TH134805A

TH134805A - ห้องปฏิกิริยา

Info

Publication number: TH134805A
Application number: TH1101001541A
Authority: TH
Inventors: นาคาทานิ นายโยชิฮิโระ
Original assignee: ซูมิโตโม เฮฟวี่ อินดัสทรีส แอลทีดี; นางสาวปวริศา อุดมธนภัทร; นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์; นางสาววรรษิกา ฟักมีทอง
Filing date: 2010-02-18
Publication date: 2014-06-11

Abstract

DC60(15/08/54) มันเป็นวัตถุเพื่อจัดทำห้องปฏิกิริยาที่สามารถทำได้ของการยับยั้งการแยกของซับในทนความ ร้อน ห้องปฏิกิริยาผนังด้านข้าง(5)มี:ส่วนผนังน้ำด้านบนแนวตั้งโดยมาก(5a)ในส่วนบนของห้อง ปฏิกิริยา,หลอด(51)ในผนังน้ำซึ่งอยู่รวมอยู่กับครีบ(53)เพื่อจัดทำผนังน้ำส่วนผนังด้านล่าง(5c)ซึ่ง ถูกทำเป็นเส้นกับซับในทนความร้อน(55)ในส่วนล่างของห้องปฏิกิริยาและส่วนผนังน้ำส่วนกลาง(5b) ระหว่างส่วนผนังน้ำด้านบน(5a)และส่วนผนังด้านล่าง(5c)ซึ่งถูกทำเป็นเส้นกับซับในทนความ ร้อน(55),ซึ่งมีลักษณะดังนี้ส่วนน้อยของหลอด(51)ในผนังน้ำที่ส่วนผนังน้ำส่วนกลาง(5b)ซึ่งถูกทำให้ โค้งลงไปเช่นเดียวกับออกไปด้านนอกซึ่งทำมุมระนาบแนวตั้งและผิวหน้าปลายด้านบน(21)ของซับ ในทนความร้อน(55)เป็นพื้นผิวแนวนอน มันเป็นวัตถุเพื่อจัดทำห้องปฏิกิริยาที่สามารถทำได้ของการยับยั้งการแยกของซับในทนความ ร้อน ห้องปฏิกิริยาผนังด้านข้าง(5)มี:ส่วนผนังน้ำด้านบนแนวตั้งโดยมาก(5a)ในส่วนบนของห้อง ปฏิกิริยา,หลอด(51)ในผนังน้ำซึ่งอยู่รวมอยู่กับครีบ(53)เพื่อจัดทำผนังน้ำส่วนผนังด้านล่าง(5c)ซึ่ง ถูกทำเป็นเส้นกับซับในทนความร้อน(55)ในส่วนล่างของห้องปฏิกิริยาและส่วนผนังน้ำส่วนกลาง(5b) ระหว่างส่วนผนังน้ำด้านบน(5a)และส่วนผนังด้านล่าง(5c)ซึ่งถูกทำเป็นเส้นกับซับในทนความ ร้อน(55),ซึ่งมีลักษณะดังนี้ส่วนน้อยของหลอด(51)ในผนังน้ำที่ส่วนผนังน้ำส่วนกลาง(5b)ซึ่งถูกทำให้ โค้งลงไปเช่นเดียวกับออกไปด้านนอกซึ่งทำมุมระนาบแนวตั้งและผิวหน้าปลายด้านบน(21)ของซับ ในทนความร้อน(55)เป็นพื้นผิวแนวนอน

Claims

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :------16/01/2562------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้าข้อถือสิทธิ 1. ห้องปฏิกิริยาในเครื่องปฏิกรณ์แบบฟลูอิดไดซ์เบดที่มีตะแกรงที่ด้านล่างของห้องปฏิกิริยาและผนังที่กำหนดขอบเขตห้องปฏิกิริยาในแนวนอน ผนังที่มี ส่วนผนังน้ำด้านบนคล้ายจะเป็นแนวตั้งในส่วนด้านบนของห้องปฏิกิริยา ท่อในผนังนํ้าจำนวนหนึ่งที่จะถูกรวมกับครีบหรือถาดแบนเพื่อทำขึ้นเป็นผนังน้ำ ส่วนผนังด้านล่างที่บุด้วยวัสดุทนความร้อนในส่วนด้านล่างของห้องปฏิกิริยา และ ส่วนผนังนํ้าส่วนกลางระหว่างส่วนผนังนํ้าด้านบนและส่วนผนังด้านล่างที่บุด้วยวัสดุทนความร้อน ที่ซึ่งผนังน้ำในส่วนผนังน้ำส่วนกลางโค้งลงไปเช่นเดียวกับออกไปด้านนอกที่ทำมุมกับแนวระนาบแนวตั้ง และ ผิวหน้าปลายด้านบนของวัสดุบุทนความร้อนเป็นพื้นผิวแนวนอน วัสดุทนความร้อนที่มีพื้นผิวที่ลาดเอียงซึ่งถูกทำขึ้นเพื่อที่จะถูกวางตำแหน่งบนด้านในของผิวหน้าปลายด้านบน และเพื่อให้ลงมาข้างใน และ เส้นแนวสันที่ทำขึ้นเป็นขอบเขตระหว่างผิวหน้าปลายด้านบนและพื้นผิวที่ลาดเอียงของวัสดุบุทนความร้อนที่จะถูกวางตำแหน่งด้านนอกระนาบแนวตั้งเสมือนที่หนึ่งตามครีบในส่วนผนังน้ำด้านบนและที่จะถูกวางตำแหน่งด้านนอกระนาบแนวตั้งเสมือนที่สองที่จะสัมผัสจากด้านในเมื่อเทียบกับพื้นผิวรอบวงรอบนอกของท่อผนังน้ำในส่วนผนังด้านล่าง ------------

1. ห้องปฏิกิริยาในเครื่องปฏิกรณ์แบบฟลูอิดไดซ์เบดซึ่งมีตะแกรงที่ด้านล่างของห้องปฏิกิริยา และผนังซึ่งกำหนดห้องปฏิกิริยาในแนวนอน ผนังมี ส่วนผนังน้ำด้านบนแนวตั้งโดยมากในส่วนด้านบนของห้องปฏิกิริยา หลอดในผนังน้ำซึ่งถูก รวมกับครีบหรือถาดแบนเพื่อทำเป็นผนังน้ำ ส่วนผนังด้านล่างเส้นทนความร้อนในส่วนด้านล่างของห้องปฏิกิริยา และ ส่วนผนังน้ำส่วนกลางระหว่างส่วนผนังน้ำด้านบนและส่วนผนังด้านล่างเส้นทนความร้อน ในที่ซึ่งผนังน้ำในส่วนผนังน้ำส่วนกลางถูกทำให้โค้งลงไปเช่นเดียวกับออกไปด้านนอกซึ่งทำมุม ระนาบแนวตั้ง และ ผิวหน้าปลายด้านบนของซับในทนความร้อนเป็นพื้นผิวแนวนอน

2. ห้องปฏิกิริยาตามที่ข้อถือสิทธิ์ 1 ในที่ซึ่งซับในทนความร้อนมีพื้นผิวชันซึ่งถูกทำเพื่ออยู่ใน ตำแหน่งบนด้านในของผิวหน้าปลายด้านบน และเพื่อลงไปทางด้านใน

3. ห้องปฏิกิริยาตามที่ข้อถือสิทธิ์ 1 หรือ 2 ในที่ซึ่งผิวหน้าปลายด้านบนของชับในทนความร้อน อยู่ในตำแหน่งด้านนอกระนาบแนวตั้งโดยแท้ไปตามครีบในส่วนผนังน้ำด้านบน