TH31967A - Reduced residual hard surface cleaner - Google Patents
Reduced residual hard surface cleanerInfo
- Publication number
- TH31967A TH31967A TH9801002052A TH9801002052A TH31967A TH 31967 A TH31967 A TH 31967A TH 9801002052 A TH9801002052 A TH 9801002052A TH 9801002052 A TH9801002052 A TH 9801002052A TH 31967 A TH31967 A TH 31967A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- amount
- mixture
- type
- effective
- anionic
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (07/08/41) การประดิษฐ์ให้สารทำความสะอาดพื้นผิวแข็งที่มีการกำจัดส่วนที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้น แล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำ ให้เกิดฟิล์ม/ริ้วลายอย่างแท้จริง, สารทำความสะอาดดังกล่าว ประกอบ ด้วย (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไอ อย่างน้อยที่สุด 0.001 มม. Hg ที่ 25องศาเซลเซียส, และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว ; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด, หรือสารผสมของสารลด แรงตึงผิวแอนอิออนิค และสารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง ; (c) ปริมาณของระบบบัฟเฟอร์ที่มีประสิทธิภาพซึ่ง ประกอบด้วยไนโตรจินัส บัฟเฟอร์ซึ่งทำให้ เกิดพีเอชมากกว่า 6.5 ; และ (d) ส่วนประกอบที่เหลือเป็นน้ำทั้งหมดอย่างแท้จริง การประดิษฐ์ให้สารทำความสะอาดำนผิวแข็งที่มีการกำจัดที่เหลือที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้วอย่างมีนัยสำคัญและลดการทำ ให้เกิดฟิลม์/ริ้วลายอย่างแท้จริง,สารทำความสะอาดดังกล่าว ประกอบด้วย: (a) ปริมาณของตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดที่มีประสิทธิภาพที่มีความดันไออย่างน้อยที่สุด 0.001 มม. Hg ที่25ํซ,และสารผสมของตัวทำละลายดังกล่าว; (b) ปริมาณของสารลดแรงตึงผิวแอนอิออนิคอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด, หรือสารผสมของสารลดแรงตึงแอนอิออนิค และสารลดแรงตึงผิวไร้อิออนที่มีประสิทธิภาพอย่างใดอย่างหนึ่ง (c) ปริมาณของระบบบัฟเฟอร์ที่มีประสิทธิภาพซึ่ง ประกอบด้วยไนโตรจินัส บัฟเฟอร์ซึ่งทำให้เกิดพีเอชมากกว่า 6.5;และ (d) ส่วนประกอบที่เหลือเป็นน้ำทั้งหมดอย่างแท้จริง : DC60 (07/08/41) Invention provides a hard-surface cleaner with improved residual removal. Then significantly reduced and doing For true film / streak formation, such cleaning agents contain (a) the least amount of organic solvent. One effective type with vapor pressure. At least 0.001 mm Hg at 25 ° C, and the aforementioned solvent mixture; (b) the amount of anionic surfactant as At least one type, or mixture of reducing agents Anionic surface tension And one of the effective nonionic surfactants; (c) the amount of an efficient buffer system that Contains nitroginus Buffer which makes Birth pH greater than 6.5; And (d) the rest of the components are literally all water. The invention provides a significantly improved residual removal hard surface cleaning agent and significantly reduces the For true film / streak formation, such cleaning agents contain: (a) minimum amount of organic solvent. One effective type with a vapor pressure of at least 0.001 mm Hg at 25 ํ, and a mixture of such solvents; (b) the amount of anionic surfactant like At least one type, or mixture of anionic surfactants. And one of the effective non-ionic surfactants (c) the amount of an efficient buffer system that Contains nitroginus Buffer, which produces pH greater than 6.5; and (d) the rest of the components are literally all water:
Claims (1)
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH31967A true TH31967A (en) | 1999-02-15 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
MY119640A (en) | Reduced residue hard surface cleaner | |
MY118592A (en) | Reduced residue hard surface cleaner | |
MY111505A (en) | Reduced residue hard surface cleaner | |
ATE278757T1 (en) | ANTIMICROBIAL CLEANER FOR HARD SURFACES | |
CA2230021A1 (en) | Vehicle cleaning and drying compositions | |
CA2133889A1 (en) | Reduced residue hard surface cleaner | |
DK1105778T3 (en) | Silicate-containing alkaline compositions for the purification of micorelectronic substrates | |
MX9204734A (en) | DETERGENT COMPOSITIONS FOR HARD SURFACES. | |
BR0201606A (en) | Antimicrobial Liquid Hard Surface Cleaner Non-minimized or minimized film-forming layer /, and process for cleaning a hard surface | |
AU2001296947A1 (en) | Stabilized alkaline compositions for cleaning microelectronic substrates | |
NZ301582A (en) | Aqueous rinsing solution containing non-ionic surfactant and a chelating agent | |
CA2377318A1 (en) | Detergent composition comprising silicone surfactants for the removal of complex soils | |
TW370691B (en) | Method for removing photoresist and plasma etch residues | |
AR033130A1 (en) | A LOW FOAM CLEANING FORMULATION AND A HARD SURFACE CLEANING METHOD WITH SUCH FORMULATION | |
HUP0002976A2 (en) | Hard surface cleaning composition | |
DE69532124D1 (en) | HYDROGEN PEROXIDE CLEANING AGENT FOR SOFT SURFACES | |
AR013043A1 (en) | LIQUID BLEACHING COMPOSITIONS, PROCESS FOR TREATING, PRE-TREATING FABRICS AND FOR TREATING A HARD SURFACE | |
KR960009041A (en) | Cleaners and Methods for Cleaning Semiconductor Wafers | |
ATE291071T1 (en) | MULTIPURPOSE LIQUID CLEANING COMPOSITIONS WITH EFFECTIVE FOAM CONTROL | |
MY128956A (en) | Acidic cleaning composition | |
MX9703154A (en) | Hard surface cleaning compositions comprising protonated amines and amine oxide surfactants. | |
WO1998059105A3 (en) | Surfactants for use in drying and dry cleaning compositions | |
TH31967A (en) | Reduced residual hard surface cleaner | |
MY122086A (en) | Liquid crystal compositions | |
DK0716679T3 (en) | Process for cleaning vinyl surfaces using lightly acidic hard surface cleaning compositions containing |