TH31967A - สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งของส่วนที่เหลือที่ถูกลดลงแล้ว - Google Patents
สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งของส่วนที่เหลือที่ถูกลดลงแล้วInfo
- Publication number
- TH31967A TH31967A TH9801002052A TH9801002052A TH31967A TH 31967 A TH31967 A TH 31967A TH 9801002052 A TH9801002052 A TH 9801002052A TH 9801002052 A TH9801002052 A TH 9801002052A TH 31967 A TH31967 A TH 31967A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- amount
- mixture
- type
- effective
- anionic
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (07/08/41) การประดิษฐ์ให้สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งที่มีการกำจัดส่วนที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้น แล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำ ให้เกิดฟิล์ม/ริ้วลายอย่างแท้จริง, สารทำความสะอาดดังกล่าว ประกอบ ด้วย (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไอ อย่างน้อยที่สุด 0.001 มม. Hg ที่ 25องศาเซลเซียส, และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว ; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด, หรือสารผสมของสารลด แรงตึงผิวแอนอิออนิค และสารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง ; (c) ปริมาณของระบบบัฟเฟอร์ที่มีประสิทธิภาพซึ่ง ประกอบด้วยไนโตรจินัส บัฟเฟอร์ซึ่งทำให้ เกิดพีเอชมากกว่า 6.5 ; และ (d) ส่วนประกอบที่เหลือเป็นน้ำทั้งหมดอย่างแท้จริง การประดิษฐ์ให้สารทำความสะอาดำนผิวแข็งที่มีการกำจัดที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำ ให้เกิดฟิลม์/ริ้วลายอย่างแท้จริง,สารทำความสะอาดดังกล่าว ประกอบด้วย: (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไออย่างน้อยที่สุด 0.001 มม. Hg ที่25ํซ,และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด, หรือสารผสมของสารลดแรงตึงแอนอิออนิค และสารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง (c) ปริมาณของระบบบัฟเฟอร์ที่มีประสิทธิภาพซึ่ง ประกอบด้วยไนโตรจินัส บัฟเฟอร์ซึ่งทำให้เกิดพีเอชมากกว่า 6.5;และ (d) ส่วนประกอบที่เหลือเป็นน้ำทั้งหมดอย่างแท้จริง :
Claims (1)
1. สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งที่มีการกำจัดส่วนที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำให้เกิด ฟิลม์/ริ้วลายอย่างแท้จริง,สารทำความสะอาดดังกล่าวประกอบ ด้วย: (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไออย่างน้อยที่สุด 0.001 มม.Hg ที่ 25ํซ,และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด,หรือสารผสมของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคและ สารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง; (c) ปริมาณแท็ก :
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH31967A true TH31967A (th) | 1999-02-15 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
MY119640A (en) | Reduced residue hard surface cleaner | |
AR012200A1 (es) | Composicion distribuible para limpiar superficies duras con remocion de suciedad mejorada, metodo para remover suciedad de una superficie dura, ydispositivo para distribuir dicha composicion | |
MY118592A (en) | Reduced residue hard surface cleaner | |
MY111505A (en) | Reduced residue hard surface cleaner | |
DE69533603D1 (de) | Antimikrobieller Reiniger für harte Oberflächen | |
CA2122115A1 (en) | Liquid Hard Surface Detergent Compositions Containing Amphoteric Detergent Surfactant and Specific Anionic Surfactant | |
DK1105778T3 (da) | Silikatholdige alkaliske sammensætninger til rensning af mikorelektroniske substrater | |
MX9204734A (es) | Composiciones detergentes para superficies duras. | |
AU2001296947A1 (en) | Stabilized alkaline compositions for cleaning microelectronic substrates | |
NZ301582A (en) | Aqueous rinsing solution containing non-ionic surfactant and a chelating agent | |
CA2377318A1 (en) | Detergent composition comprising silicone surfactants for the removal of complex soils | |
TW370691B (en) | Method for removing photoresist and plasma etch residues | |
AR033130A1 (es) | Una formulacion de limpieza de baja espuma y un metodo de limpieza de superficies duras con dicha formulacion | |
CA2219669A1 (en) | Self-thickened cleaning compositions | |
DE60108549D1 (de) | Reinigungsmittel für harte Oberflächen | |
HUP0002976A2 (hu) | Keményfelület tisztító készítmény | |
DE69532124D1 (de) | Wasserstoffperoxidhaltiges reinigungsmittel für weiche oberflächen | |
DE69530692D1 (de) | Teppichreinigung- und- regeneriermittel | |
KR960009041A (ko) | 세정제 및 반도체 웨이퍼를 세정하는 방법 | |
AR035179A1 (es) | Una composicion acidica de limpieza en forma de microemulsion | |
MX9703154A (es) | Composiciones limpiadoras de superficie dura que comprenden aminas protonadas y agentes tensioactivos de oxido de amina. | |
ES2124778T5 (es) | Composiciones de limpieza con tensioactivos no ionicos combinados muy hidrofilos y muy hidrofobos. | |
TH31967A (th) | สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งของส่วนที่เหลือที่ถูกลดลงแล้ว | |
MY122086A (en) | Liquid crystal compositions | |
CA2390318A1 (en) | Improved cleaning wipes |