TH31967A - Reduced residual hard surface cleaner - Google Patents

Reduced residual hard surface cleaner

Info

Publication number
TH31967A
TH31967A TH9801002052A TH9801002052A TH31967A TH 31967 A TH31967 A TH 31967A TH 9801002052 A TH9801002052 A TH 9801002052A TH 9801002052 A TH9801002052 A TH 9801002052A TH 31967 A TH31967 A TH 31967A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
amount
mixture
type
effective
anionic
Prior art date
Application number
TH9801002052A
Other languages
Thai (th)
Inventor
เอ. เคเบิล นางเอลิซาเบ็ธ
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายบุญมา เตชะวณิช
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายบุญมา เตชะวณิช, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH31967A publication Critical patent/TH31967A/en

Links

Abstract

DC60 (07/08/41) การประดิษฐ์ให้สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งที่มีการกำจัดส่วนที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้น แล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำ ให้เกิดฟิล์ม/ริ้วลายอย่างแท้จริง, สารทำความสะอาดดังกล่าว ประกอบ ด้วย (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไอ อย่างน้อยที่สุด 0.001 มม. Hg ที่ 25องศาเซลเซียส, และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว ; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด, หรือสารผสมของสารลด แรงตึงผิวแอนอิออนิค และสารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง ; (c) ปริมาณของระบบบัฟเฟอร์ที่มีประสิทธิภาพซึ่ง ประกอบด้วยไนโตรจินัส บัฟเฟอร์ซึ่งทำให้ เกิดพีเอชมากกว่า 6.5 ; และ (d) ส่วนประกอบที่เหลือเป็นน้ำทั้งหมดอย่างแท้จริง การประดิษฐ์ให้สารทำความสะอาดำนผิวแข็งที่มีการกำจัดที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำ ให้เกิดฟิลม์/ริ้วลายอย่างแท้จริง,สารทำความสะอาดดังกล่าว ประกอบด้วย: (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไออย่างน้อยที่สุด 0.001 มม. Hg ที่25ํซ,และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด, หรือสารผสมของสารลดแรงตึงแอนอิออนิค และสารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง (c) ปริมาณของระบบบัฟเฟอร์ที่มีประสิทธิภาพซึ่ง ประกอบด้วยไนโตรจินัส บัฟเฟอร์ซึ่งทำให้เกิดพีเอชมากกว่า 6.5;และ (d) ส่วนประกอบที่เหลือเป็นน้ำทั้งหมดอย่างแท้จริง : DC60 (07/08/41) Invention provides a hard-surface cleaner with improved residual removal. Then significantly reduced and doing For true film / streak formation, such cleaning agents contain (a) the least amount of organic solvent. One effective type with vapor pressure. At least 0.001 mm Hg at 25 ° C, and the aforementioned solvent mixture; (b) the amount of anionic surfactant as At least one type, or mixture of reducing agents Anionic surface tension And one of the effective nonionic surfactants; (c) the amount of an efficient buffer system that Contains nitroginus Buffer which makes Birth pH greater than 6.5; And (d) the rest of the components are literally all water. The invention provides a significantly improved residual removal hard surface cleaning agent and significantly reduces the For true film / streak formation, such cleaning agents contain: (a) minimum amount of organic solvent. One effective type with a vapor pressure of at least 0.001 mm Hg at 25 ํ, and a mixture of such solvents; (b) the amount of anionic surfactant like At least one type, or mixture of anionic surfactants. And one of the effective non-ionic surfactants (c) the amount of an efficient buffer system that Contains nitroginus Buffer, which produces pH greater than 6.5; and (d) the rest of the components are literally all water:

Claims (1)

1. สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งที่มีการกำจัดส่วนที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำให้เกิด ฟิลม์/ริ้วลายอย่างแท้จริง,สารทำความสะอาดดังกล่าวประกอบ ด้วย: (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไออย่างน้อยที่สุด 0.001 มม.Hg ที่ 25ํซ,และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด,หรือสารผสมของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคและ สารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง; (c) ปริมาณแท็ก :1. Hard surface cleaners with significantly improved residual removal and reduced buildup For a truly film / streak, such cleaning agents contain: (a) the amount of at least one organic solvent. Effective type with a vapor pressure of at least 0.001 mm Hg at 25 ํ, and a mix of such solvents; (b) The amount of at least anionic surfactant. One type, or mixture of anionic surfactants and One of the most effective non-ionic surfactants; (c) Tag quantity:
TH9801002052A 1998-06-03 Reduced residual hard surface cleaner TH31967A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH31967A true TH31967A (en) 1999-02-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY119640A (en) Reduced residue hard surface cleaner
MY118592A (en) Reduced residue hard surface cleaner
MY111505A (en) Reduced residue hard surface cleaner
ATE278757T1 (en) ANTIMICROBIAL CLEANER FOR HARD SURFACES
CA2230021A1 (en) Vehicle cleaning and drying compositions
CA2133889A1 (en) Reduced residue hard surface cleaner
DK1105778T3 (en) Silicate-containing alkaline compositions for the purification of micorelectronic substrates
MX9204734A (en) DETERGENT COMPOSITIONS FOR HARD SURFACES.
BR0201606A (en) Antimicrobial Liquid Hard Surface Cleaner Non-minimized or minimized film-forming layer /, and process for cleaning a hard surface
AU2001296947A1 (en) Stabilized alkaline compositions for cleaning microelectronic substrates
NZ301582A (en) Aqueous rinsing solution containing non-ionic surfactant and a chelating agent
CA2377318A1 (en) Detergent composition comprising silicone surfactants for the removal of complex soils
TW370691B (en) Method for removing photoresist and plasma etch residues
AR033130A1 (en) A LOW FOAM CLEANING FORMULATION AND A HARD SURFACE CLEANING METHOD WITH SUCH FORMULATION
HUP0002976A2 (en) Hard surface cleaning composition
DE69532124D1 (en) HYDROGEN PEROXIDE CLEANING AGENT FOR SOFT SURFACES
AR013043A1 (en) LIQUID BLEACHING COMPOSITIONS, PROCESS FOR TREATING, PRE-TREATING FABRICS AND FOR TREATING A HARD SURFACE
KR960009041A (en) Cleaners and Methods for Cleaning Semiconductor Wafers
ATE291071T1 (en) MULTIPURPOSE LIQUID CLEANING COMPOSITIONS WITH EFFECTIVE FOAM CONTROL
MY128956A (en) Acidic cleaning composition
MX9703154A (en) Hard surface cleaning compositions comprising protonated amines and amine oxide surfactants.
WO1998059105A3 (en) Surfactants for use in drying and dry cleaning compositions
TH31967A (en) Reduced residual hard surface cleaner
MY122086A (en) Liquid crystal compositions
DK0716679T3 (en) Process for cleaning vinyl surfaces using lightly acidic hard surface cleaning compositions containing