TH19602A - "วิธีการเคลือบแก้วและแก้วที่ถูกเคลือบโดยวิธีดังกล่าว" - Google Patents

Abstract

กรรมวิธีของการขึ้นรูปด้วยความร้อนของการเคลือบที่มีซิลิก้า ประกอบอยู่บนวัสดุ ฐานแก้วที่อุณหภูมิที่สูงขึ้น ไซเลน ออกซิเจน และก๊าซตัวจับแรดดิคอล และก๊าซตัวพาถูกรวม เป็นส่วนผสมสารตั้งต้น และสารตั้งต้น ถูกให้โดยตรง และไปตามผิวหน้าของวัสดุฐานแก้วที่ ร้อน การมีปรากฏอยู่ของตัวจับแรดดิคอล ยินยอมให้ไซเลน ซึ่งเป็นไพโรโฟริค ถูกผสมเข้า กับออกซิเจนก่อน โดยไม่เกิดการจุดระเบิด และปฏิกริยายังไม่ถึงอุณหภูมิช่วงการทำงาน ตัว จับแรดดิคอลยังคงจัดให้มีขึ้นซึ่งการควบคุมต่อการทำให้เกิดปฏิกริยาการจับเกาะไอสารเคมี สูงสุด (CVD) บนวัสดุแก้ว โดยจะดีกว่าแล้วการรวมของวัสดุตั้งต้นที่ประกอบด้วย โมโนไซ เลนและออกซิเจน กับเอทธิลีน เป็นตัวจับแรดดิคอล และประกอบด้วย ไนโตรเจน เป็น ก๊าซตัวพา

Claims (1)

1. กระบวนการสำหรับการเกาะจับของสารเคลือบซิลิก้าบนวัสดุฐานแก้วที่ได้รับ ความร้อนแล้วประกอบด้วยขั้นตอนของ a) การจัดให้มีวัสดุฐานแก้วที่ได้รับความร้อนแล้วที่ผิวหน้าที่จะถูกเกาะจับด้วย สารเคลือบ b) การผสมล่วงหน้าของไซเลน ก๊าซตัวจับแรดดิคอล ออกซิเจน และก๊าซตัวพาที่ เฉื่อยเพื่อทำเป็นส่วนผสมตั้งต้น การนำส่วนผสมตั้งต้นไปยังและตามแนวผิวหน้าที่จะถูกเคลือบใน ลักษณะการไหลแบบลามินาร์ และการทำปฏิกิริยาของส่วนผสมที่หรือใกล้กับผิวหน้าเพื่อให้เกิด เป็นสารเคลือบซิลิก้า ตัวจับแรดดิคอลจะมีอยู่ในปริมาณที่มีอัตราส่วนของตัวจับแรดดิคอลต่อไซเลน อยู่ระหว่าง 3 ต่อ 1 และ 17 ต่อ 1 และ c) การทำให้วัสดุฐานแก้วที่ถูกเคลือบเย็นลงถึงอุณหภูมิโดยรอบ 2. กระบวนการสำหรับการเกาะจับของการเคลือบที่มีซิลิก้าลงบนวัสดุฐานแก้วตาม ที่ถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 1 ประกอบด้วย d) ก่อนขั้นตอน b) การจับเกาะลงบนผิวหน้าการเคลือบของซิลิคอนโลหะออกไซด์ หรือโลหะไนไตร์ด (metallic nitride) 3. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าลงบนวัสดุฐานแก้วตาม ข้อถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 1 ประกอบด้วย d) ภายหลังขั้นตอน b) การจับเกาะลงบนผิวหน้าการเคลือบของซิลิกอนโลหะ ออกไซด์ หรือโลหะไนไตร์ด 4. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าลงบนวัดุฐานแก้วตาม ข้อถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 2 ประกอบด้วย e) ภายหลังขั้นตอน d) การจับเกาะลงบนผิวหน้าการเคลือบของซิลิกอนโลหะ ออกไซด์ หรือโลหะไนไตร์ด 5. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าลงตามข้อถือสิทธิไว้ ในข้อถือสิทธิข้อ 3 ประกอบด้วย e) ภายหลังขั้นตอน d) ที่ซึ่งแผ่นชั้นของซิลิกอน โลหะออกไซด์ หรือโลหะไนไตร์ด ถูกจับเกาะ ขั้นตอนของการทำซ้ำขั้นตอน b) เพื่อจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าครั้งที่สองลงบนแผ่น ชั้นของซิลิกอน โลหะออกไซด์หรือโลหะไนไตร์ด 6. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าตามที่ขอถือสิทธิไว้ใน ข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งไซเลนที่มีอยู่ในส่วนผสมสารตั้งต้นเป็นโมโนไซเลน (SiH4) 7. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าตามที่ขอถือสิทธิใน ข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งก๊าซตัวจับแรดดิคอลในส่วนผสมสารตั้งต้นจะถูกเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย เอทธิลีน และโพรไพลีน 8. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าตามที่ขอถือสิทธิใน ข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ซึ่งก๊าซตัวจับแรดดิคอลเป็นเอทธิลีน 9. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าตามที่ขอถือสิทธิใน ข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งไซเลนนี้เป็นโมโนไซเลน (SiH4) และตัวจับแรดดิคอลนี้เป็นเอทธิลีน (C2H4) 1 0. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าตามที่ขอถือสิทธิใน ข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไซเลนในส่วนผสมสารตั้งต้นอยู่ประมาณระหว่าง 0.05% และ 3% โดยปริมาตร 1 1. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าตามที่ขอถือสิทธิใน ข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่งความเข้นข้นของออกซิเจนในส่วนผสมสารตั้งต้นอยู่ประมาณระหว่าง 0.15% และ 9% โดยปริมาตร 1 2. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าตามที่ข้อถือสิทธิใน ข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่งอัตราส่วนของเอทธิลีน/ไซเลนจะอยู่ประมาณระหว่าง 3 ถึง 1 และ 17 ถึง 1 และความเข้มข้นของออกซิเจนจะอยู่ประมาณระหว่าง 0.15% และ 9% โดยปริมาตร 1 3. กระบวนการสำหรับการจับเกาะของการเคลือบที่มีซิลิก้าตามที่ขอถือสิทธิใน ข้อถือสิทธิข้อ 12 โดยที่อัตราส่วนของเอทธิลีน/ไซเลนจะเป็นประมาณ 9 ถึง 1 1 4. กรรมวิธีของการผลิตวัสดุฐานแผ่นแก้วที่มีสารเคลือบซิลิก้าบนผิวหน้าหนึ่งของ สิ่งดังกล่าวประกอบด้วยขั้นตอนของ a) การคงรักษาวัสดุฐานแผ่นแก้วไว้ที่อุณหภูมิอย่างน้อยประมาณ 1050 ํ ฟ, (566 ํซ.) ในบรรยากาศนัน-ออกซิไดซ์ซิ่ง (non-oxidizing atmosphere) b) การผสมล่วงหน้าของไซเลน ก๊าซตัวจับแรดดิคอล ออกซิเจน และก๊าซตัวพาที่ เฉื่อยเพื่อทำเป็นส่วนผสมตั้งต้นที่เป็นก๊าซ การนำส่วนผสมไปยังและตามแนวผิวหน้าหนึ่งดังกล่าว ในลักษณะการไหลแบบลามินาร์ และการทำปฏิกิริยาของส่วนผสมที่หรือใกล้กับผิวหน้าหนึ่งดังกล่าว เพื่อให้เกิดเป็นสารเคลือบซิลิก้า ตัวจับแรดดิคอลจะมีอยู่ในปริมาณที่มีอัตราส่วนของตัวจับแรดดิคอล ต่อไซเลนอยู่ระหว่าง 3 ต่อ 1 และ 17 ต่อ 1 และ c) การเอาวัสดุฐานแก้วที่ถูกเคลือบแล้วออกจากบรรยากาศนัน-ออกซิไดซ์ซิ่งและ การทำให้วัสดุฐานที่เคลือบแล้วเย็นลงถึงอุณหภูมิรอบ 1 5. กรรมวิธีของการผลิตวัสดุฐานแผ่นแก้วที่การเคลือบ มีซิลิก้าอยู่บนผิวหน้าด้าน หนึ่งนั้น ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 14 ประกอบด้วยขั้นตอนภายหลัง a) และก่อน b) ของ การจับเกาะไปยังผิวหน้าด้านหนึ่งดังกล่าว การเคลือบนี้จะเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยซิลิกอน โลหะ ออกไซด์ และโลหะไนไตรด์ 1 6. กรรมวิธีของการผลิตวัสดุฐานแผ่นแก้วที่การเคลือบ มีซิลิก้าอยู่บนผิวลหน้าด้าน หนึ่งนั้น ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 14 ประกอบด้วยขั้นตอนภายหลัง b) ของการจับเกาะไป ยังผิวหน้าด้านหนึ่งดังกล่าว การเคลือบนี้จะเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยซิลิกอน โลหะออกไซด์ และ โลหะไนไตรด์ 1 7. กรรมวิธีสำหรับการผลิตวัสดุฐานแผ่นแก้วที่การเคลือบ มีซิลิก้าอยู่บนผิวหน้า ด้านหนึ่งนั้น ตามที่ขอถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 14 ในที่ซึ่งบรรยากาศนั้น-ออกซิไดซ์ซึ่งดังกล่าว ประกอบด้วยส่วนผสมของไนโตรเจน และไฮโดรเจนซึ่งไนโตรเจนจะเป็นพรีโดมิเนท (preclominate) ไซเลนดังกล่าวจะประกอบด้วยโมโนไซเลน ก๊าซตัวจับแรดดิคอลดังกล่าวจะประกอบด้วยเอธิลีน และก๊าซเฉื่อยตัวพาประกอบด้วยไนโตรเจน 1 8. กรรมวิธีสำหรับการผลิตวัสดุฐานแผ่นแก้วที่การเคลือบ มีซิลิก้าอยู่บนผิวหน้า ด้านหนึ่งนั้น ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 17 ที่ซึ่งความเข้มข้นของในโนไซเลนอยู่ประมาณ ระหว่าง 0.05% และ 3.0% ของก๊าซตั้งต้นโดยปริมาตร ความเข้มข้นของออกซิเจนอยู่ประมาณระหว่าง 0.15% และ 9% โดยปริมาตรของก๊าซตั้งต้น และอัตราส่วนของเอทธิลีน/ไซเลนจะอยู่ประมาณระหว่าง 3 ถึง 1 และ 17 ถึง 1 1 9. กรรมวิธีสำหรับการผลิตวัสดุฐานแผ่นแก้วที่การเคลือบ มีซิลิก้าอยู่บนผิวหน้า ด้านหนึ่งนั้น ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 18 ที่ซึ่งความเข้มข้นของในโนไซเลนอยู่ประมาณ ระหว่าง 0.6% และ 1.0% ความเข้มข้นของออกซิเจนอยู่ประมาณระหว่าง 1.0% และ 7% และอัตรา ส่วนของเอทธิลีน/ไซเลนจะอยู่ประมาณระหว่าง 3 ถึง 1 และ 12 ถึง 1 2 0. กระบวนการสำหรับการเกาะจับของสารเคลือบที่มีซิลิก้าบนวัสดุฐานแก้วที่ ได้รับความร้อนแล้วและประกอบด้วยขั้นตอนของ a) การจัดให้มีวัสดุฐานแก้วที่ได้รับความร้อนแล้วที่มีผิวหน้าที่จะถูกเกาะจับด้วย สารเคลือบ b) การผสมล่วงหน้าของไซเลน ก๊าซตัวจับแรดดิคอล ออกซิเจน และก๊าซตัวพาที่ เฉื่อยเพื่อทำเป็นส่วนผสมตั้งต้น c) การคงรักษาส่วนผสมไว้ที่อุณหภูมิอย่างน้อย 200 ํฟ. การนำส่วนผสมไปยัง และตามแนวผิวหน้าที่จะถูกเคลือบในลักษณะการไหลแบบลามินาร์ และการทำปฏิกิริยาของส่วน ผสมที่หรือใกล้กับผิวหน้าเพื่อทำให้เกิดเป็นสารเคลือบที่มีซิลิก้า ตัวจับแรดดิคอลจะมีอยู่ในปริมาณ ที่มีอัตราส่วนของตัวจับแรดดิคอลต่อไซเลนอยู่ระหว่าง 3 ต่อ 1 และ 17 ต่อ 1 และ d) การทำให้วัสดุฐานแก้วที่ถูกเคลือบเย็นลงจนถึงอุณหภูมิโดยรอบ 2

1. กรรมวิธีของการผลิตวัสดุฐานแผ่นแก้วที่มีสารเคลือบที่มีซิลิก้าบนผิวหน้าหนึ่ง ของสิ่งดังกล่าวประกอบด้วยขั้นตอนของ a) การคงรักษาวัสดุฐานแผ่นแก้วไว้ที่อุณหภูมิอย่างน้อยประมาณ 1050 ํฟ. (566 ํซ.) ในบรรยากาศนัน-ออกซิไดซ์ซิ่ง b) การผสมล่วงหน้าของไซเลน ก๊าซตัวจับแรดดิคอล ออกซิเจน และก๊าซตัวพาที่ เฉื่อยเพื่อทำเป็นส่วนผสมตั้งต้นที่เป็นก๊าซ การนำส่วนผสมไปยังและตามแนวผิวหน้าที่หนึ่งดังกล่าว และการทำปฏิกิริยาของส่วนผสมที่หรือใกล้กับผิวหน้าหนึ่งดังกล่าวเพื่อทำให้เกิดเป็นสารเคลือบที่มี ซิลิก้า ตัวจับแรดดิคอลจะมีอยู่ในปริมาณที่มีอัตราส่วนของตัวจับแรดดิคอลต่อไซเลนอยู่ระหว่าง 3 ต่อ 1 และ c) การเอาวัสดุฐานแก้วที่ถูกเคลือบแล้วออกจากบรรยากาศนัน- ออกซิไดซ์ซิ่ง และ การทำให้วัสดุฐานที่เคลือบแล้วเย็นลงถึงอุณหภูมิโดยรอบ