TH2001007286A - สิทธิบัตรยังไม่ประกาศโฆษณา - Google Patents

สิทธิบัตรยังไม่ประกาศโฆษณา

Info

Publication number
TH2001007286A
TH2001007286A TH2001007286A TH2001007286A TH2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
mass
group
represented
compound
ions
Prior art date
Application number
TH2001007286A
Other languages
English (en)
Inventor
นายเททสึจิอาเบะ
นายยูจิมาซาโมโตะ
นายยูตะโนกูชิ
นายฮิโรยูคิชิบะ
Original Assignee
อาเดกะคอร์ปอเรชั่น
Filing date
Publication date
Application filed by อาเดกะคอร์ปอเรชั่น filed Critical อาเดกะคอร์ปอเรชั่น
Publication of TH2001007286A publication Critical patent/TH2001007286A/th

Links

Abstract

บทสรุปการประดิษฐ์ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณาReadFile:สิ่งที่ถูกจัดให้ไว้คือองค์ประกอบที่เป็นประโยชน์สำหรับการกัดผิวชั้นโลหะ,เช่นชั้นที่มีพื้นฐานเป็นทองแดง,องค์ประกอบที่ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่ละเอียดที่มีสภาพเชิงเส้นสูงและที่เป็นเลิศในด้านความแม่นยำของขนาดในขณะที่ระงับการเกิดฟิล์มตกค้างองค์ประกอบนั้นเป็นสารละลายที่เป็นน้ำที่ประกอบด้วย:(A)0.1ถึง25%โดยมวลของอย่างน้อยหนึ่งส่วนประกอบซึ่งถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยคิวปริกไอออนและเฟอร์ริกไอออน;(B)0.1ถึง30%โดยมวลของคลอไรด์ไอออน;(C)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(1)(R1แทนพันธะเดี่ยว,หรือที่คล้ายกันนั้น,R2และR3แต่ละตัวแทนหมู่C1-4แอลคิลีนโซ่ตรงหรือโซ่กิ่ง,R4และR5แต่ละตัวแทนอะตอมไฮโดรเจน,หรือที่คล้ายกันนั้น,และnแทนจำนวนที่ทำให้นํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยตามจำนวน550ถึง1,400)ที่มีนํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยตามจำนวนของ550ถึง1,400;(D)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(2)(R6แทนหมู่n-บิวทิล,R7แทนหมู่C2-4แอลคิลีน,และmแทนจำนวนเต็ม1ถึง3);และนํ้า(สูตรเคมี)(1)(สูตรเคมี)(2)

Claims (1)

ข้อถือสิทธิ์(ข้อที่หนึ่ง)ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา:
1.องค์ประกอบที่เป็นลารละลายที่เป็นน้ำที่ประกอบรวมด้วย:(A)0.1ถึง25%โดยมวลของอย่างน้อยหนึ่งส่วนประกอบซึ่งถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยคิวปริกไอออนและเฟอร์ริกไอออน;(B)0.1ถึง30%โดยมวลของคลอไรด์ไอออน;(C)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(1),สารประกอบที่มีนํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยตามจำนวนของ550ถึง1,400;(D)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(2):(สูตรเคมี)(1)ที่ซึ่งR1แทนพัน
TH2001007286A 2019-05-28 สิทธิบัตรยังไม่ประกาศโฆษณา TH2001007286A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH2001007286A true TH2001007286A (th) 2022-02-07

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200834234A (en) Radiation-sensitive resin compositions
TW200508360A (en) Aluminum chelate complex for organic EL material
EP1273629A4 (en) Antistatic composition
EP1826196A3 (en) Vinyl ether compounds
NO20073122L (no) Ikke-vandige, ikke-korrosive mikroelektronikk-renseformuleringer
ATE298362T1 (de) Lineare verbindungen enthaltend phenol und salicylsäure-einheiten
WO2008093821A1 (ja) 高分子発光素子、高分子化合物、組成物、液状組成物及び導電性薄膜
DK2038321T3 (da) Umættede sammensætninger af polyesterharpiks
BRPI0514058A (pt) composições para limpeza de substratos microeletrÈnicos
MY144564A (en) Antifouling coating composition and its use on man made structures
MX383476B (es) Formulaciones anti-corrosion estables al almacenamiento.
AR069800A1 (es) Derivados 5- aminociclilmetil - oxazolidin-2- ona
TW200600971A (en) Calixresorcinarene compounds, photoresist base materials, and compositions thereof
AR043205A1 (es) Derivados de benceno sustituidos con trimeros macrociclicos
JP2005146110A5 (th)
TH2001003838A (th) องค์ประกอบและวิธีการกัดผิว
JP2006282695A5 (th)
EA200201209A1 (ru) Противоопухолевые аналоги ет-743
AR134811A1 (es) Composiciones limpiadoras
TH123606A (th) องค์ประกอบที่มีไซโคลโปรปีนและสารที่ทำให้เกิดสารเชิงซ้อนของโลหะ
TH1801003569A (th) กระบวนการสำหรับการเตรียมสารคีเลต (process for the preparation of a quelating agent)
TH1901003900A (th) องค์ประกอบสารทำความสะอาดสำหรับแผ่นเหล็กกล้า
SU389160A1 (ru) Сплав на основе меди
AR068611A1 (es) Compposiciones biocidas
TH170710A (th) สูตรตำรับต้านการกัดกร่อนที่มีเสถียรภาพการการเก็บรักษา