TH2001007286A - The patent has not yet been advertised. - Google Patents

The patent has not yet been advertised.

Info

Publication number
TH2001007286A
TH2001007286A TH2001007286A TH2001007286A TH2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
mass
group
represented
compound
ions
Prior art date
Application number
TH2001007286A
Other languages
Thai (th)
Inventor
นายเททสึจิอาเบะ
นายยูจิมาซาโมโตะ
นายยูตะโนกูชิ
นายฮิโรยูคิชิบะ
Original Assignee
อาเดกะคอร์ปอเรชั่น
Filing date
Publication date
Application filed by อาเดกะคอร์ปอเรชั่น filed Critical อาเดกะคอร์ปอเรชั่น
Publication of TH2001007286A publication Critical patent/TH2001007286A/en

Links

Abstract

บทสรุปการประดิษฐ์ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณาReadFile:สิ่งที่ถูกจัดให้ไว้คือองค์ประกอบที่เป็นประโยชน์สำหรับการกัดผิวชั้นโลหะ,เช่นชั้นที่มีพื้นฐานเป็นทองแดง,องค์ประกอบที่ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่ละเอียดที่มีสภาพเชิงเส้นสูงและที่เป็นเลิศในด้านความแม่นยำของขนาดในขณะที่ระงับการเกิดฟิล์มตกค้างองค์ประกอบนั้นเป็นสารละลายที่เป็นน้ำที่ประกอบด้วย:(A)0.1ถึง25%โดยมวลของอย่างน้อยหนึ่งส่วนประกอบซึ่งถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยคิวปริกไอออนและเฟอร์ริกไอออน;(B)0.1ถึง30%โดยมวลของคลอไรด์ไอออน;(C)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(1)(R1แทนพันธะเดี่ยว,หรือที่คล้ายกันนั้น,R2และR3แต่ละตัวแทนหมู่C1-4แอลคิลีนโซ่ตรงหรือโซ่กิ่ง,R4และR5แต่ละตัวแทนอะตอมไฮโดรเจน,หรือที่คล้ายกันนั้น,และnแทนจำนวนที่ทำให้นํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยตามจำนวน550ถึง1,400)ที่มีนํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยตามจำนวนของ550ถึง1,400;(D)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(2)(R6แทนหมู่n-บิวทิล,R7แทนหมู่C2-4แอลคิลีน,และmแทนจำนวนเต็ม1ถึง3);และนํ้า(สูตรเคมี)(1)(สูตรเคมี)(2) The fabrication summary which appears on the ReadFile advertisement page: It is provided as a useful element for surface milling of metal layers, such as copper-based layers, elements that allow for the formation of fine textures. Highly linear and excellent in size accuracy while suppressing residual film formation, the composition is an aqueous solution containing:(A)0.1 to 25% by mass of at least one of the selected components. From the group composed of cupric ions and ferric ions;(B)0.1 to 30% by mass of chloride ions;(C)0.01 to 10% by mass of compound, which is represented by the following formula (1)( R1 represents a single bond, or similar, R2 and R3 each represent a C1-4 alkylene chain or branched chain, R4 and R5 each represent a hydrogen atom, or the like, and n represents a number. (D) 0.01 to 10% by mass of the compound, which is represented by the following formula (2) (R6 represents the group n-butyl, R7 represents group C2-4 alkylene, and m represents integers 1 to 3); and water (chemical formula)(1) (chemical formula) (2).

Claims (1)

ข้อถือสิทธิ์(ข้อที่หนึ่ง)ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา:Claims (item one) which will appear on the advertisement page: 1.องค์ประกอบที่เป็นลารละลายที่เป็นน้ำที่ประกอบรวมด้วย:(A)0.1ถึง25%โดยมวลของอย่างน้อยหนึ่งส่วนประกอบซึ่งถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยคิวปริกไอออนและเฟอร์ริกไอออน;(B)0.1ถึง30%โดยมวลของคลอไรด์ไอออน;(C)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(1),สารประกอบที่มีนํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยตามจำนวนของ550ถึง1,400;(D)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(2):(สูตรเคมี)(1)ที่ซึ่งR1แทนพัน1. Aqueous solubility constituents consisting of: (A)0.1 to 25% by mass of at least one component chosen from a group consisting of cupric ions and ferric ions; (B)0.1 to 30% by mass of chloride ions; (C) 0.01 to 10% by mass of compound, which is represented by the following formula (1), compounds with a mean molecular weight of 550 to 1,400; (D) 0.01 to 10% by mass of the compound, which is represented by the following formula (2):(chemical formula)(1) where R1 represents thousands.
TH2001007286A 2019-05-28 The patent has not yet been advertised. TH2001007286A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH2001007286A true TH2001007286A (en) 2022-02-07

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200834234A (en) Radiation-sensitive resin compositions
TW200508360A (en) Aluminum chelate complex for organic EL material
EP1273629A4 (en) ANTISTATIC COMPOSITION
EP1826196A3 (en) Vinyl ether compounds
NO20073122L (en) Non-aqueous, non-corrosive microelectronics cleaning formulations
ATE298362T1 (en) LINEAR COMPOUNDS CONTAINING PHENOL AND SALICYLIC ACID UNITS
WO2008093821A1 (en) Polymer light-emitting device, polymer compound, composition, liquid composition, and conductive thin film
DK2038321T3 (en) Unsaturated polyester resin compositions
BRPI0514058A (en) compositions for cleaning microelectronic substrates
MY144564A (en) Antifouling coating composition and its use on man made structures
MX383476B (en) STORAGE-STABLE ANTI-CORROSION FORMULATIONS.
AR069800A1 (en) DERIVATIVES 5- AMINOCICLILMETIL - OXAZOLIDIN-2- ONA
TW200600971A (en) Calixresorcinarene compounds, photoresist base materials, and compositions thereof
AR043205A1 (en) BENEFIT DERIVATIVES REPLACED WITH MACROCICLIC TRIMEROS
JP2005146110A5 (en)
TH2001003838A (en) Composition and method of etching the skin
JP2006282695A5 (en)
EA200201209A1 (en) ANTI-TUMOR ANALOGUES ET-743
AR134811A1 (en) CLEANING COMPOSITIONS
TH123606A (en) Constituents containing cyclopene and metal complexing agents
TH1801003569A (en) Process for the preparation of chelates (PROCESS FOR THE PREPARATION OF A QUELATING AGENT)
TH1901003900A (en) Cleaning agent for steel plates
SU389160A1 (en) COPPER BASED ALLOY
AR068611A1 (en) BIOCIDED COMPOSITIONS
TH170710A (en) Stable anti-corrosive formula, storage