TH38058C3 - Process and functional material production equipment With photocatalitic activity - Google Patents

Process and functional material production equipment With photocatalitic activity

Info

Publication number
TH38058C3
TH38058C3 TH9901002829A TH9901002829A TH38058C3 TH 38058 C3 TH38058 C3 TH 38058C3 TH 9901002829 A TH9901002829 A TH 9901002829A TH 9901002829 A TH9901002829 A TH 9901002829A TH 38058 C3 TH38058 C3 TH 38058C3
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
substrate
process according
heating
photocatalytic
photocatalitic
Prior art date
Application number
TH9901002829A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH39280A3 (en
Inventor
โคบายาชิ นายฮิเดกิ
ซาอิคิ นายโยชิมิทสึ
ทานาคา นายชินจิ
นาคาชิมา นายยาซูชิ
มายูมิ นายโยชิทาคา
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
นางสาวสนธยา สังขพงศ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า, นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์, นางสาวสนธยา สังขพงศ์ filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH39280A3 publication Critical patent/TH39280A3/en
Publication of TH38058C3 publication Critical patent/TH38058C3/en

Links

Abstract

DC60 (14/10/42) ที่เปิดเผย คือ วิธีการและอุปกรณ์ถูกจัดให้ ซึ่งสามารถผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีระดับ ที่น่าพอใจของ โฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ อย่างมีประสิทธิภาพ องค์ประกอบเคลือบที่เป็น โฟโตคะตะ ลิสท์ ที่ประกอบด้วยโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือพรีเคอร์เซอร์ ของโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก ถูกเคลือบบนผิวหน้าของซับสเทรท ผิวหน้าของ ซับสเทรท ที่ถูกเคลือบถูกให้ ความร้อนอย่างรวดเร็ว เพื่อตรึงโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก ลงบนผิวหน้าของซับสเทรท การให้ความร้อนอย่างรวดเร็วนี้ สามารถทำให้การผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีระดับที่น่าพอใจของ โฟโต คะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ในวิถีทางที่มีประสิทธิภาพเป็นจริงขึ้นมา อุปกรณ์, ซึ่งสามารถดำเนินการให้ความ ร้อนที่รวดเร็วอย่างต่อเนื่องทันที หลังจากการผลิตซับสเทรท, สามารถผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีโฟโต คะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ในวิธีการที่มีประสิทธิภาพ ที่เปิดเผย คือ วิธีการและอุปกรณ์ถูกจัดให้ ซึ่งสามารถผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีระดับ ที่น่าพอใจของ โฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ อย่างมีประสิทธิภาพ องค์ประกอบเคลือบที่เป็น โฟโตคะตะ ลิสท์ ที่ประกอบด้วยโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือพรีเคอร์เซอร์ ของโลฟะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก ถูกเคลือบบนผิวหน้าของซับสเทรท ผิวหน้าของ ซับสเทรท ที่ถูกเคลือบถูกให้ ความร้อนอย่างรวดเร็ว เพื่อตรึงโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก ลงบนผิวหน้าของซับสเทรท การให้ความร้อนอย่างรวดเร็วนี้ สามารถทำให้การผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีระดับที่น่าพอใจของ โฟโต คะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ในวิถีทางที่มีประสิทธิภาพเป็นจริงขึ้นมา อุปกรณ์, ซึ่งสามารถดำเนินการให้ความ ร้อนที่รวดเร็วอย่างต่อเนื่องทันที หลังจากการผลิตซับสเทรท, สามารถผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ ที่มีโฟโต คะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ในวิธีการที่มีประสิทธิภาพ The DC60 (14/10/42) disclosed are methods and devices being provided. Which can produce functional materials with a satisfactory level of Efficient photocatalytic activity Photocatalyst coating elements containing metal oxides. Photocatalitic And / or pre-cursor Of metal oxides Photocatalitic Is coated on the surface of the substrate The surface of the substrate that is coated is applied Fast heat To freeze metal oxides Photocatalitic Onto the surface of the substrate This rapid heating Can make the production of functional materials A satisfactory level of photocatalytic activity in an efficient way has come true. The device, which can perform Instant heat fast After substrates are produced, functional materials with photocatalytic activity can be produced in an effective method that is disclosed, ie methods and equipment are provided. Which can produce functional materials with a satisfactory level of Efficient photocatalytic activity Photocatalyst coating elements containing metal oxides. Photocatalitic And / or pre-cursor Of lofoxide Photocatalitic Is coated on the surface of the substrate The surface of the substrate that is coated is applied Fast heat To freeze metal oxides Photocatalitic Onto the surface of the substrate This rapid heating Can make the production of functional materials A satisfactory level of photocatalytic activity in an efficient way has come true. The device, which can perform Instant heat fast After substrates are produced, functional materials with photocatalytic activity can be produced in an efficient way.

Claims (2)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : 1. กระบวนการสำหรับการผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่มีโฟโตคะตะลิติกแอคทิวิตี้ ซึ่ง ประกอบด้วยขั้นตอนของ: การเคลือบองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโต- คะตะลิติกบนผิวหน้าของซับสเทรท และ การให้ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทที่ถูกเคลือบอย่างรวดเร็วเพื่อตรึงโลหะออกไซด์ ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกบนผิวหน้าของซับสเทรท ซึ่งมีคุณลักษณะพิเศษที่ว่า การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยวิถีทางการให้ความร้อนที่ถูกจัดไว้ด้วย องค์ประกอบการให้ความร้อนที่มีค่าความร้อนต่อหน่วยพื้นที่ไม่น้อยกว่า 120 MJ/ม.2ชม. และ ระยะระหว่างองค์ประกอบการให้ความร้อน และผิวหน้าของซับสเทรท คือ 5 ถึง 300 มม.และการ ให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการเป็นระยะเวลา 2 ถึง 60 วินาที 2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยการให้ ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทถึง 100 ถึง 800 องศาเซลเซียส 3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 2 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยการให้ ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทถึง 150 ถึง 600 องศาเซลเซียส 4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 3 ที่ซึ่ง ในระหว่างการให้ความร้อนที่รวดเร็ว ซับสเทรทถูก วางในบรรยากาศที่ 100 ถึง 1000 องศาเซลเซียส 5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ในระหว่างการให้ความร้อนที่รวดเร็ว อุณหภูมิการ ให้ความร้อนถูกรักษาไว้ที่จัดว่าคงที่ 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ผิวหน้าของซับสเทรทถูกให้ความร้อนล่วงหน้าก่อน การเคลือบองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ 7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 6 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนล่วงหน้าถูกดำเนินการโดยการให้ ความร้อนแก่ผิวหน้าของซับสเทรทถึง 20 ถึง 400 องศาเซลเซียส 8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง การให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกดำเนินการโดยการ จ่ายพลังงานความร้อนอย่างหนาแน่นเพียงที่ผิวหน้าของซับสเทรท 9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ซับสเทรทที่ถูกเคลือบตัวองค์ประกอบเคลือบที่ เป็นโฟโตคะตะลิสท์ถูกทำให้แห้งก่อนการให้ความร้อนที่รวดเร็ว 1 0. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ผิวหน้าของซับสเทรทที่ถูกให้ความร้อนอย่าง รวดเร็วต่อมาถูกทำให้เย็นอย่างรวดเร็ว 1 1. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกถูกเลือกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วย TiO2, ZnO, SnO2, SrTiO2, WO3, Bi2O3, Fe2O3, และ V2O5 1 2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง พรีเคอร์เซอร์ของโลฟะออกไซด์ที่เป็น โฟโต คะตะลิติก คือ สารประกอบซึ่งมีอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโลหะที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ไททาเนียม, สังกะสี, ดีบุก, สตรอนเทียม, ถูกเปลี่ยนไปเป็นโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก 1 3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ ประกอบต่อไปด้วยตัวประสาน 1 4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 13 ที่ซึ่ง ตัวประสานประกอบด้วย: อย่างน้อยที่สุดสมาชิก ตัวหนึ่งที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอนุภาคออกไซด์อนินทรีย์, พรีเคอร์เซอร์ฟิล์มเรซิน ซิลิโคน ที่สามารถเกิดเป็น ฟิล์มเรซินซิลิโคน และพรีเคอร์เซอร์ฟิล์มซิลิคา ที่สามารถเกิดเป็นฟิล์มซิลิคา และตัวทำละลาย 1 5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 13 ที่ซึ่ง ตัวประสานประกอบด้วย: สมาชิกตัวหนึ่งที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยซิลิคอน, อะลูมินัม, โพแทสเซียม, ลิเธียม, โซเดียม, ซีเซียม, แคลเซียม, แมกนีเซียม, ไททาเนียม, ฟอสฟอรัส, โบรอน, เซอร์โคเนียม, รูยิเดียม, ฟรานเซียม, ยิดเทรียม, ฮาฟเนียม, แลนธาไนด์, และสารประกอบของธาตุดังกล่าว และ อัลคาไลซิลิเคทที่แทนโดยสูตร Me2O-nSiO2 ที่ซึ่ง Me แทนโลหะอัลคาไล 1 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่เป็น อันเดียวกันถูกเคลือบหลายๆครั้งบนผิวหน้าของซับสเทรทเพื่อให้เกิดเป็นผิวเคลือบที่เป็นหลายชั้น หรือ ชั้นซ้อน หรือีกอย่างหนึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่แตกต่างกันจำนวน มากนั้นบนผิวหน้าของซับสเทรท เพื่อเกิดเป็นผิวเคลือบหลายชั้น หรือ ชั้นซ้อน 1 7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: การให้อย่างน้อยที่สุด หนึ่งองค์ประกอบเคลือบที่ประกอบด้วยตัวประสาน และจัดว่าเป็นอิสระจากโลหะออกไซด์ที่เป็น โฟโตคะตะลิติก และพรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และองค์ประกอบเคลือบ ที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก หรือ องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่ ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่ เป็นโฟโตคะตะลิติก และตัวประสาน การเคลือบสารเหล่านี้ไปบนพื้นผิวของซับสเตรตเกิดเป็นผิวเคลือบ หลายชั้น ; และ จากนั้นให้ความร้อนแก่สิ่งประกอบ (asscmbly) อย่างรวดเร็ว 1 8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ ประกอบต่อไปด้วย โลหะ และ/หรือ โลหะออกไซด์ที่เลือกจาก เงิน, ทองแดง, โลหะของกลุ่ม พลาตินัม, และออกไซด์ของโลหะดังกล่าว 1 9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 18 ที่ซึ่งโลหะ และโลหะออกไซด์มีอยู่ในสภาวะที่ถูก รองรับบนผิวหน้าของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก 2 0. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 19 ที่ซึ่งโลหะ และโลหะออกไซด์ถูกรองรับบนผิวหน้าของ โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกโดยการตรึงแบบโฟโตรีดักชั่น ที่ใช้การฉายแสงอัลตรัา- ไวโอเลท 2 1. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ความเข้มข้นของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโต คะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกในองค์ประกอบเคลือบที่ เป็นโฟโตคะตะลิสท์เป็น 0.001 ถึง 35% โดยน้ำหนัก คิดจากของแข็งเป็นฐาน 2 2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์มีตัว ประสานในปริมาณ 0.001 ถึง 100 ส่วนโดยน้ำหนักคิดจาก 1 ส่วนโดยน้ำหนักของโลหะออกไซด์ที่ เป็นโฟโตคะตะลิติก และพรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์เป็นฐาน 2 3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 22 ที่ซึ่ง องค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ที่มีตัว ประสานในปริมาณ 0.1 ถึง 5 ส่วนโดยน้ำหนักคิดจาก 1 ส่วนโดยน้ำหนักของโลหะออกไซด์ที่ เป็นโฟโตคะตะลิติก และพรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกเป็นฐาน 2 4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ซับสเทรททำจากโลหะ, วัสดุอนินทรีย์, วัสดุ อินทรีย์, หรือ วัสดุประกอบของสารเหล่านี้ 2 5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง วัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติก แอ็ควิทิตี้ คือ วัสดุใช้ภายนอก หรือ ภายใน 2 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง วัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ คือ กระเบื้อง, เครื่องใช้เกี่ยวกับสุขอนามัย, เครื่องใช้บนโต๊ะ, บอร์ดแคลเซียมซิลิเคท, วัสดุก่อสร้าง, ซับสเทรท เซรามิค, วัสดุเซมิคอนดักเตอร์, ฉนวน, แก้ว, กระจก 2 7. อุปกรณ์สำหรับการผลิตวัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติกแอคทิวิตี้ ซึ่งอุปกรณ์ ดังกล่าวประกอบด้วย อย่างน้อยหนึ่งวิถีทางการให้ความร้อนที่รวดเร็วสำหรับการให้ความร้อนแก่ผิวหน้าของ ซับสเทรทที่ถูกเคลือบอย่างรวดเร็วด้วยองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโตโตคะตะลิสท์ที่ประกอบด้วย โลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติก และ/หรือ พรีเคอร์เซอร์ของโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโต คะตะลิติกเพื่อตรึงโลหะออกไซด์ที่เป็นโฟโตคะตะลิติกบนผิวหน้าของซับสเทรท ซึ่งมีคุณลักษณะ พิเศษที่ว่า วิถีทางการให้ความร้อนที่รวดเร็วประกอบด้วยอย่างน้อย องค์ประกอบการให้ความร้อนซึ่งค่าความร้อนต่อหน่วยพื้นที่ไม่น้อยกว่า 120 MJ./ม.2ซม. และซึ่งถูกจัดไว้เพื่อว่าระยะระหว่างองค์ประกอบการให้ความร้อน และผิวหน้าของซับสเทรท คือ 5 ถึง 300 มม. ด้วยระยะที่ถูกตรึง หรือ เปลี่ยนแปลงได วัสดุต้านทานความร้อนซึ่งปกคลุมองค์ประกอบการให้ความร้อนในขณะที่ก่อรูปช่องห่าง ความร้อนที่ถูกกำหนดไว้ วิถีทางการยึดสำหรับการยึดซับสเทรทภายในช่องห่างความร้อนเป็นระยะเวลา 2 ถึง 60 วินาที ช่องนำพาเข้าสำหรับการนำพาซับสเทรทเข้าไปในช่องห่างความร้อน และ ช่องนำพาออกสำหรับการนำพาซับสเทรทออกจากช่องห่างความร้อน 2 8. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งดำเนินการวิธีการตามข้อถือสิทธิ 1 2 9. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่ง วิถีทางการให้ความร้อนสามารถคงอุณหภูมิ การให้ ความร้อนไว้ที่ค่าที่จัดว่าคงที่ 3 0. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่ง วิถีทางการให้ความร้อนจะคงอุณหภูมิการให้ความ ร้อนไว้ที่ค่าที่จัดว่าคงที่เหนือความยาวบริเวณ 5 ซม. ถึง 30 ซม. 3 1. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่งประกอบต่อไปด้วยวิถีทางการให้ความร้อนล่วงหน้า สำหรับการให้ความร้อนล่วงหน้าแก่ผิวหน้าของ ซับสเทรท ก่อนการเคลือบองค์ประกอบเคลือบที่ เป็น โฟโตคะตะลิสท์ 3 2. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบต่อไปอีกด้วย วิถีทางการทำให้แห้งสำหรับการ ทำให้ซับสเทรทที่ถูกเคลือบด้วยองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ 3 3. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบต่อไปอีกด้วย วิถีทางการทำความเย็นสำหรับ การทำให้ผิวหน้าของซับสเทรทที่ร้อนโดยวิถีทางการทำให้ความร้อนเย็นอย่างรวดเร็ว 3 4. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบด้วยวิถีทางการบรรทุกสำหรับการเคลื่อนที่ อย่างต่อเนื่อง และการบรรทุกซับสเทรทภายในอุปกรณ์ 3 5. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ที่ซึ่ง วิถีทางการให้ความร้อนที่รวดเร็วถูกจัดวางทันที ปลายกระแสของวิถีทางการเคลือบ 3 6. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งถูกจัดวางทันทีปลายกระแสของอุปกรณ์การผลิต ซับ สเทรท 3 7. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 34 ที่ซึ่ง วิถีทางบรรทุก คือ สายพานบรรทุก หรือ ลูกกลิ้ง บรรทุก 3 8. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 37 ที่ซึ่ง วิถีทางบรรทุก คือ สายพานบรรทุกของสายพานทาน ความร้อนที่มีเปอร์เซ็นต์รูเปิดที่ผิวหน้าไม่น้อยกว่า 20% หรือ ลูกกลิ้งบรรทุกของกลุ่มของลูกกลิ้ง 3 9. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 37 ที่ซึ่ง สายพานบรรทุก ประกอบด้วย ตาข่ายทนความร้อน ที่มีขนาดรูตาข่ายจนถึง 50 มม. X 50 มม. 4 0. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 37 ที่ซึ่ง ลูกกลิ้งบรรทุก ประกอบด้วย ลูกกลิ้งทนความร้อนที่ มีระยะ 1 ถึง 300 มม. 4Disclaimer (all) which will not appear on the advertisement page: 1. The process for the manufacture of photocatalytic activity materials, which consists of the process of: It is a photocatalist consisting of Photocatalytic metal oxides and / or photocataletic metal oxide precursors on the substrates surface and substrate surface heating at It is quickly coated to fix the metal oxide. Which is photocatalitic on the surface of the substrate Which has a special feature that Fast heating is carried out by means of an organized heating method. Heating elements with a heat value per unit area not less than 120 MJ / m 2 hrs and the distance between the heating elements. And the surface of the substrate is 5 to 300 mm, and the rapid heating is performed over a period of 2 to 60 seconds. 2. Process according to claim 1, where rapid heating is performed. Giving The surface of the substrate is heated to 100 to 800 ° C. 3. The process of claim 2 where rapid heating is performed by means of a The surface heating of the substrate to 150 to 600 ° C 4. The process according to claim 3, where during rapid heating the substrate is placed in an atmosphere of 100 to 1000 ° C. 5. Process according to claim 1, where, during rapid heating, the heating temperature is maintained as stable. 6. Process according to claim 1, where the substrate surface is heated. In advance Photocatalyst coating 7. The process of claim 6 where preheating is performed by means of a The surface of the substrate is heated to 20 to 400 ° C. 8. Process according to claim 1, where rapid heating is performed by The heat energy is intensively applied only to the surface of the substrate 9. Process according to claim 1, where the substrate is coated with the coated element. The photocatalyst was dried before rapid heating 1 0. Process according to claim 1, where the surface of the substrate was It is then rapidly cooled. 1 1. Process according to claim 1, where photocatalytic metal oxides are selected from The group consists of TiO2, ZnO, SnO2, SrTiO2, WO3, Bi2O3, Fe2O3, and V2O5 1 2. Process according to claim 1, where the photocatalitic lofoxide precursors are compounds with At least one metal, selected from a group containing titanium, zinc, tin, strontium, was transformed into a photocatalytic metal oxide 1 3. Process according to claim 1, where the coating element at It is a photocatalist. Continued with Interlock 1 4. Process according to claim 13 where the binder consists of: At least members One selected from a group containing inorganic oxide particles, silicone resin film pre-cursor that can form a Silicone resin film And silica film pre-cursor That can form a silica film And solvent 1 5. Process according to claim 13 where the binder consists of: a member selected from a group containing silicon, aluminum, potassium, lithium, sodium, cesium, calcium, magnesium, titanium, Phosphorus, boron, zirconium, ruidium, francium, yidtrium, hafnium, lanthanide, and their compounds and alkalisilicates represented by the formula Me2O-nSiO2 where Me replaces alkali metals 1 6. Process according to claim 1 where the photocatalyst coating element is The same one is coated multiple times on the substrate surface to form a multi-layer or overlap coating, or another. Different photocatalyst coating elements So much on the surface of the substrate To form a multi-layer or overlap. 1 7. The process of claim 1 consists of the steps of: at least giving. One glazed component containing a binder And is classified as free from metal oxides that are Photocatalitic And the photocatalitic metal oxide precursor And glazed elements Which is a photocatalist containing Photocatalytic metal oxides and / or precursors Of photocatalytic metal oxides or photocatalytic coating elements containing photocatalytic metal oxides and / or metal oxide precursors As photocatalytic and binders, these coatings onto the substrate surface form a multi-layer coating; And then quickly heat the assembly (asscmbly) 1 8. Process according to claim 1 where the photocatalyst coating It further consists of metals and / or metal oxides selected from silver, copper, platinum group metals, and their oxides. 1 9. Process according to claim 18 where metal and metal oxides are present in Right condition Support on the photocatalitic metal oxide surface 2 0. Process according to claim 19, where metal and metal oxides are supported on the surface of the photocatalytic metal oxide. Photocatalytic metal oxides by photodynamic fixation 2. The process of claim 1, where the photocatalytic metal oxide concentration and / or the photocatalytic metal oxide precursor are used, is used in the process of claiming 1. Catalytic in the glaze composition The photocatalyst is from 0.001 to 35% by weight, calculated from solid to base 2. 2. Process according to claim 1, where the photocatalyst coating has a Solder in amounts of 0.001 to 100 parts by weight, calculated from 1 part by weight of metal oxides that Is photocatalitic And the photocatalyst-based metal oxide precursor. 2. 3. Process according to claim 22, where the photocatalyst-based coating elements Solder at an amount of 0.1 to 5 parts by weight, calculated from 1 part by weight of the metal oxide that Is photocatalitic 2 4. Process according to claim 1 where substrates are made of metals, inorganic materials, organic materials, or composite materials of a photocatalytic based metal oxide. These substances 2 5. Process according to claim 1, where the photocatalytic active material is external or internal material 2 6. Process according to claim 1, where the material that is Serves with photocatalytic activity: tiles, hygiene appliances, tableware, calcium silicate boards, building materials, ceramic substrates, semiconductor materials. , Insulators, glass, glass 2 7. Equipment for the production of functional materials containing photocatalytic activity, which consists of At least one fast heating path for heating the surface of the A substrate that is rapidly coated with a towering coating composition that includes: Photocatalytic metal oxide and / or photocatalytic metal oxide precursor. Catalytic converters to fix photocatalitic metal oxides on substrates surface Which has a special feature that the rapid heating path consists of at least Heating elements in which the heat value per unit area is not less than 120 MJ./m 2 cm and which is arranged so that the distance between the heating elements And the surface of the substrate is 5 to 300 mm with a fixed or variable distance. Resistive material which covers the heating elements while forming openings. The heat is defined Mounting path for securing the substrates within the heat-spaced compartments for a period of 2 to 60 seconds, an inlet for the introduction of the substrate into the thermal spout, and for the removal of the substrate. From the heat gap 2 8. Equipment according to claim 27, which is carried out in accordance with claim 1 2 9. Equipment according to claim 27, where the heating path can maintain the heating temperature at Classified as constant 3 0. Equipment according to claim 27, where the heating path maintains the heating temperature. The heat is maintained at a fixed value over an area length of 5 cm to 30 cm. 3 1. Equipment according to claim 27, which further consists of the pre-heating path. For pre-heating of substrates before glazing of photocatalyst 3 coating elements 2. Equipment according to claim 27, which is also included. Drying method for Make the substrates coated with photocatalyst 3 coating elements 3. Equipment according to claim 27, which is also included. Cooling method for The surface of the substrate is heated by the rapid-cooling method 3 4. Equipment according to claim 27, which consists of a loading path for movement. Continuously And the loading of substrates inside the device. 3. 5. Equipment according to claim 27, where the rapid heating path was immediately placed. End of flow of coating path 3 6. Equipment according to claim 27, which is positioned immediately at the end of the substrate production equipment 3. 7. Equipment according to claim 34 where the loading route is a carrier belt or load roller 3 8. Equipment according to claim 37, where the loading path is the carrier belt of the resistant belt. Heat with a percentage of surface opening of not less than 20% or a load roller of a group of rollers 3. 9. Equipment according to claim 37, where the loading belt consists of a heat-resistant net. With mesh hole size up to 50 mm X 50 mm 4 0. Equipment according to claim 37 where the load roller consists of a heat resistant roller with a distance of 1 to 300 mm 4. 1. วัสดุที่ทำหน้าที่ที่มีโฟโตคะตะลิติก แอ็คทิวิตี้ ที่ผลิตโดยวิธีการตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 41.Functional materials with photocatalytic activity produced by the method of claim 1 or equipment according to claim 27 4. 2. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 27 ซึ่งประกอบต่อไปอีกด้วย วิถีทางการเคลือบสำหรับการ เคลือบองค์ประกอบเคลือบที่เป็นโฟโตคะตะลิสท์ดังกล่าวบนผิวหน้าของซับสเทรท2. Equipment according to claim 27, which includes further Coating way for Coat the aforementioned photocatalyst coating element on the surface of the substrate.
TH9901002829A 1999-07-29 Process and functional material production equipment With photocatalitic activity TH38058C3 (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH39280A3 TH39280A3 (en) 2000-06-25
TH38058C3 true TH38058C3 (en) 2013-11-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101182119B (en) Low-temperature leadless porcelain enamel composition and preparation method thereof
WO2000006300A1 (en) Method for producing high-performance material having photocatalytic function and device therefor
AU595181B2 (en) Process and apparatus for producing glazed ceramic tiles, and tiles so obtained
WO2019208969A1 (en) Enamel composition, manufacturing method therefor, and cooking utensils
DK2229468T3 (en) Process for making an enamelled steel plate or part
US3389002A (en) Heat and corrosion resistant coating composition
RU2005121142A (en) HEATING DEVICE CONTAINING SELF-CLEANING COATING
TH38058C3 (en) Process and functional material production equipment With photocatalitic activity
TH39280A3 (en) Process and functional material production equipment With photocatalitic activity
CN103333538B (en) A kind of thermal treatment non-oxidation protective cover and coating method
PL149165B1 (en) Method of catalytically purifying gases of low concentration of pollutants
JPH0967181A (en) Antimincrobial ceramic material and its production
RU2069208C1 (en) Composition for applying protecting coating on carbon products
JP3323898B2 (en) Manufacturing method of antibacterial ceramics
RU2052398C1 (en) Composition of enamel coating
JPH0247555B2 (en)
CA2900063A1 (en) Thermal treatment process of a steel sheet comprising a low viscosity molten oxides bath
JPS6029413A (en) Hearth roll for heat treating furnace
JPS63307690A (en) High-temperature oxidation preventing paint for electrode
KR19990053276A (en) Electrical insulation coating method of catalyst body during electric heating
JPH05246784A (en) High-frequency heating element
JPS6075335A (en) Self-cleaning covered body
JPS60141819A (en) Roll for heat treatment furnace
JPS63111185A (en) Enamel coating
JPH0126788Y2 (en)