TH31967A - สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งของส่วนที่เหลือที่ถูกลดลงแล้ว - Google Patents

สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งของส่วนที่เหลือที่ถูกลดลงแล้ว

Info

Publication number
TH31967A
TH31967A TH9801002052A TH9801002052A TH31967A TH 31967 A TH31967 A TH 31967A TH 9801002052 A TH9801002052 A TH 9801002052A TH 9801002052 A TH9801002052 A TH 9801002052A TH 31967 A TH31967 A TH 31967A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
amount
mixture
type
effective
anionic
Prior art date
Application number
TH9801002052A
Other languages
English (en)
Inventor
เอ. เคเบิล นางเอลิซาเบ็ธ
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายบุญมา เตชะวณิช
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายบุญมา เตชะวณิช, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH31967A publication Critical patent/TH31967A/th

Links

Abstract

DC60 (07/08/41) การประดิษฐ์ให้สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งที่มีการกำจัดส่วนที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้น แล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำ ให้เกิดฟิล์ม/ริ้วลายอย่างแท้จริง, สารทำความสะอาดดังกล่าว ประกอบ ด้วย (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไอ อย่างน้อยที่สุด 0.001 มม. Hg ที่ 25องศาเซลเซียส, และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว ; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด, หรือสารผสมของสารลด แรงตึงผิวแอนอิออนิค และสารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง ; (c) ปริมาณของระบบบัฟเฟอร์ที่มีประสิทธิภาพซึ่ง ประกอบด้วยไนโตรจินัส บัฟเฟอร์ซึ่งทำให้ เกิดพีเอชมากกว่า 6.5 ; และ (d) ส่วนประกอบที่เหลือเป็นน้ำทั้งหมดอย่างแท้จริง การประดิษฐ์ให้สารทำความสะอาดำนผิวแข็งที่มีการกำจัดที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำ ให้เกิดฟิลม์/ริ้วลายอย่างแท้จริง,สารทำความสะอาดดังกล่าว ประกอบด้วย: (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไออย่างน้อยที่สุด 0.001 มม. Hg ที่25ํซ,และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด, หรือสารผสมของสารลดแรงตึงแอนอิออนิค และสารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง (c) ปริมาณของระบบบัฟเฟอร์ที่มีประสิทธิภาพซึ่ง ประกอบด้วยไนโตรจินัส บัฟเฟอร์ซึ่งทำให้เกิดพีเอชมากกว่า 6.5;และ (d) ส่วนประกอบที่เหลือเป็นน้ำทั้งหมดอย่างแท้จริง :

Claims (1)

1. สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งที่มีการกำจัดส่วนที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำให้เกิด ฟิลม์/ริ้วลายอย่างแท้จริง,สารทำความสะอาดดังกล่าวประกอบ ด้วย: (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไออย่างน้อยที่สุด 0.001 มม.Hg ที่ 25ํซ,และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด,หรือสารผสมของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคและ สารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง; (c) ปริมาณแท็ก :
TH9801002052A 1998-06-03 สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งของส่วนที่เหลือที่ถูกลดลงแล้ว TH31967A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH31967A true TH31967A (th) 1999-02-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY119640A (en) Reduced residue hard surface cleaner
AR012200A1 (es) Composicion distribuible para limpiar superficies duras con remocion de suciedad mejorada, metodo para remover suciedad de una superficie dura, ydispositivo para distribuir dicha composicion
MY118592A (en) Reduced residue hard surface cleaner
CA2107889A1 (en) Reduced residue hard surface cleaner
EP0691397A3 (en) Antimicrobial cleaner for hard surfaces
CA2133889A1 (en) Reduced residue hard surface cleaner
DK1105778T3 (da) Silikatholdige alkaliske sammensætninger til rensning af mikorelektroniske substrater
MX9204734A (es) Composiciones detergentes para superficies duras.
BR0201606A (pt) Limpador de superfìcie dura antimicrobiano lìquido formador de pelìcula/camada não-minimizado ou minimizado, e, processo para limpar uma superfìcie dura
AU2001296947A1 (en) Stabilized alkaline compositions for cleaning microelectronic substrates
CA2377318A1 (en) Detergent composition comprising silicone surfactants for the removal of complex soils
TW370691B (en) Method for removing photoresist and plasma etch residues
AR033130A1 (es) Una formulacion de limpieza de baja espuma y un metodo de limpieza de superficies duras con dicha formulacion
DE60108549D1 (de) Reinigungsmittel für harte Oberflächen
HUP0002976A2 (hu) Keményfelület tisztító készítmény
ATE254167T1 (de) Wasserstoffperoxidhaltiges reinigungsmittel für weiche oberflächen
DE69530692D1 (de) Teppichreinigung- und- regeneriermittel
KR960009041A (ko) 세정제 및 반도체 웨이퍼를 세정하는 방법
ATE291071T1 (de) Flüssige mehrzweckreinigungszusammensetzungen mit wirksamer schaumkontrolle
AR035179A1 (es) Una composicion acidica de limpieza en forma de microemulsion
MX9703154A (es) Composiciones limpiadoras de superficie dura que comprenden aminas protonadas y agentes tensioactivos de oxido de amina.
BR9307515A (pt) Composições de limpeza com tensoativos não iÈnicos altamente hidrofìlicos e altamente hidrofóbicos combinados
WO1998059105A3 (en) Surfactants for use in drying and dry cleaning compositions
TH31967A (th) สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งของส่วนที่เหลือที่ถูกลดลงแล้ว
MY122086A (en) Liquid crystal compositions