TH259A - สารผสมกำบังสารบัดกรี - Google Patents

สารผสมกำบังสารบัดกรี

Info

Publication number
TH259A
TH259A TH8101000034A TH8101000034A TH259A TH 259 A TH259 A TH 259A TH 8101000034 A TH8101000034 A TH 8101000034A TH 8101000034 A TH8101000034 A TH 8101000034A TH 259 A TH259 A TH 259A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
approximately
mixtures
weight
aforementioned
acrylate
Prior art date
Application number
TH8101000034A
Other languages
English (en)
Other versions
TH2203B (th
Inventor
อาร์. โรห์ลอฟฟ์ นายโนเบิร์ต
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH259A publication Critical patent/TH259A/th
Publication of TH2203B publication Critical patent/TH2203B/th

Links

Abstract

สารผสมโพลิเมอไรซ์แสงได้ ซึ่งใช้ในการพิมพ์ด้วยแบบปรุได้และมีประโยชน์ทางใช้การเป็นเครื่องกำบังสารบักกรี สารผสม นี้ประกบขึ้นเป็นอย่างน้อยด้วยแอริคออกซีแอลคิล แอคริเลทโ มโนเมอร์ หรือพรีโพลิเมอร์ ตัวเจือจางไดแอคริเลท โมโนเมอร์ ที่มีหมู่ทำหน้าที่เดี่ยว และระบบเริ่มปฏิกิริยาทำให้เกิด อนุมูลเสรี

Claims (1)

  1. ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :(1) สารผสมโพลิเมอร์ไรซ์ได้ด้วยแสงซึ่งใช้ในการพิมพ์ด้วยแบบปรุได้อันประกอบขึ้นเป้นอย่างน้อย (ก) ตั้งแต่ประมาณ 15 ถึงประมาณ 85% โดยน้ำหนักของสารแอริ คออกซีแอคคิล แอคริเลท ซึ่งมีสูตรทั่วไปเป็น (สูตรเคมี) (ข) ตั้งแต่ประมาณ 15 ถึงประมาณ 85% โดยน้ำหนักของตัวเจือ จางไคแอคริเลท (ค) ปริมาณอันมีประสิทธิภาพของโมโนเมอร์ที่มีหมู่ทำหน้า ที่เกี่ยว ซึ่งเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย สไตรีนและสาร อุปมานซึ่งมีหมู่ทำหน้าที่เกี่ยวข้อมัน และ (ง) ระบบสารเริ่มปฏิกิริยาให้กำเนินอนุมุลเสรี เพื่อการโพ ลิเมอไรซ์เพิ่มเติม (2) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่ง แอริคออกซีแอลคิล แอคริเคท ดังกล่าว ประกอบขึ้นเป็นตั้งแต่ ประมาณ 15 ถึงประมาณ 40% โดยน้ำหนักของสารผสมดังกล่าว (3) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่ง ตัวเจือจางไคแอคริเลท ดังกล่าวประกอบขึ้นเป็นตั้งแต่ประมาณ 15 ถึงประมาณ 70% โดยน้ำหนักของสารผสมดังกล่าว (4) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่ง อัตราส่วนโดยน้ำหนักของตัวเจือจาง ไอแอคริเลท ดังกล่าว ต่อ แอริคุออกซีแอลคิล แอรีเลท ดังกล่าว เป็นประมาณ 1 ต่อ 3 และซี่งโมโนเมอร์ที่มีหมู่ทำหน้าที่เกี่ยวดังกล่าวประกอบ ขึ้นเป็นตั้งแต่ประมาณ 1 ถึงประมาณ 50% โดยน้ำหนักของสาร ผสมดังกล่าว (5) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่ง อัตราส่วนของตัวเจือจ่างไอแอคริเลทดังกล่าว แต่แอริลลอกซี แอลคิล แอคริเลทดังกล่าว เป็นประมาณตั้งแต่ 1 ต่อถึง 3 ต่อ 1 และซึ่งโมโนเมอร์ที่มีหมู่ทำหน้าที่เกี่ยวดังกล่าวประกอบ ขึ้นเป็นตั้งแต่ประมาณ 1 ถึงประมาณ 30% โดยน้ำหนักของสาร ผสมดังกล่าว (6) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่ง ตัวเจือจางไดแอคริเลทดังกล่าวได้เลือกจากลุ่มซึ่งประกอบ ด้วย 1 3-บิวทิลีนไกลคอล ไดแอคริลิท ไทรเอธิคีนไกลคอล ไค แอคริเลท และเพทราเอธิลีนไกลคอล ไดแอคริเลท (7) สารผสมโพลิเมอไรซ์ได้ด้วยแสง ตามข้อถือสิทธิ (1) ซึ่งโมโนเมอร์ที่มีหมู่ทำหน้าที่เคี่ยว เป้นไวนิลทอคูลีน (ข้อถือสิทธิ 7 ข้อ, 2 หน้า, 0 รูป)
TH8101000034A 1981-02-20 สารผสมกำบังสารบัดกรี TH2203B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH259A true TH259A (th) 1982-04-16
TH2203B TH2203B (th) 1991-03-22

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5678834A (en) Photographic sensitive material
JPS5666841A (en) Photographic material
KR940014470A (ko) 포지티브 포토레지스트로서 유용한 중합체 및 이를 포함하는 조성물
US4260768A (en) Copolymerizable, ultraviolet light absorber 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-alkylphenol acrylic acid esters
KR830006157A (ko) 플루오로카본 비닐 에테르의 제조방법 및 생성플리머
EP0738744A3 (en) Cross-linked polymers
JPS5557842A (en) Antistatic silver halide photographic material
JPS54133583A (en) Preparation of polymer
KR880003398A (ko) 레지스트 재료
TH259A (th) สารผสมกำบังสารบัดกรี
KR960017796A (ko) 메트아크릴산 트리플루오로에틸을 주성분으로 하는 광(光) 교차결합 가능 조성물과 그 제조방법
US4297470A (en) Image forming process
JPS5575458A (en) Emulsion composition for baking type paint
KR970048906A (ko) 감광성 수지 조성물
ES2062331T3 (es) Metacrilato o acrilato de tiol y resina a partir de los mismos.
EP0205319A3 (en) Polymer composition for photoresist application
JPS5759920A (en) Photocrosslinkable resin composition
US4095019A (en) Free radical polymerization process utilizing novel initiators
JPS6448059A (en) Photoresist composition
TH2203B (th) สารผสมกำบังสารบัดกรี
JPS56166270A (en) Resin composition for road marking
JPS5767664A (en) Film forming assistant composition for vinyl polymeric aqueous emulsion
JPS54155835A (en) Photographic element
JPS55116782A (en) Antiblock agent and its use
JPS5567746A (en) Silver halide photographic material having undergone destaticizing