TH19557A

TH19557A - โพลิเมอริค ฟิล์ม

Info

Publication number: TH19557A
Application number: TH9501000865A
Authority: TH
Inventors: โนเอลสตีเฟน แบร็บบ์ส นาย; มาร์ตินไรท์ นาย; วิลเลียมเจมส์ เบรนแนน นาย
Original assignee: นาย ธเนศเปเรร่า; นาย โรจน์วิทย์เปเรร่า; นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Filing date: 1995-04-19
Publication date: 1996-07-16

Abstract

?????????? ?????????????????????????????????????????????????????????????? ????????? ?????????????????????????? / ???????????? ??????? ??????????????????? ????????? ???????????????????????????? / ?????????????????? 0.1 ??? 100/1 ???????????????????? ???????????????????????????????????? ??????????/??????????? ???????????????????????? ??????????????????????????????????????????????????????????????????????? ??????????????? ?????????????????????

Claims

1. โพลิเมอริค ฟิล์มซึ่งประกอบด้วยชั้นที่เป็นซับสเทรทของวัสดุ โพลิเอสเทอร์ ซึ่งมีพื้นผิวของมันอย่างน้อยหนึ่งด้านที่มีชั้นที่ต้านไฟฟ้าสถิตได้ ซึ่งประกอบด้วย โพลิเอสเทอร์/โพลิ แอลคิลีน ออกไซด์ โคโพลิเมอร์และเกลือ ซึ่งอัตราส่วนโดยน้ำหนักของโคโพลิเมอร์ / เกลืออยู่ ในช่วงจาก 0.1 ถึง 100/1

2. โพลิเมอริค ฟิล์มตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งอัตราส่วนของโพลิเอสเทอร์/ โพลิแอลคิลีน ออกไซด์ โคโพลิเมอร์ ต่อเกลืออยู่ในช่วงจาก 1 ถึง 50:1 โดยน้ำหนัก

3. โพลิเมอริค ฟิล์มตามข้อถือสิทธิข้อ 1 และ 2 ซึ่งเกลือนั้นประกอบด้วย เกลือของโลหะแอลคาไล

4. โพลิเมอริค ฟิล์มตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งเกลือของโลหะแอลคาไลนั้น ประกอบด้วย ลิเทียม แคทไอออน

5. โพลิเมอริค ฟิล์มตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ผ่านมา ซึ่งเกลือนั้น ประกอบด้วย ซัลโฟเนท แอนไอออน

6. โพลิเมอริค ฟิล์มตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ผ่านมา ซึ่งเกลือนั้น มีน้ำหนักโมเลกุลน้อยกว่า 600

7. โพลิเมอริค ฟิล์มตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ผ่านมา ซึ่งอัตราส่วน ของจำนวนโมลของส่วนประกอบชนิดโพลิแอลคิลีน ออกไซด์ โมโนเมอร์ของโคโพลิเมอร์คือ แอลคิลีน ออกไซด์ ต่อเกลือจะอยู่ในช่วงจาก 0.2 ถึง 250:1

8. โพลิเมอริค ฟิล์มตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ผ่านมา ซึ่ง ยูนิทที่ซ้ำ ๆ กันในโพลิเอสเทอร์เหมือนกันนั้นมีอยู่ทั้งในโพลิเอสเทอร์/โพลิแอลคิลีน ออกไซด์ โคโพลิเมอร์ และโพลิเอสเทอร์ของชั้นที่เป็นซับสเทรท

9. โพลิเมอริค ฟิล์มตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ผ่านมาซึ่งส่วนประกอบ ที่เป็นแอลคิลีน ออกไซด์ของโคโพลิเมอร์นั้นประกอบด้วยโพลิ เอธิลีน ออกไซด์

10. วิธีการผลิตโพลิเมอริค ฟิล์มโดยการทำให้เกิดเป็นชั้นที่เป็นซับสเทรท ของวัสดุโพลิเอสเทอร์ และการใช้กับพื้นผิวของมันอย่างน้อยหนึ่งด้านด้วยชั้นที่ต้านไฟฟ้าสถิต ซึ่ง ประกอบด้วยโพลิเอสเทอร์ / โพลีแอลคิลีน ออกไซด์ โคโพลิเมอร์และเกลือซึ่งอัตราส่วนโดยน้ำหนัก ของโคโพลิเมอร์ / เกลือ อยู่ในช่วงจาก 0.1 ถึง 100/1