีการที่มีประสิทธิภาพ

Claims (42)

1. กระบวนการสำหรับการผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่มีโฟโตคะตะลิติกแอคทิวิตี้ ซึ่ง ประกอบด้วยขั้นตอนของ: การเคลือบองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโต- คะตะลิติกบนผิวหน้าของซับสเทรท และ การให้ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทที่ถูกเคลือบอย่างรวดเร็วเพื่อตรึงโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกบนผิวหน้าของซับสเทรท ซึ่งมีคุณลักษณะพิเศษที่ว่า การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยวิถีทางการให้ความร้อนที่ถูกจัดไว้ด้วย องค์ประกอบการให้ความร้อนที่มีค่าความร้อนต่อหน่วยพื้นที่ไม่น้อยกว่า 120 MJ/ม.2ชม. และ ระยะระหว่างองค์ประกอบการให้ความร้อน และผิวหน้าของซับสเทรท คือ 5 ถึง 300 มม.และการ ให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการเป็นระยะเวลา 2 ถึง 60 วินาที

2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยการให้ ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทถึง 100 ถึง 800 องศาเซลเซียส

3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 2 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยการให้ ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทถึง 150 ถึง 600 องศาเซลเซียส

4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 3 ที่ซึ่ง ในระหว่างการให้ความร้อนที่รวดเร็ว ซับสเทรทถูก วางในบรรยากาศที่ 100 ถึง 1000 องศาเซลเซียส

5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ในระหว่างการให้ความร้อนที่รวดเร็ว อุณหภูมิการ ให้ความร้อนถูกรักษาไว้ที่จัดว่าคงที่

6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ผิวหน้าของซับสเทรทถูกให้ความร้อนล่วงหน้าก่อน การเคลือบองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์

7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 6 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนล่วงหน้าถูกดำเนินการโดยการให้ ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทถึง 20 ถึง 400 องศาเซลเซียส

8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยการ จ่ายพลังงานความร้อนอย่างหนาแน่นเพียงที่ผิวหน้าของซับสเทรท

9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ซับสเทรทที่ถูกเคลือบตัวองค์ประกอบเคลือบที่ เป็นโฟโตคะตะลิสท์ถูกทำให้แห้งก่อนการให้ความร้อนที่รวดเร็ว

10. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ผิวหน้าของซับสเทรทที่ถูกให้ความร้อนอย่าง รวดเร็วต่อมาถูกทำให้เย็นอย่างรวดเร็ว

11. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกถูกเลือกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วย TiO2, ZnO, SnO2, SrTiO2, WO3, Bi2O3, Fe2O3, และ V2O5

12. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง พรีเคอร์เซอร์ของโลฟะออกไซด์ที่เป็น โฟโต คะตะลิติก คือ สารประกอบซึ่งมีอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโลหะที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ไททาเนียม, สังกะสี, ดีบุก, สตรอนเทียม, ถูกเปลี่ยนไปเป็นโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก

13. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ ประกอบต่อไปด้วยตัวประสาน

14. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 13 ที่ซึ่ง ตัวประสานประกอบด้วย: อย่างน้อยที่สุดสมาชิก ตัวหนึ่งที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอนุภาคออกไซด์อนินทรีย์, พรีเคอร์เซอร์ฟิล์มเรซิน ซิลิโคน ที่สามารถเกิดเป็น ฟิล์มเรซินซิลิโคน และพรีเคอร์เซอร์ฟิล์มซิลิคา ที่สามารถเกิดเป็นฟิล์มซิลิคา และตัวทำละลาย

15. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 13 ที่ซึ่ง ตัวประสานประกอบด้วย: สมาชิกตัวหนึ่งที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยซิลิคอน, อะลูมินัม, โพแทสเซียม, ลิเธียม, โซเดียม, ซีเซียม, แคลเซียม, แมกนีเซียม, ไททาเนียม, ฟอสฟอรัส, โบรอน, เซอร์โคเนียม, รูยิเดียม, ฟรานเซียม, ยิดเทรียม, ฮาฟเนียม, แลนธาไนด์, และสารประกอบของธาตุดังกล่าว และ อัลคาไลซิลิเคทที่แทนโดยสูตร Me2O-nSiO2 ที่ซึ่ง Me แทนโลหะอัลคาไล

16. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่เป็น อันเดียวกันถูกเคลือบหลายๆครั้งบนผิวหน้าของซับสเทรทเพื่อให้เกิดเป็นผิวเคลือบที่เป็นหลายชั้น หรือ ชั้นซ้อน หรือีกอย่างหนึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่แตกต่างกันจำนวน มากนั้นบนผิวหน้าของซับสเทรท เพื่อเกิดเป็นผิวเคลือบหลายชั้น หรือ ชั้นซ้อน

17. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: การให้อย่างน้อยที่สุด หนึ่งองค์ประกอบเคลือบที่ประกอบด้วยตัวประสาน และจัดว่าเป็นอิสระจากโลหะออกไซด์ที่เป็น โฟโตคะตะลิติก และพรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และองค์ประกอบเคลือบ ที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก หรือ องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่ ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่ เป็นโฟโตคะตะลิติก และตัวประสาน การเคลือบสารเหล่านี้ไปบนพื้นผิวของซับสเตรตเกิดเป็นผิวเคลือบ หลายชั้น ; และ จากนั้นให้ความร้อนแก่สิ่งประกอบ (asscmbly) อย่างรวดเร็ว

18. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ ประกอบต่อไปด้วย โลหะ และ/หรือ โลหะออกไซด์ที่เลือกจาก เงิน, ทองแดง, โลหะของกลุ่ม พลาตินัม, และออกไซด์ของโลหะดังกล่าว

19. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 18 ที่ซึ่งโลหะ และโลหะออกไซด์มีอยู่ในสภาวะที่ถูก รองรับบนผิวหน้าของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก

20. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 19 ที่ซึ่งโลหะ และโลหะออกไซด์ถูกรองรับบนผิวหน้าของ โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกโดยการตรึงแบบโฟโตรีดักชั่น ที่ใช้การฉายแสงอัลตรัา- ไวโอเลท

21. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ความเข้มข้นของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโต คะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกในองค์ประกอบเคลือบที่ เป็นโฟโตคะตะลิสท์เป็น 0.001 ถึง 35% โดยน้ำหนัก คิดจากของแข็งเป็นฐาน

22. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์มีตัว ประสานในปริมาณ 0.001 ถึง 100 ส่วนโดยน้ำหนักคิดจาก 1 ส่วนโดยน้ำหนักของโลหะออกไซด์ที่ เป็นโฟโตคะตะลิติก และพรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์เป็นฐาน

23. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 22 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่มีตัว ประสานในปริมาณ 0.1 ถึง 5 ส่วนโดยน้ำหนักคิดจาก 1 ส่วนโดยน้ำหนักของโลหะออกไซด์ที่ เป็นโฟโตคะตะลิติก และพรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกเป็นฐาน

24. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ซับสเทรททำจากโลหะ, วัสดุอนินทรีย์, วัสดุ อินทรีย์, หรือ วัสดุประกอบของสารเหล่านี้

25. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง วัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติก แอ็ควิทิตี้ คือ วัสดุใช้ภายนอก หรือ ภายใน

26. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง วัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ คือ กระเบื้อง, เครื่องใช้เกี่ยวกับสุขอนามัย, เครื่องใช้บนโต๊ะ, บอร์ดแคลเซียมซิลิเคท, วัสดุก่อสร้าง, ซับสเทรท เซรามิค, วัสดุเซมิคอนดักเตอร์, ฉนวน, แก้ว, กระจก

27. อุปกรณ์สำหรับการผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติกแอคทิวิตี้ ซึ่งอุปกรณ์ ดังกล่าวประกอบด้วย อย่างน้อยหนึ่งวิถีทางการให้ความร้อนที่รวดเร็วสำหรับการให้ความร้อนแก่ผิวหน้าของ ซับสเทรทที่ถูกเคลือบอย่างรวดเร็วด้วยองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโตโตคะตะลิสท์ที่ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโต คะตะลิติกเพื่อตรึงโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกบนผิวหน้าของซับสเทรท ซึ่งมีคุณลักษณะ พิเศษที่ว่า วิถีทางการให้ความร้อนที่รวดเร็วประกอบด้วยอย่างน้อย องค์ประกอบการให้ความร้อนซึ่งค่าความร้อนต่อหน่วยพื้นที่ไม่น้อยกว่า 120 MJ./ม.2ซม. และซึ่งถูกจัดไว้เพื่อว่าระยะระหว่างองค์ประกอบการให้ความร้อน และผิวหน้าของซับสเทรท คือ 5 ถึง 300 มม. ด้วยระยะที่ถูกตรึง หรือ เปลี่ยนแปลงได วัสดุต้านทานความร้อนซึ่งปกคลุมองค์ประกอบการให้ความร้อนในขณะที่ก่อรูปช่องห่าง ความร้อนที่ถูกกำหนดไว้ วิถีทางการยึดสำหรับการยึดซับสเทรทภายในช่องห่างความร้อนเป็นระยะเวลา 2 ถึง 60 วินาที ช่องนำพาเข้าสำหรับการนำพาซับสเทรทเข้าไปในช่องห่างความร้อน และ ช่องนำพาออกสำหรับการนำพาซับสเทรทออกจากช่องห่างความร้อน

28. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งดำเนินการวิธีการตามข้อถือสิทธิ 1

29. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่ง วิถีทางการให้ความร้อนสามารถคงอุณหภูมิ การให้ ความร้อนไว้ที่ค่าที่จัดว่าคงที่

30. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่ง วิถีทางการให้ความร้อนจะคงอุณหภูมิการให้ความ ร้อนไว้ที่ค่าที่จัดว่าคงที่เหนือความยาวบริเวณ 5 ซม. ถึง 30 ซม.

31. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่งประกอบต่อไปด้วยวิถีทางการให้ความร้อนล่วงหน้า สำหรับการให้ความร้อนล่วงหน้าแก่ผิวหน้าของ ซับสเทรท ก่อนการเคลือบองค์ประกอบเคลือบที่ เป็น โฟโตคะตะลิสท์

32. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบต่อไปอีกด้วย วิถีทางการทำให้แห้งสำหรับการ ทำให้ซับสเทรทที่ถูกเคลือบด้วยองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์

33. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบต่อไปอีกด้วย วิถีทางการทำความเย็นสำหรับ การทำให้ผิวหน้าของซับสเทรทที่ร้อนโดยวิถีทางการทำให้ความร้อนเย็นอย่างรวดเร็ว

34. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบด้วยวิถีทางการบรรทุกสำหรับการเคลื่อนที่ อย่างต่อเนื่อง และการบรรทุกซับสเทรทภายในอุปกรณ์

35. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่ง วิถีทางการให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกจัดวางทันที ปลายกระแสของวิถีทางการเคลือบ

36. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งถูกจัดวางทันทีปลายกระแสของอุปกรณ์การผลิต ซับ สเทรท

37. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 34 ที่ซึ่ง วิถีทางบรรทุก คือ สายพานบรรทุก หรือ ลูกกลิ้ง บรรทุก

38. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 37 ที่ซึ่ง วิถีทางบรรทุก คือ สายพานบรรทุกของสายพานทาน ความร้อนที่มีเปอร์เซ็นต์รูเปิดที่ผิวหน้าไม่น้อยกว่า 20% หรือ ลูกกลิ้งบรรทุกของกลุ่มของลูกกลิ้ง

39. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 37 ที่ซึ่ง สายพานบรรทุก ประกอบด้วย ตาข่ายทนความร้อน ที่มีขนาดรูตาข่ายจนถึง 50 มม. X 50 มม.

40. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 37 ที่ซึ่ง ลูกกลิ้งบรรทุก ประกอบด้วย ลูกกลิ้งทนความร้อนที่ มีระยะ 1 ถึง 300 มม.

41. วัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ที่ผลิตโดยวิธีการตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27

42. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบต่อไปอีกด้วย วิถีทางการเคลือบสำหรับการ เคลือบองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ดังกล่าวบนผิวหน้าของซับสเทรท