TH110703A - แผ่นอลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็บประจุชนิดอิเลกโตรไลติก - Google Patents

แผ่นอลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็บประจุชนิดอิเลกโตรไลติก

Info

Publication number
TH110703A
TH110703A TH801005776A TH0801005776A TH110703A TH 110703 A TH110703 A TH 110703A TH 801005776 A TH801005776 A TH 801005776A TH 0801005776 A TH0801005776 A TH 0801005776A TH 110703 A TH110703 A TH 110703A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
etched
electrolytic capacitors
saturated
solid electrolyte
aluminum foil
Prior art date
Application number
TH801005776A
Other languages
English (en)
Inventor
โคบายาชิ นายทาคายูคิ
อิโซเบะ นายมาซาชิ
คาทาโนะ นายมาซาฮิโคะ
โยชิดะ นายยูยะ
Original Assignee
นางสาวปวริศา อุดมธนภัทร
นางสาวปัณณพัฒน์ เหลืองธาตุทอง
นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์
นิปปอน ไลท์ เมทอล คอมพานี
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปวริศา อุดมธนภัทร, นางสาวปัณณพัฒน์ เหลืองธาตุทอง, นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์, นิปปอน ไลท์ เมทอล คอมพานี filed Critical นางสาวปวริศา อุดมธนภัทร
Publication of TH110703A publication Critical patent/TH110703A/th

Links

Abstract

DC60 แผ่นอลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็บประจุชนิดอิเลกโตรไลติกจะถูกผลิตเพื่อให้ค่า ความจุไฟฟ้าสูงถูกได้เมื่ออัตราส่วนการกัดขึ้นรอยสูงและสารอิเลกโตรไลต์แข็งถูกทำให้อิ่มตัวโดยที่ แผ่นอลูมิเนียมที่มีความบริสุทธิ์ 99.98% โดยมวลหรือมากกว่าจะถูกการกัดขึ้นรอยทางเคมีไฟฟ้า ด้วยกระแสไฟฟ้าสลับ และแผ่นอลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็บประจุชนิดอิเลกโตรไลติกซึ่ง บริเวณที่ถูกกัดขึ้นรอย (3) มีความหนาแน่นความจุ 0.6 ถึง 1.2 (1) จะถูกได้ เมื่อหน้าตัดของผิวที่ ตำแหน่งลึกมากกว่า 20 ไมโครเมตรจากผิวในบริเวณที่ถูกกัดขึ้นรอย (3) ถูกวัดโดยการใช้เครื่อง วิเคราะห์ภาพเงา จำนวนของหลุมที่มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 0.01 ถึง 1 ไมโครเมตรเมื่อเส้นผ่าศูนย์ กลางของหลุมถูกแปลงเป็นวงกลมจะเป็น 70% หรือมากกว่าเทียบกับจำนวนรวมของหลุมสำหรับ แต่ละหนึ่งของผิวการวัดซึ่งทำให้เป็นไปได้ที่จะได้ค่าความจุไฟฟ้าสูงเมื่ออัตราส่วนการกัดขึ้นรอยสูง และสารอิเลกโตรไลต์แข็งถูกทำให้อิ่มตัว แผ่นอลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็บประจุชนิดประจุชนิดอิเลกโตรไลติกจะถูกผลิตเพื่อให้ค่า ความจุไฟฟ้าสูงถูกได้เมื่ออัตราส่วนการกัดขึ้นรอยสูงและสารอิเลกโตรไลต์แข็งถูกทำให้อิ่มตัวโดยที่ แผ่นอลูมิเนียมที่มีความบริสุทธิ์ 99.98% โดยมวลหรือมากกว่าจะถูกการกัดขึ้นรอยทางเคมีไฟฟ้า ด้วยกระแสไฟฟ้าสลับ และแผ่นอลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็บประจุชนิดอิเลกโตรไลติกซึ่ง บริเวณที่ถูกกัดขึ้นรอย (3) มีความหนาแน่นความจุ 0.6 ถึง 1.2 (1) จะถูกได้ เมื่อหน้าตัดของผิวที่ ตำแหน่งลึกมากกว่า 20 ไมโครเมตรจากผิวในบริเวณที่ถูกกัดขึ้นรอย (3) ถูกวัดโดยการใช้เครื่อง วิเคราะห์ภาพเงา จำนวนของหลุมที่มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 0.01 ถึง 1 ไมโครเมตรเมื่อเส้นผ่าศูนย์ กลางของหลุมถูกแปลงเป็นวงกลมจะเป็น 70% หรือมากกว่าเทียบกับจำนวนรวมของหลุมสำหรับ แต่ละหนึ่งของผิวการวัดซึ่งทำให้เป็นไปได้ที่จะได้ค่าความจุไฟฟ้าสูงเมื่ออัตราส่วนการกัดขึ้นรอยสูง และสารอิเลกโตรไลต์แข็งถูกทำให้อิ่มตัว

Claims (2)

1. แผ่นอลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็บประจุชนิดประจุชนิดอิเลกโตรไลติกที่ถูกได้โดยการกัดขึ้น รอยทางเคมีไฟฟ้าและการขยายพื้นที่ผิวของแผ่นอลูมิเนียมด้วยไฟฟ้าสลับจะเป็นแผ่น อลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็บประจุชนิดอิเลกโตรไลติกที่ถูกกำหนดคุณลักษณะในแบบที่ว่า บริเวณที่ถูกกัดขึ้นรอยที่มีความหนา 100 ไมโครเมตรหรือมากกว่าจะถูกจัดให้มีบน อย่างน้อยหนึ่งด้าน, และ ความหนาแน่นความจุของบริเวณที่ถูกกัดขึ้นรอยจะเป็น 0.6 ถึง 1.2
2. แผ่นอลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็แท็ก :
TH801005776A 2008-11-10 แผ่นอลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็บประจุชนิดอิเลกโตรไลติก TH110703A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH110703A true TH110703A (th) 2011-10-06

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20180084681A (ko) 이차전지의 음극용 고체 전해질, 이를 포함하는 전기화학전지용 전극 조립체, 이를 포함하는 전기화학전지 및 그 제조방법
CN102222568B (zh) 一种led驱动电源专用铝电解电容器及其制作方法
WO2018041834A3 (en) An electrochemical sensor, and a method of forming an electrochemical sensor
EP4216320A3 (en) Battery
WO2009060563A1 (ja) 固体電解コンデンサとその製造方法
TW200608428A (en) Solid electrolytic capacitor, stacked capacitor using the same, and fabrication method thereof
EP2711173A3 (en) Method Of Manufacturing Conductive Structures
TW200629309A (en) Solid electrolytic capacitors and process for fabricating same
TW200641939A (en) Laminated solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
GB2487171A (en) Method of manufacturing high-visibility measuring tool
TW200942648A (en) Electroplating device and method
JP2014072267A (ja) 貫通孔を有するアルミニウム集電箔およびその製造方法
EP2407985A3 (en) Dye-Sensitized Solar Cell
TH110703A (th) แผ่นอลูมิเนียมกัดขึ้นรอยสำหรับตัวเก็บประจุชนิดอิเลกโตรไลติก
US10354807B2 (en) Method for producing electrode foils for capacitors, electrode foils, and capacitors comprising said electrode foils
JP5333582B2 (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム電極板の製造方法
Ono et al. Effects of electrolyte pH and temperature on dielectric properties of anodic oxide films formed on niobium
WO2009001751A1 (ja) コンデンサ及びその製造方法
WO2005017971A3 (en) Nanomachined and micromachined electrodes for electrochemical devices
CN103796435B (zh) 测量线路板层压偏位的方法
TH97421A (th) แผ่นอิเล็กโทรดอะลูมินัมสำหรับตัวเก็บประจุชนิดอิเล็กโทรลิติก
Park et al. Electrochemical etching of aluminum through porous alumina
CN103273758B (zh) Ctp版材电解砂目工艺
TH97421B (th) แผ่นอิเล็กโทรดอะลูมินัมสำหรับตัวเก็บประจุชนิดอิเล็กโทรลิติก
Ono et al. Fabrication of porous niobia by anodizing of niobium