TH14372EX - เครื่องมือสำหรับการกระทำด้วยพลาสมาว่องไวและวิธีการ - Google Patents
เครื่องมือสำหรับการกระทำด้วยพลาสมาว่องไวและวิธีการInfo
- Publication number
- TH14372EX TH14372EX TH9201001181A TH9201001181A TH14372EX TH 14372E X TH14372E X TH 14372EX TH 9201001181 A TH9201001181 A TH 9201001181A TH 9201001181 A TH9201001181 A TH 9201001181A TH 14372E X TH14372E X TH 14372EX
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- plasma
- agile
- methods
- reaction chamber
- plasma action
- Prior art date
Links
Abstract
เครื่องมือสำหรับกระทำด้วยพลาสมามีประโยชน์สำหรับการเคลือบสับสเตรทเข้ากับฟิล์มบางที่มีสมบัติเป็นขั้นกั้นโอในอัตราการพอกพูนที่ค่อนข้าเร็ว เครื่องมือนี้ประกบด้วยห้องทำปฏิกิริยาที่เอาอากาศออกได้ อีเลคโทรดพลังไฟฟ้าที่กำหนดพื้นผิวที่หันหน้าเข้หาพลาสมาภายในห้องทำปฏิกิริยาและส่วนกำบังที่กั้นเป็นช่องที่มีระยะห่าง ตามขวางจากพื้นผิวที่หันหน้าเชข้หาพลาสมา ในช่วงระหว่างการกระทำด้วยพลาสมาพลาสมาจะได้รักบารกัดให้อยู่ห่างในระยะ ในขณะที่มีการป้อนสับสเตรทอย่างต่อเนื่องสู่พลาสมาที่ได้รับการกักไว้
Claims (1)
1.เครื่องมือสำหรับกระทำด้วยพลาสมาที่ประกอบด้วย ห้องทำปฏิกิริยาที่ระบายอากาศออกได้; อุปกรณ์สำหรับสร้างพลาสมาภายในห้องทำปฏิกิริยา โดยอุปกรณ์สำหรับสร้างพลาสมาประกอบด้วยอีเลคโรดที่ทำงานด้วยไฟฟ้าที่กำหนดพื้นผิวที่อยู่ประชิดกับพลาสมาภายในห้องทำปฏิกิริยา อุปกรณ์สำหรับเชื่อมต่อไฟฟ้าจากอีเลคโรดไปยังสับสเทรตหนึ่ง ๆ เสมื่อสับสเท:
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH14372EX true TH14372EX (th) | 1994-06-30 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ID1054B (id) | Peralatan untuk mengolah plasma dengan cepat dan metodanya | |
| GB1534833A (en) | Method for depositing thin layers of materials by decomposing a gas to yield a plasma | |
| US20060156983A1 (en) | Low temperature, atmospheric pressure plasma generation and applications | |
| AU7958591A (en) | Process and device for coating substrate material | |
| TW347553B (en) | Plasma treatment apparatus | |
| FR2412619B1 (th) | ||
| JP2005531147A5 (th) | ||
| AU2933189A (en) | Procedure and apparatus for the coating of materials by means of a pulsating plasma beam | |
| MX9701062A (es) | Proceso y aparato para la deposicion de plasma por chorro. | |
| EP0822584A3 (en) | Method of surface treatment of semiconductor substrates | |
| JPWO2007105428A1 (ja) | プラズマ発生装置用ノズル、プラズマ発生装置、プラズマ表面処理装置、プラズマ発生方法およびプラズマ表面処理方法 | |
| EP0658918A3 (en) | Plasma processing apparatus | |
| EP0178071B1 (en) | Moisture sensor and process for producing same | |
| JPS5684476A (en) | Etching method of gas plasma | |
| JPS5915982B2 (ja) | 放電化学反応装置 | |
| JPS62103372A (ja) | プラズマを使用した化学蒸気堆積による薄膜形成方法および装置 | |
| JPH03183781A (ja) | 薄膜被着方法及び装置 | |
| TH14372EX (th) | เครื่องมือสำหรับการกระทำด้วยพลาสมาว่องไวและวิธีการ | |
| JPH04236781A (ja) | プラズマｃｖｄ装置 | |
| GR3034871T3 (en) | Method and apparatus for cleaning a metal substrate | |
| JPS6442574A (en) | Arc power source device for vacuum arc discharge type pvd device | |
| JPH11236676A (ja) | 常圧放電プラズマ処理方法 | |
| EP0909837A3 (en) | Chemical vapor deposition apparatus and cleaning method thereof | |
| JPS57167630A (en) | Plasma vapor-phase growing device | |
| JPS57161057A (en) | Chemical vapor phase growth device using plasma |