TH118333A - วิธีการสร้างลวดลายบนแผ่นฐานด้วยเทคนิคทริมมิ่งลิโธรกราฟี - Google Patents
วิธีการสร้างลวดลายบนแผ่นฐานด้วยเทคนิคทริมมิ่งลิโธรกราฟีInfo
- Publication number
- TH118333A TH118333A TH1101001717A TH1101001717A TH118333A TH 118333 A TH118333 A TH 118333A TH 1101001717 A TH1101001717 A TH 1101001717A TH 1101001717 A TH1101001717 A TH 1101001717A TH 118333 A TH118333 A TH 118333A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- pattern
- trimming
- baseboard
- create
- lithography technique
- Prior art date
Links
Abstract
OCR 18/01/2567 การประดิษฐ์นี้มุ่งเน้นที่การลดขนาดของลายวงจร เพิ่มความหนาแน่นของลายวงจร และเพิ่ม พื้นที่ผิวของลวดลายบนชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงด้วยกระบวนการทริมมิ่งลิโธรกราฟี ซึ่งเป็นเทคนิคที่ใช้การ ฉายแสงตั้งแต่ 2 ครั้ง ขึ้นไป โดยมีการปรับเปลี่ยนค่าพลังงานในการฉายแสงแต่ละครั้ง ให้สอดคล้องกับ ระยะการเลื่อนตำแหน่งของชิ้นงาน และระยะการเลื่อนตำแหน่งของชิ้นงานดังกล่าว ยังต้องมี ความสัมพันธ์กับขนาดลายวงจรที่ได้ออกแบบไว้ โดยเทคนิคดังกล่าวจะใช้การเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไว แสง และล้างลายเพียงครั้งเดียว
Claims (1)
1. วิธีการสร้างลวดลายบนแผ่นฐานที่มีผิวหน้าด้านหนึ่งเคลือบฟิล์มน้ำยาไวแสงประกอบด้วย ขั้นตอน ก.การฉายแสงครั้งที่หนึ่ง(Firstexposure)ผ่านแผ่นกระจกต้นแบบ(Photomask)ที่ตำแหน่งที่หนึ่ง (0,0)ด้วยค่าพลังงานฉายแสงE1 ข.การเลื่อนแผ่นกระจกต้นแบบไปที่ตำแหน่งที่สอง(0,-y1) ค.การฉายแสงครั้งที่สอง(Secondexposure)ผ่านแผ่นกระจกต้นแบบครั้งที่สองด้วยค่าพลังงานฉาย แสงE2 โดยมีลักษณะเฉพาะคือหลังจากขั้นตอนค.ประกอบด้วยขั้นตอน ง.การเลื่อนกระจกต้นแบบไปที่ตำแท็ก :
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH118333A true TH118333A (th) | 2012-11-30 |
| TH98717B TH98717B (th) | 2024-02-06 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SG11201807712YA (en) | Method for manufacturing reflective mask blank, reflective mask blank, method for manufacturing reflective mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device | |
| IL284859A (en) | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device | |
| JP2014186333A5 (ja) | 透過型マスクブランク、透過型マスク及び半導体装置の製造方法 | |
| MY207003A (en) | Method for forming resist pattern, method for manufacturing printed wiring board, photosensitive resin composition for projection exposure and photosensitive element | |
| EP3614206A4 (en) | Photosensitive composition for euv light, pattern forming method, and method for producing electronic device | |
| JP2009539252A5 (th) | ||
| JP2015502668A5 (th) | ||
| IN2014DN03390A (th) | ||
| TW200608152A (en) | Method for manufacturing a microstructure, exposure device, and electronic apparatus | |
| JP2016122684A5 (th) | ||
| TW201129872A (en) | Pattern forming method and composition for forming resist underlayer film | |
| IL278023A (en) | A photosensitive composition for EUV light, a method for patterning and a method for producing an electronic device | |
| WO2010030018A3 (en) | Pattern forming method and device production method | |
| MY174577A (en) | Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminate | |
| WO2011123433A3 (en) | Method of slimming radiation-sensitive material lines in lithographic applications | |
| JP2015212720A5 (th) | ||
| EP2707776A4 (en) | POSITIVE LACQUER COMPOSITION AND PAINTING FILM, PAINT-COATED MASK ROLLING, PAINT-STRUCTURE-FORMING METHOD AND PHOTOMASK WITH THE COMPOSITION | |
| JP2017227936A5 (ja) | 多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法及び反射型マスクの製造方法 | |
| SG155147A1 (en) | Methods for enhancing photolithography patterning | |
| JP2014135417A5 (th) | ||
| ATE551633T1 (de) | Strukturbildungsverfahren | |
| JP2015065308A5 (th) | ||
| RU2010131745A (ru) | Рентгенолитографический шаблон и способ его изготовления | |
| EP2641730A3 (en) | Methods for fabricating a retroreflector tooling and retroreflective microstructures and devices thereof | |
| WO2013010111A3 (en) | Nanoimprint lithography |