SU980058A1 - Liquid photopolymerisable composition for manufacturing printing plates - Google Patents
Liquid photopolymerisable composition for manufacturing printing plates Download PDFInfo
- Publication number
- SU980058A1 SU980058A1 SU813301768A SU3301768A SU980058A1 SU 980058 A1 SU980058 A1 SU 980058A1 SU 813301768 A SU813301768 A SU 813301768A SU 3301768 A SU3301768 A SU 3301768A SU 980058 A1 SU980058 A1 SU 980058A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- composition
- glycol
- photopolymerizable
- compound
- methacryl
- Prior art date
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
Триэтиленгликольдиметакрилат5 ,0-15,0Triethylene glycol dimethacrylate5, 0-15,0
МетиловыйэфирMethyl ester
бензоина0,5-1,5benzoin 0.5-1.5
rf ,uJ-мeтaкpил- (бисэтиленгликоль -сульфит Остальноеrf, uJ-methacryl- (bisethylene glycol sulfite Else
В качестве фотополимеризующегос соединени она дополнительно может содержать d ,о -метакрил-ди-( диэтиленгликоль -фталат при соотношении фотополимеризующихс компонентов, ;Соответственно равном 1:3-3:1.As a photopolymerizable compound, it may additionally contain d, o-methacryl-di- (diethylene glycol -phthalate, with a ratio of photopolymerizable components,; Correspondingly, 1: 3-3: 1.
Пример 1. Приготавливают композицию следующего состава, вес.% Метиловый эфирExample 1. Prepare a composition of the following composition, wt.% Methyl ether
бензоина0,5benzoin0,5
Триэтиленгликoльдимeтaкpилат (ТГМ-З) 5,0Triethylene glycol dimethacrylate (TGM-W) 5.0
о,и)-Метакрил- (бисэтиленгликоль )-сульфит Остальноеo, and) -Metacryl- (bisethylene glycol) -sulfite Else
.(94,5). (94.5)
После тщательного перемешивани и обеспузыривани смесь заливают в полость формируюаде-копировальной рамы , образованной двум стеклами,ограничител ми толщины и растекани , к внутренней стороне одного из стекол приклеивают негатив, композицию экспонируют с обеих сторон дл формировани основы и печатающих элементов на ней. Экспонирование осуществл ют люминесцентными лампами ЛУФ-80 на рассто нии 50 мкм в течение 40 с дл образовани основы и в течение 300 l дл образовани печатающих элементов Незаполимеризовавшуюс в пробелах формы композицию удал ют, раму демонтируют и пробелы фотополимерной форм очищают путем растворени оставшейс в пробелах композиции водопроводной водой.After thorough mixing and de-bubbling, the mixture is poured into the cavity of the mold-copying frame formed by two glasses, thickness and spreading limiters, the negative is glued to the inner side of one of the glasses, the composition is exposed on both sides to form the base and the printing elements on it. Exposure is carried out with LUF-80 fluorescent lamps at a distance of 50 µm for 40 seconds to form the base and for 300 liters to form the printing elements. The composition is not polymerized in the gaps, the frame is removed, and the photopolymer forms are cleared by dissolving the gaps in the composition. tap water.
Пример 2. Приготавливают фо тополимеризующуюс композицию следующего состава, вес.%:Example 2. A photopolymerizable composition of the following composition is prepared, wt%:
Метиловый эфирMethyl ester
бензоина1,0benzoin1,0
ТриэтиленгликольдиметакрилатTriethylene glycol dimethacrylate
(ТГМ-З)10,0 (TGM-Z) 10.0
ot, to-Не так рил- (бисэтиленгликоль )-сульфит 89,9ot, to-not so ryl- (bisethylene glycol) sulfite 89.9
Далее, как в примере 1, только врем экспонировани композиции 35 с дл формировани осноры и 365 с дл формировани печатакицих элеме нтов.Further, as in Example 1, only the exposure time of the composition is 35 seconds to form the core and 365 seconds to form the printing elements.
Пример 3. Приготавливают фотополимеризующуюс композицию следующего состава, вес.%:Example 3. A photopolymerizable composition of the following composition is prepared, wt%:
Метиловый эфирMethyl ester
бензоина1,5benzoin 1,5
Триэтиленгликольдиметакрилат (ТГМ-З) 15,0 Triethylene glycol dimethacrylate (TGM-Z) 15.0
с-,(х1-метакрил- (бисэтиленгликоль ;-сульфит 83,5C -, (x1-methacryl- (bisethylene glycol; sulfite 83.5
Далее, как в примере 1, только врем экспонировани композиции 45 дл формировани основы и 400 с д51 формировани печатающих элементов.Further, as in Example 1, only the exposure time of the composition 45 to form the substrate and 400 with d51 form the printing elements.
П р и м а р 4. Приготавливают композицию следующего состава,вес.%PRI m and p 4. Prepare a composition of the following composition, wt.%
Метиловый эфирMethyl ester
бензоина 1,0benzoin 1.0
Триэтиленгли-Triethylenegly-
кольдиметакрилат .{ТГМ-З) 10,0.cold methacrylate. {TGM-3) 10.0.
oi, w-метакрил-ди- (диэтиленгликоль )-фталатoi, w-methacryl-di- (diethylene glycol) -phthalate
(МДФ-2 ) в соотношении 1:3 89,9(MDF-2) in the ratio 1: 3 89.9
Далее, как в примере 1, только врем экспонировани композиции 100 дл формировани основы и 615 с дл формировани печатающих элементов.Further, as in Example 1, only the exposure time of the composition 100 to form the substrate and 615 s to form the printing elements.
Пример 5. Приготавливают композицию следуквдего состава,вес.% Метиловый эфир бензоина1,0Example 5. Prepare the composition following composition, wt.% Methyl ester of benzoin 1.0
Тризтиленгликольдиметакрилат (МГМ-3) 10,0 Ы,Ы-Метакрил- (бисэтиленгликоль -сульфит oi ,и -метакрил-ди- (диэтилен- гликоль )-фталат (МДФ-2) в соотношении 1:1 89,9 Далее, как в примере 1, толькоTristilyl glycol dimethacrylate (MGM-3) 10.0 Ы, Ы-Methacryl- (bisethyleneglycol-oi sulphite, and -methacryl-di- (diethylene-glycol) -phthalate (MDF-2) in the ratio 1: 1 89.9 Further, as in example 1, only
врем экспонировани композиции 75 дл формировани основы и 520 с дл формировани печатакнцих элементов.the exposure time of the composition 75 to form the base and 520 s to form the printing elements.
Пример 6. Приготавливают композицию следующего состава,вес.% Метиловый эфир бензоина 1,0 Триэтиленгликольдиметакрилат (МГМ-З) 10,0 о6,ш-метакрил- (бисэтиленгликоль )-сульфит ,Ы-метакрил-ди-{диэтиленгликоль )-фталат в соотношении 3:1 89,9 Далее, как- в примере 1, толькоExample 6. A composition of the following composition is prepared, wt.% Benzoin methyl ester 1.0 Triethylene glycol dimethacrylate (MGM-3) 10.0 o6, w-methacryl- (bisethylene glycol) sulfite, N-methacryl-di- {diethylene glycol) -phthalate ratio of 3: 1 89.9 Further, as in example 1, only
врем экспЬнировани композиции 60 дл формировани основы и 440 с дл формировани печатающих элементов.the expiration time of the composition 60 to form the base and 440 s to form the printing elements.
Полученные фотополимерные печатн формы (ФПФ) на осиове предлагаемых композиций имеют технологические характеристики , представленные в таблце , растворителем дл очистки пробецов ФПФ вл етс вода.The resulting photopolymer printed forms (FPP) on the axis of the proposed compositions have the technological characteristics shown in the table, the solvent for cleaning the FPP samples is water.
40 35 50 10040 35 50 100
380 365 400 615380 365 400 615
75 60 18075 60 180
520 440 900520 440 900
120 120
810810
Как видно из приведенных данных, фотополимерные печатные формы, полученные при использовании в качестве основного компонента композиции еС ,«г метакрил- (бисэтиленгликоль)-сульфита .As can be seen from the above data, photopolymer printing plates obtained when using the composition of eC as the main component, “g methacrylate- (bisethylene glycol) sulfite.
или его смесь с оС,« -метакрй 1-диг (бис- в этиленгликоль )-фталатом :(МДФ-2), обладают высокой светочувствительностью (1,5-2 раза, более высокими (в 3 ра ,) прочностными характеристиками при обеспечении высоких показателей .65;or its mixture with оС, «-metacry 1-dig (bis- in ethylene glycol) -phthalate: (MDF-2), have high photosensitivity (1.5-2 times, higher (3 times)) strength characteristics while ensuring high performance .65;
Более 150 Менее 40 27,44-1оMore than 150 Less than 40 27.44-1о
28,53-10 28.53-10
- -- -
«. - 28,40-10 30,38-10". - 28.40-10 30.38-10
- -.- -.
44,3-10 44.3-10
11eleven
-. - 32,2.4-10 -. - 32,2.4-10
150 407,84-10 150150 407.84-10 150
12,45.12.45.
72 15072 150
4040
качества. Пробелы печатной вы: мывЕштс водопровода ой водой, что упрощает технологический процесс изготовлени форм.quality. Printed spaces of you: water pipes with water, which simplifies the technological process of mold making.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813301768A SU980058A1 (en) | 1981-06-11 | 1981-06-11 | Liquid photopolymerisable composition for manufacturing printing plates |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813301768A SU980058A1 (en) | 1981-06-11 | 1981-06-11 | Liquid photopolymerisable composition for manufacturing printing plates |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU980058A1 true SU980058A1 (en) | 1982-12-07 |
Family
ID=20963224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU813301768A SU980058A1 (en) | 1981-06-11 | 1981-06-11 | Liquid photopolymerisable composition for manufacturing printing plates |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU980058A1 (en) |
-
1981
- 1981-06-11 SU SU813301768A patent/SU980058A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ES8308089A1 (en) | Photopolymerisation process. | |
ES8308090A1 (en) | Photopolymerisation process. | |
EP0553662B1 (en) | Photosensitive mixture for production of relief and printing forms | |
US4621044A (en) | Photosensitive polymer composition | |
MY122854A (en) | Process for producing film forming resins for photoresist compositions | |
EP0076565A1 (en) | Single exposure positive-working photopolymer element | |
SU980058A1 (en) | Liquid photopolymerisable composition for manufacturing printing plates | |
KR930016830A (en) | Photosensitive resin composition for flexographic printing plate | |
JPS63208035A (en) | Flexographic printing plate material | |
JPS5810737A (en) | Photosensitive resin composition | |
EP0606642B1 (en) | Photosensitive recording element and method for the production of a relief printing plate | |
JP2754282B2 (en) | Lithographic printing plate modifier | |
SU956316A1 (en) | Composition for manufacturing printing plates | |
SU640236A1 (en) | Photopolymerisable composition | |
SU523381A1 (en) | Photopolymerizable composition | |
JPS55103554A (en) | Photosensitive resin composition for sand blast resist | |
JPS6053041B2 (en) | Photosensitive resin composition with good storage stability | |
SU765776A1 (en) | Photopolymeric printing plate | |
SU798681A1 (en) | Photopolymeric printing plate | |
JPH0467041A (en) | Photosensitive resin composition | |
SU593177A1 (en) | Photopolymerizing composition | |
JPS5762046A (en) | Image forming material | |
US20100055612A1 (en) | Nagative-working photosensitive resin composition and photosensitive resin plate using the same | |
SU744424A1 (en) | Photopolymerizable composition | |
JPS62215262A (en) | Photosensitive resin composition |