Claims (42)
1. กระบวนการสำหรับการผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่มีโฟโตคะตะลิติกแอคทิวิตี้ ซึ่ง ประกอบด้วยขั้นตอนของ: การเคลือบองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโต- คะตะลิติกบนผิวหน้าของซับสเทรท และ การให้ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทที่ถูกเคลือบอย่างรวดเร็วเพื่อตรึงโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกบนผิวหน้าของซับสเทรท ซึ่งมีคุณลักษณะพิเศษที่ว่า การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยวิถีทางการให้ความร้อนที่ถูกจัดไว้ด้วย องค์ประกอบการให้ความร้อนที่มีค่าความร้อนต่อหน่วยพื้นที่ไม่น้อยกว่า 120 MJ/ม.2ชม. และ ระยะระหว่างองค์ประกอบการให้ความร้อน และผิวหน้าของซับสเทรท คือ 5 ถึง 300 มม.และการ ให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการเป็นระยะเวลา 2 ถึง 60 วินาที1. The process for fabricating materials with photocatalytic activity consists of the following steps: coating a photocatalytic coating composed of photocatalytic metal oxides and/or photocatalytic metal oxide precursors onto the substrate surface; and rapidly heating the coated substrate surface to immobilize the photocatalytic metal oxides. A key characteristic of this process is that the rapid heating is performed using heating elements with a heat per unit area of at least 120 MJ/m²h, a distance between the heating element and the substrate surface of 5 to 300 mm, and a duration of 2 to 60 seconds.
2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยการให้ ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทถึง 100 ถึง 800 องศาเซลเซียส2. The process under claim 1, in which rapid heating is performed by heating the substrate surface to 100 to 800 degrees Celsius.
3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 2 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยการให้ ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทถึง 150 ถึง 600 องศาเซลเซียส3. The process under claim 2, in which rapid heating is performed by heating the substrate surface to 150 to 600 degrees Celsius.
4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 3 ที่ซึ่ง ในระหว่างการให้ความร้อนที่รวดเร็ว ซับสเทรทถูก วางในบรรยากาศที่ 100 ถึง 1000 องศาเซลเซียส4. The process under claim 3, in which, during rapid heating, the substrate is placed in an atmosphere of 100 to 1000 degrees Celsius.
5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ในระหว่างการให้ความร้อนที่รวดเร็ว อุณหภูมิการ ให้ความร้อนถูกรักษาไว้ที่จัดว่าคงที่5. The process under claim 1 in which, during rapid heating, the heating temperature is maintained at a level considered constant.
6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ผิวหน้าของซับสเทรทถูกให้ความร้อนล่วงหน้าก่อน การเคลือบองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์6. The process under claim 1 in which the substrate surface is preheated before coating the photocatalyst coating element.
7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 6 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนล่วงหน้าถูกดำเนินการโดยการให้ ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทถึง 20 ถึง 400 องศาเซลเซียส7. The process under claim 6, where preheating is performed by heating the substrate surface to 20 to 400 degrees Celsius.
8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยการ จ่ายพลังงานความร้อนอย่างหนาแน่นเพียงที่ผิวหน้าของซับสเทรท8. The process under claim 1 in which rapid heating is achieved by delivering a dense heat energy only to the surface of the substrate.
9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ซับสเทรทที่ถูกเคลือบตัวองค์ประกอบเคลือบที่ เป็นโฟโตคะตะลิสท์ถูกทำให้แห้งก่อนการให้ความร้อนที่รวดเร็ว9. The process under claim 1 in which the substrate coated with the photocatalyst coating is dried prior to rapid heating.
10. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ผิวหน้าของซับสเทรทที่ถูกให้ความร้อนอย่าง รวดเร็วต่อมาถูกทำให้เย็นอย่างรวดเร็ว10. The process under claim 1 in which the surface of the substrate is rapidly heated and subsequently rapidly cooled.
11. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกถูกเลือกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วย TiO2, ZnO, SnO2, SrTiO2, WO3, Bi2O3, Fe2O3, และ V2O511. The process according to claim 1 in which photocatalytic metal oxides are selected from the group comprising TiO2, ZnO, SnO2, SrTiO2, WO3, Bi2O3, Fe2O3, and V2O5.
12. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง พรีเคอร์เซอร์ของโลฟะออกไซด์ที่เป็น โฟโต คะตะลิติก คือ สารประกอบซึ่งมีอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโลหะที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ไททาเนียม, สังกะสี, ดีบุก, สตรอนเทียม, ถูกเปลี่ยนไปเป็นโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก12. The process under Claim 1 in which a precursor of a photocatalytic lophaoxide is a compound in which at least one metal of choice from the group comprising titanium, zinc, tin, strontium, is converted to a photocatalytic metal oxide.
13. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ ประกอบต่อไปด้วยตัวประสาน13. The process under claim 1 in which the photocatalyst coating element is further assembled with a binder.
14. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 13 ที่ซึ่ง ตัวประสานประกอบด้วย: อย่างน้อยที่สุดสมาชิก ตัวหนึ่งที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอนุภาคออกไซด์อนินทรีย์, พรีเคอร์เซอร์ฟิล์มเรซิน ซิลิโคน ที่สามารถเกิดเป็น ฟิล์มเรซินซิลิโคน และพรีเคอร์เซอร์ฟิล์มซิลิคา ที่สามารถเกิดเป็นฟิล์มซิลิคา และตัวทำละลาย14. The process under claim 13 in which the binder consists of: at least one member selected from a group of inorganic oxide particles, a silicone resin film precursor capable of forming a silicone resin film, and a silica film precursor capable of forming a silica film, and a solvent.
15. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 13 ที่ซึ่ง ตัวประสานประกอบด้วย: สมาชิกตัวหนึ่งที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยซิลิคอน, อะลูมินัม, โพแทสเซียม, ลิเธียม, โซเดียม, ซีเซียม, แคลเซียม, แมกนีเซียม, ไททาเนียม, ฟอสฟอรัส, โบรอน, เซอร์โคเนียม, รูยิเดียม, ฟรานเซียม, ยิดเทรียม, ฮาฟเนียม, แลนธาไนด์, และสารประกอบของธาตุดังกล่าว และ อัลคาไลซิลิเคทที่แทนโดยสูตร Me2O-nSiO2 ที่ซึ่ง Me แทนโลหะอัลคาไล15. The process according to claim 13 where the binder consists of: a member chosen from a group comprising silicon, aluminum, potassium, lithium, sodium, cesium, calcium, magnesium, titanium, phosphorus, boron, zirconium, ruydium, francium, yttrium, hafnium, lanthanide, and compounds of such elements, and an alkali silicate represented by the formula Me2O-nSiO2, where Me represents an alkali metal.
16. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่เป็น อันเดียวกันถูกเคลือบหลายๆครั้งบนผิวหน้าของซับสเทรทเพื่อให้เกิดเป็นผิวเคลือบที่เป็นหลายชั้น หรือ ชั้นซ้อน หรือีกอย่างหนึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่แตกต่างกันจำนวน มากนั้นบนผิวหน้าของซับสเทรท เพื่อเกิดเป็นผิวเคลือบหลายชั้น หรือ ชั้นซ้อน16. The process under Reputation 1 in which an identical photocatalytic coating element is applied multiple times to the surface of a substrate to create a multilayer or superposition coating, or alternatively, a large number of different photocatalytic coating elements are applied to the surface of a substrate to create a multilayer or superposition coating.
17. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: การให้อย่างน้อยที่สุด หนึ่งองค์ประกอบเคลือบที่ประกอบด้วยตัวประสาน และจัดว่าเป็นอิสระจากโลหะออกไซด์ที่เป็น โฟโตคะตะลิติก และพรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และองค์ประกอบเคลือบ ที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก หรือ องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่ ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่ เป็นโฟโตคะตะลิติก และตัวประสาน การเคลือบสารเหล่านี้ไปบนพื้นผิวของซับสเตรตเกิดเป็นผิวเคลือบ หลายชั้น ; และ จากนั้นให้ความร้อนแก่สิ่งประกอบ (asscmbly) อย่างรวดเร็ว17. The process under Reputation 1, which consists of the following steps: the application of at least one coating component containing a binder and independently of photocatalytic metal oxides and photocatalytic metal oxide precursors, and a photocatalytic coating component consisting of photocatalytic metal oxides and/or photocatalytic metal oxide precursors, or a photocatalytic coating component consisting of photocatalytic metal oxides and/or photocatalytic metal oxide precursors and a binder; the application of these components to the substrate surface to form a multi-layer coating; and the subsequent rapid heating of the assembly.
18. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ ประกอบต่อไปด้วย โลหะ และ/หรือ โลหะออกไซด์ที่เลือกจาก เงิน, ทองแดง, โลหะของกลุ่ม พลาตินัม, และออกไซด์ของโลหะดังกล่าว18. The process under Reputation 1 in which the photocatalyst coating element is further composed of a metal and/or metal oxide selected from silver, copper, platinum group metals, and oxides of such metals.
19. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 18 ที่ซึ่งโลหะ และโลหะออกไซด์มีอยู่ในสภาวะที่ถูก รองรับบนผิวหน้าของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก19. The process under claim 18 in which metals and metal oxides exist in a supported state on the surface of a photocatalytic metal oxide.
20. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 19 ที่ซึ่งโลหะ และโลหะออกไซด์ถูกรองรับบนผิวหน้าของ โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกโดยการตรึงแบบโฟโตรีดักชั่น ที่ใช้การฉายแสงอัลตรัา- ไวโอเลท20. The process according to claim 19, in which metals and metal oxides are supported on the surface of a photocatalytic metal oxide by photoreduction fixation using ultraviolet irradiation.
21. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ความเข้มข้นของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโต คะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกในองค์ประกอบเคลือบที่ เป็นโฟโตคะตะลิสท์เป็น 0.001 ถึง 35% โดยน้ำหนัก คิดจากของแข็งเป็นฐาน21. The process under Reputation 1 where the concentration of photocatalytic metal oxides and/or photocatalytic metal oxide precursors in the photocatalytic coating composition is 0.001 to 35% by weight, based on a solid.
22. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์มีตัว ประสานในปริมาณ 0.001 ถึง 100 ส่วนโดยน้ำหนักคิดจาก 1 ส่วนโดยน้ำหนักของโลหะออกไซด์ที่ เป็นโฟโตคะตะลิติก และพรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์เป็นฐาน22. The process under Reputation 1 in which the photocatalytic coating composition contains a binder in an amount of 0.001 to 100 parts by weight based on 1 part by weight of photocatalytic metal oxide and a photocatalytic metal oxide precursor as a base.
23. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 22 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่มีตัว ประสานในปริมาณ 0.1 ถึง 5 ส่วนโดยน้ำหนักคิดจาก 1 ส่วนโดยน้ำหนักของโลหะออกไซด์ที่ เป็นโฟโตคะตะลิติก และพรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกเป็นฐาน23. The process pursuant to claim 22, in which a photocatalytic coating composition is formed with a binder in an amount of 0.1 to 5 parts by weight based on 1 part by weight of photocatalytic metal oxide and a photocatalytic metal oxide precursor as a base.
24. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ซับสเทรททำจากโลหะ, วัสดุอนินทรีย์, วัสดุ อินทรีย์, หรือ วัสดุประกอบของสารเหล่านี้24. The process under claim 1 in which the substrate is made of metal, inorganic material, organic material, or a composite of these materials.
25. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง วัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติก แอ็ควิทิตี้ คือ วัสดุใช้ภายนอก หรือ ภายใน25. The process under Reputation 1 where the material performing the photocatalytic activity is an external or internal material.
26. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง วัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ คือ กระเบื้อง, เครื่องใช้เกี่ยวกับสุขอนามัย, เครื่องใช้บนโต๊ะ, บอร์ดแคลเซียมซิลิเคท, วัสดุก่อสร้าง, ซับสเทรท เซรามิค, วัสดุเซมิคอนดักเตอร์, ฉนวน, แก้ว, กระจก26. The process under Reputation 1 where the materials performing photocatalytic activity are: tiles, sanitary ware, tableware, calcium silicate boards, building materials, ceramic substrates, semiconductor materials, insulation, glass, mirrors.
27. อุปกรณ์สำหรับการผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติกแอคทิวิตี้ ซึ่งอุปกรณ์ ดังกล่าวประกอบด้วย อย่างน้อยหนึ่งวิถีทางการให้ความร้อนที่รวดเร็วสำหรับการให้ความร้อนแก่ผิวหน้าของ ซับสเทรทที่ถูกเคลือบอย่างรวดเร็วด้วยองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโตโตคะตะลิสท์ที่ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโต คะตะลิติกเพื่อตรึงโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกบนผิวหน้าของซับสเทรท ซึ่งมีคุณลักษณะ พิเศษที่ว่า วิถีทางการให้ความร้อนที่รวดเร็วประกอบด้วยอย่างน้อย องค์ประกอบการให้ความร้อนซึ่งค่าความร้อนต่อหน่วยพื้นที่ไม่น้อยกว่า 120 MJ./ม.2ซม. และซึ่งถูกจัดไว้เพื่อว่าระยะระหว่างองค์ประกอบการให้ความร้อน และผิวหน้าของซับสเทรท คือ 5 ถึง 300 มม. ด้วยระยะที่ถูกตรึง หรือ เปลี่ยนแปลงได วัสดุต้านทานความร้อนซึ่งปกคลุมองค์ประกอบการให้ความร้อนในขณะที่ก่อรูปช่องห่าง ความร้อนที่ถูกกำหนดไว้ วิถีทางการยึดสำหรับการยึดซับสเทรทภายในช่องห่างความร้อนเป็นระยะเวลา 2 ถึง 60 วินาที ช่องนำพาเข้าสำหรับการนำพาซับสเทรทเข้าไปในช่องห่างความร้อน และ ช่องนำพาออกสำหรับการนำพาซับสเทรทออกจากช่องห่างความร้อน27. Equipment for the fabrication of materials exhibiting photocatalytic activity, which includes at least one rapid heating pathway for rapidly heating the surface of a substrate coated with a photocatalytic coating element composed of photocatalytic metal oxides and/or a photocatalytic metal oxide precursor for immobilizing the photocatalytic metal oxides on the substrate surface, with the special characteristic that the rapid heating pathway includes at least a heating element with a heat per unit area of not less than 120 MJ./m²cm., which is arranged so that the distance between the heating element and the substrate surface is 5 to 300 mm, with a fixed or adjustable distance. A heat-resistant material is placed over the heating element while forming the specified heat void. The bonding method involves securing the substrate within the heat-dissipating channel for 2 to 60 seconds. An inlet channel guides the substrate into the heat-dissipating channel, and an outlet channel guides the substrate out of the heat-dissipating channel.
28. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งดำเนินการวิธีการตามข้อถือสิทธิ 128. Equipment under claim 27 which operates in accordance with the method of claim 1.
29. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่ง วิถีทางการให้ความร้อนสามารถคงอุณหภูมิ การให้ ความร้อนไว้ที่ค่าที่จัดว่าคงที่29. An apparatus under claim 27 in which the heating pathway can maintain the heating temperature at a value deemed constant.
30. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่ง วิถีทางการให้ความร้อนจะคงอุณหภูมิการให้ความ ร้อนไว้ที่ค่าที่จัดว่าคงที่เหนือความยาวบริเวณ 5 ซม. ถึง 30 ซม.30. An apparatus under claim 27 in which the heating pathway maintains a heating temperature deemed constant over a region of 5 cm to 30 cm.
31. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่งประกอบต่อไปด้วยวิถีทางการให้ความร้อนล่วงหน้า สำหรับการให้ความร้อนล่วงหน้าแก่ผิวหน้าของ ซับสเทรท ก่อนการเคลือบองค์ประกอบเคลือบที่ เป็น โฟโตคะตะลิสท์31. The device under claim 27, which includes a preheating method for preheating the substrate surface before coating the photocatalyst coating element.
32. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบต่อไปอีกด้วย วิถีทางการทำให้แห้งสำหรับการ ทำให้ซับสเทรทที่ถูกเคลือบด้วยองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์32. The device under claim 27, which includes, further, a drying method for drying substrates coated with a photocatalyst coating element.
33. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบต่อไปอีกด้วย วิถีทางการทำความเย็นสำหรับ การทำให้ผิวหน้าของซับสเทรทที่ร้อนโดยวิถีทางการทำให้ความร้อนเย็นอย่างรวดเร็ว33. The device under claim 27, which includes a cooling pathway for the heating of the substrate surface by a rapid cooling pathway.
34. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบด้วยวิถีทางการบรรทุกสำหรับการเคลื่อนที่ อย่างต่อเนื่อง และการบรรทุกซับสเทรทภายในอุปกรณ์34. The equipment under claim 27, which includes the loading path for continuous movement and the loading of the substrate within the equipment.
35. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่ง วิถีทางการให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกจัดวางทันที ปลายกระแสของวิถีทางการเคลือบ35. Equipment under claim 27 where the rapid heating pathway is immediately positioned at the end of the coating pathway.
36. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งถูกจัดวางทันทีปลายกระแสของอุปกรณ์การผลิต ซับ สเทรท36. Equipment under claim 27, which is placed immediately at the end of the supply chain of the production equipment, substrate.
37. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 34 ที่ซึ่ง วิถีทางบรรทุก คือ สายพานบรรทุก หรือ ลูกกลิ้ง บรรทุก37. Equipment under claim 34 where the load path is a conveyor belt or load rollers.
38. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 37 ที่ซึ่ง วิถีทางบรรทุก คือ สายพานบรรทุกของสายพานทาน ความร้อนที่มีเปอร์เซ็นต์รูเปิดที่ผิวหน้าไม่น้อยกว่า 20% หรือ ลูกกลิ้งบรรทุกของกลุ่มของลูกกลิ้ง38. Equipment under claim 37 where the load trajectory is a load belt of heat-resistant belt with a surface open percentage of not less than 20% or a load roller of a group of rollers.
39. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 37 ที่ซึ่ง สายพานบรรทุก ประกอบด้วย ตาข่ายทนความร้อน ที่มีขนาดรูตาข่ายจนถึง 50 มม. X 50 มม.39. Equipment under claim 37 where the conveyor belt consists of a heat-resistant mesh with mesh hole sizes up to 50 mm x 50 mm.
40. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 37 ที่ซึ่ง ลูกกลิ้งบรรทุก ประกอบด้วย ลูกกลิ้งทนความร้อนที่ มีระยะ 1 ถึง 300 มม.40. Equipment pursuant to claim 37, where the load rollers consist of heat-resistant rollers with a spacing of 1 to 300 mm.
41. วัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ที่ผลิตโดยวิธีการตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 2741. Materials exhibiting photocatalytic activity manufactured by means of claim 1 or by devices of claim 27.
42. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบต่อไปอีกด้วย วิถีทางการเคลือบสำหรับการ เคลือบองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ดังกล่าวบนผิวหน้าของซับสเทรท42. The device under claim 27, which includes further a coating method for coating the aforementioned photocatalyst coating element onto the substrate surface.