TH37154A

TH37154A - Method for cleaning porous surfaces and semiconductor surfaces

Info

Publication number: TH37154A
Application number: TH9701002036A
Authority: TH
Inventors: ฟูจิยามา นายยาซูโตโม; คูโมมิ นายฮิเดยะ
Original assignee: นายดำเนิน การเด่น; นายต่อพงศ์ โทณะวณิก; นายวิรัช ศรีเอนกราธา; นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date: 1997-05-28
Publication date: 2000-02-14

Abstract

DC60 (06/08/42) ได้รับการจัดเตรียมจะเป็น วิธีการทำความสะอาดของชั้นฐานสารกึ่งตัวนำ ชนิดรูพรุนโดยไม่มีการเกิดขึ้นมาของการยุบตัว ของโครงสร้างรูพรุน เนื่องมาจากการเป็นโพรง หรือรีโซแนนซ์ ในวิธีการทำความสะอาดของพื้นผิวรูพรุนของชั้นฐานสารกึ่ง ตัวนำที่มีโครง สร้างรูพรุนอย่างน้อยที่สุดในพื้นผิวนี้ การ ทำความสะอาดสำหรับการนำอนุภาคฝุ่นที่ยึดติดกับพื้นผิว รู พรุนของชั้นฐานออกมาจะบังเกิดขึ้นมาด้วยน้ำบริสุทธิ์ซึ่ง คลื่นความถี่สูงพร้อมด้วยความถี่ในช่วง พิสัยจาก 600 กิโลเฮิรตซ์ถึง 2 เมกะเฮิรตซ์จะได้รับการซ้อนทับเข้ามา ได้รับการจัดเตรียมจะเป็น วิธีการทำความสะอาดของชั้นฐานสารกึ่งตัวนำชนิดรูพรุนโดยไม่มีการเกิดขึ้นมาของการยุบตัว ของโครงสร้างรูพรุน เนื่องมาจากการเป็นโพรงหรอืรีโซแนนซ์ ในวิธีการทำความสะอาดของพื้นผิวรูพรุนของชั้นฐานสารกึ่ง ตัวนำที่มีโครงสร้างรูพรุนอย่างน้อยที่สุดในพื้นผิวนี้ การ ทำความสะอาดสำหรับการนำอนุภาคฝุ่นที่ยึดติดกับพื้นผิวรู พรุนของชั้นฐานออกมาจะบังเกิดขึ้นมาด้วยน้ำบริสุทธิ์ซึ่ง คลื่นความถี่สูงพร้อมด้วยความถี่ในช่วงพิสัยจาก 600 กิโลเฮิรตซ์ถึง 2 เมกะเฮิรตซ์จะได้รับการซ้อนทับเข้ามา DC60 (06/08/42) was prepared to be Cleaning method of the semiconductor base layer Porous type without the occurrence of collapse Of porous structures Due to being hollow Or resonance In the cleaning method of the porous surface of the semi-base layer Conductor with frame This cleaning process for removing dust particles attached to the porous surface of the base layer is produced with pure water. High-frequency waves with frequencies in the range from 600 kHz to 2 MHz are superimposed. Be prepared to be The cleaning method of the porous semiconductor base layer without the occurrence of collapse. Of porous structures Due to being hollow or resonance In the cleaning method of the porous surface of the semi-base layer Conductors with the least porous structure in this surface, cleaning for conduction of dust particles attached to the hole surface. The porosity of the base layer is produced with pure water, which High-frequency waves with frequencies in the range from 600 kHz to 2 MHz are superimposed.

Claims

1. Cleaning method of porous surfaces For the cleaning of porous surfaces of a base layer with a highly porous structure. Minimal in the surface of the base layer, in which a cleaning for the removal of dust particles attached to the porous surface of the said base layer occurs. It comes up with pure water on top of which will overlap the frequency High with frequencies in the range from 600 kHz to 2 MHz.

2. The cleaning method of the porous surface corresponds to claim 1, in which the surface of the base layer to be treated. Cleanliness is structured with a tag: