SU956316A1 - Composition for manufacturing printing plates - Google Patents

Composition for manufacturing printing plates Download PDF

Info

Publication number
SU956316A1
SU956316A1 SU813251558A SU3251558A SU956316A1 SU 956316 A1 SU956316 A1 SU 956316A1 SU 813251558 A SU813251558 A SU 813251558A SU 3251558 A SU3251558 A SU 3251558A SU 956316 A1 SU956316 A1 SU 956316A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
composition
anhydride
bis
phthalate
epoxy resin
Prior art date
Application number
SU813251558A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Елена Николаевна Ганич
Борис Григорьевич Задонцев
Николай Андреевич Котляр
Валентина Георгиевна Малейкович
Эдуард Тимофеевич Лазаренко
Роман Иванович Мервинский
Зиновия Григорьевна Токарчик
Original Assignee
Украинский Полиграфический Институт Им.Ив.Федорова
Украинский научно-исследовательский институт пластических масс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Украинский Полиграфический Институт Им.Ив.Федорова, Украинский научно-исследовательский институт пластических масс filed Critical Украинский Полиграфический Институт Им.Ив.Федорова
Priority to SU813251558A priority Critical patent/SU956316A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU956316A1 publication Critical patent/SU956316A1/en

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)

Description

(54) КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ(54) COMPOSITION FOR THE MANUFACTURE OF PRINTED FORMS

1one

Изобретение относитс  к композици м дл  получени  печатных форм и может быть использовано в полиграфической и радиотехнической промышпенности, например при изготовлении печатных форм высокой , типоофсетной, офсетной, трафаретной печати.The invention relates to compositions for the manufacture of printing forms and can be used in the printing and radio industry, for example, in the manufacture of printing forms of high, type-offset, offset, screen printing.

Известна жидка  фотопопимеризующа с  композици  Дл  изготовлени  печатных форм, состо ща  из опигоэфиракрила-j. та-метакри л-(бис-эти ленг пикель) -фта пата в качестве фотополимеризуютегосй |омпонента , мономера-метипметакрипата и фотосенсибилизатора-бензоина (lj .Known liquid photopoperimetic composition For the manufacture of printing plates, consisting of opigoethyacryl-j. ta-methacry L- (bis-these Leng pikel) -ph pathe as a photopolymerisation of an omponent, a monomer metimetmetakripata and a benzoin photosensitizer (lj.

Наиболее близка к предлагаемой ком- ,j позици , содержаща  в качестве фотополимеризуюшегос  соединени  олигомердиметакрил- (бис-диэтиленгшкопь)-фтала-. та в качестве фотоинициатора-метиловый эфир бензоина и мономер-триэтипенгтш - го коль-диметакрилат 21.Closest to the proposed com, j position, containing as oligomer dimethacryl (bis-diethylene chloride) -phthalate- as a photopolymerization compound. as a photoinitiator is benzoin methyl ester and monomer triethylenediamine col dimethacrylate 21.

Светочувствительность дан1а1Х композиций недостаточна высока, и формы по пученные из их них, обладают нужными прочностными свойствами.The photosensitivity of these compositions is not sufficiently high, and the forms according to which they are choused from them, possess the necessary strength properties.

Цель изобретени  -. увеличение светочувствительности композиции и механической прочности печатных форм.The purpose of the invention is. increase the sensitivity of the composition and mechanical strength of printing forms.

Данна  цель достигаетс , тем, что композици , содержаща  олигомердиметакрил- (бис-диэтиленгликоль)-фталат, мономер-триэтиленгликоль-диметаКрилат и фотоинициатор-метиловый эфир бензоина, согласно изобрете нию, дополнительно содержит диановую эпоксидную смолу с содер анием эпоксигрупп 19,, отвердите ль-изо ме ти лте траги дрофта левый ангидрид и ускоритель отверждени  трис- (диметиламинометил)-фенол при следующем соотношении компонентов, мас.%:This goal is achieved by the fact that a composition containing oligomer dimethacryl- (bis-diethylene glycol) -phthalate, monomer-triethylene glycol-dimerCrylate and photoinitiator-methyl ester of benzoin, according to the invention, additionally contains diane epoxy resin containing epoxy groups 19, curing agent -is-methyl lithium trap left anhydride and curing accelerator tris- (dimethylaminomethyl) phenol in the following ratio of components, wt.%:

oi .CO-Димeтaкpил-(биc-диэти ленгликоль jфта лат.43,60-84,51 oi .CO-Dimethacropyl- (bis-diethylglycol glycol and lat.43,60-84,51

Тр з тиленг ликольдиметакриват10 ,00-20,00Tr C Tileng Licol Dimethacrivat10, 00-20.00

Метиловый эфирMethyl ester

.бензоина0,50-1,50 Дианова  эпоксидна  смола2,69-18,80 Изо-метиптетрагидрофталевый ангидрид2,25-15,75 2,4,6-трис-(Диметил ами номе тип)-фен оп0,05-0,35 Изобретение иппоострируетс  спедующими примерами. Пример. Изготавливают комп зицию следующего состава, мае. %: (Ч 1 W-Димртакрип-(биc- -диэтипeнгликoль)- фтaпaт84,51 ., Триэтипенгликольди-, мстакрипат 10,00 Метиловый эфир бензиона0,50 Диаиова  эпоксидна  смола ЭД-2О2,69 11 зо-ме ти пте траги д рофталевый ангидрид2,25 2,4,6 -трис- (диме ти ламинометил )-фенолО,О5 После тщательного пёремещивани  к позиции в течение 30 мин и дезаэрации (30 мин) ее заливают в полость форми руюше-копировапьного устройства состо  щего из Двух стекол, к одному из кот рых прикреплены негатив, ограничитель толщины и растекани  композиции. Затем производ т экспонирование фо мирующе-копировапьного устройства с обеих сторон Дгш формировани  основы печатающих элементов люминесцентными лампами ЛУФ-8О на рассто нии 50 мм Врем  экспонировани  фотополимеризую щейс  композиции со стороны негатива 7,8 мин, со стороны основы - 1,3 минBenzoin 0.50-1.50 Dianova Epoxy Resin 2.69-18.80 Isomethyl tetrahydrophthalic anhydride 2.25-15.75 2,4,6-tris- (dimethyl amine type) -phen op0.05-0.35 The invention is hypothesized by the following examples. Example. A composition of the following composition is made, May. %: (H 1 W-Dimrtakrip- (bic-diethyleneglycol) - phthalate 84,51., Triethypenglycol di-, mstrikripat 10.00 Methyl ester of benzion 0.50 Diadium epoxy resin ED-2O2,69 11 zomatter hydrogen trap dehydrogenol epoxy resin ED-2O2,69 11 zomatter ethe hydrogen sulfide epoxy resin ED-2O2,69 11 zomatrite; anhydride2,25 2,4,6 -tris- (dimeti-laminomethyl) -phenolO, O5 After careful relocation to position for 30 minutes and de-aeration (30 minutes), it is poured into the cavity to form a rugged copying device consisting of Two glasses, Negative, thickness and flow limiter of the composition are attached to one of them. Then a continuous copying is made. devices on both sides of the base for forming the basis of the printing elements with LUF-8O fluorescent lamps at a distance of 50 mm Exposure time of the photopolymerizable composition from the negative side 7.8 min, from the base - 1.3 min

1,8 1.8

7,8 6,0 1,0 7,0 1,57.8 6.0 1.0 7.0 1.5

о8 ,0o8, 0

2,02.0

Как видно из приведенных даншых, печатные формы на основе предложенной фотополимерной композиции в два-три ра120 As can be seen from the above data, print forms based on the proposed photopolymer composition in two or three times

5О 130 5O 130

30 40 12030 40 120

9696

5050

Claims (2)

за прочнее прототипа и изготавгшвают быстрее бпагодар  уменьшению времени экспонировани . апопимеризовавшуюс  композицию удат , раму .демонтируют, и проблемы фоолимерных печатных форм очищают рто-ацетоновым раствором. Провод т мообработку при в течение 3 ч. Пример 2. Изготавливают комицию следующего состава, мае. %: об ,00-Димeтaкpил-(биcдиэтилeнгликoIlь )-фтaпaт 69,ОЗ Триэтиленгликольдиме- такрилат15;00 Метиловый эфир бензсмна1 ,ОО Дианова  эпоксидна  смола ЭД-208,О7 Изо-ме ти лтетраги дро фталевый ангидрид6,75 2,4,6-трис-{диметиламинометил )-фенол0,15 Дальще все, как в примере 1. Пример 3. Изготавливают компоию следующего состава, мае. %: об ,(JO-димeтaкpип-(биcдиэтилeнгпикoпь )-фтatlaт 43,60 Триэтипенгпикольдиметакрилат20 ,00 Метиловый эфир бензоина1 ,50 Дианова  эпоксидна  смола ЭД-20 18,8О Изо-метилтетрагидрофталевый ангидрид 15,75 2,4,6-трис-{диме ти ламинометил )-феноп0,38 Да;1ьше, как в примере 1. Результаты испытаний предложенной звестной фотополимеризующихс  комиций приведены в таблице. 59 Формула изобретени  Композици  дл  изготовлени  печатных форм, содержаща  опигомер сб. ,б1 -Диметакри п-(бис-диэ ти пеиг пикопь)-фтапат, MOKCHviep - триэтипенгпикопь-диметакрипат и фотоиниаиатор-метиновый эфир бензоина , отличающа с  тем, что, с целью увеличени  светочувствительности композиции и механической прочности печатных форм, ока допопнитепьно содержит диановую эпоксидную смопу с содержанием эпоксигрупп 19,9-22,0%, отверднтель - изометиптетрагидрофтапевый ангидрид и ускоритель отверждени  - 2,4,6 -трис-(диметипаминометил)-фенол при спе дующем соогношении компонентов, мас.%: ос, (JO-Димeтaкpип- 6иcдиэтилeнгпикoпь )-фтaлaт - фталат43,60-84,51 Триэтиленгпиколь10 ,00-20,00 диметакрилат Метиловый эфир 0,50-1,50 бензоина Дианова  эпоксидна  2,69-18,80 Изо-метиптетрагид2 ,25-15,75 рофталевый ангидрид 2,4,6-трис-(димети паминометил )-феноп 0,О5-О,35 Источники информации, рин тые во внимание при экспертизе 1.Авторское свидетельство СХХ)Р 440951, кл. Q 03 F 7/1О, 1974. for stronger prototype and faster to reduce the exposure time. The apopimerized composition will be removed, the frame will be dismantled, and the problems of the foolimer printing plates should be cleared with a rto-acetone solution. My treatment is carried out for 3 hours. Example 2. A commission of the following composition is made, May. %: about, 00-Dimetacropyl- (Bis-diethylethylene glycol) -phthalate 69, OZ Triethylene glycol dimethacrylate; Tris- {dimethylaminomethyl) -phenol0.15 Then everything is as in Example 1. Example 3. A composition of the following composition is made, May. %: about, (JO-dimetacripip- (BIS diethylengpicopic) -phthalate 43,60 Triethypengpicoldimethacrylate20, 00 Methyl ester of benzoin1, 50 Dianova epoxy resin ED-20 18,8O Isomethyltetrahydrophthalic anhydride-15,55,55,55,55,55,55,55,55,55,55,55,55,55 Iso-methyltetrahydrophthalic anhydride 15,5-epoxy resin dimethylaminomethyl) -phenop0.38 Da; 1, as in Example 1. The test results for the proposed well-known photopolymerizable comitium are shown in the table. 59 Claims of the Invention Composition for the manufacture of printing forms containing opigomer sb. , B1-Dimethacry p- (bis-di-tyi peig picopi) -fapapat, MOKCHviep - triethypengpikopi-dimethacrylate and photo-initiator-benzine methinate ester, characterized in that, in order to increase the photosensitivity of the composition and the mechanical strength of the printing forms, it should be attached to the same token to addopen in the same way to increase the photosensitivity of the composition and the mechanical strength of the printing forms, it should be attached to the same. epoxy resin with an epoxy group content of 19.9-22.0%; hardener — isometry tetrahydrophtapic anhydride and a hardening accelerator — 2,4,6 -tris- (dimetypaminomethyl) -phenol at the following ratio of components, wt.%: wasps, (JO Dimetacryp-6cdiethylengpicopic) -phthalate-phthalate43,60- 84.51 Triethylenediamine 10, 00-20.00 dimethacrylate Methyl ether 0.50-1.50 benzoin Dianova epoxy 2.69-18.80 Isometyl tetrahydride2, 25-15.75 roftal anhydride 2,4,6-tris- ( dimeti paminemethyl) -phenop 0, O5-O, 35 Sources of information taken into account during the examination 1. Author's certificate CXX) R 440951, cl. Q 03 F 7 / 1O, 1974. 2.Авторское «свидетельство СССР 255773, кл. q 03 С 1/68, 1969 ототип).2. Author's "certificate of the USSR 255773, cl. q 03 C 1/68, 1969 ootype).
SU813251558A 1981-03-02 1981-03-02 Composition for manufacturing printing plates SU956316A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813251558A SU956316A1 (en) 1981-03-02 1981-03-02 Composition for manufacturing printing plates

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813251558A SU956316A1 (en) 1981-03-02 1981-03-02 Composition for manufacturing printing plates

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU956316A1 true SU956316A1 (en) 1982-09-07

Family

ID=20944322

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU813251558A SU956316A1 (en) 1981-03-02 1981-03-02 Composition for manufacturing printing plates

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU956316A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5476749A (en) Photosensitive compositions based on acrylates
US4623676A (en) Protective coating for phototools
AU607318B2 (en) Process for preparing photocured coatings
CA1114541A (en) Photosensitive coating composition and use thereof
EP0828195B1 (en) Method for improving photoimage quality
US4668601A (en) Protective coating for phototools
JPH0737511B2 (en) Epoxy resin based latent image forming composition
GB2301826A (en) Photocurable thermoplastic resin composition developable with aqueous alkali
AR246364A1 (en) Process for making flexographic plates with increased flexibility
US9903980B2 (en) Photosensitive epoxy resin composition for optical waveguide, curable film for formation of optical waveguide, and optical waveguide and optical/electrical transmission hybrid flexible printed wiring board produced by using the photosensitive epoxy resin composition, and optical waveguide production method
CA1164710A (en) Phototropic photosensitive compositions containing fluoran colorformer
KR0163588B1 (en) Photoresist mixture and use thereof
JPS5590445A (en) Laminated glass
EP2975073A1 (en) Photosensitive epoxy resin composition, curable film for forming optical waveguide core layer, and optical waveguide and mixed flexible printed wiring board for optical/electrical transmission using same
JPS5635130A (en) Resist material and method for forming resist pattern
WO2002006038A2 (en) Method of manufacturing a replica as well as a replica obtained by carrying out a uv light-initiated cationic polymerization
KR910001455A (en) Use of selected photoactive compositions in acid hardening photoresists exhibiting high resolution by near ultraviolet radiation
SU956316A1 (en) Composition for manufacturing printing plates
KR102419966B1 (en) Photosensitive epoxy resin composition for optical waveguide formation, curable film for optical waveguide formation and optical waveguide using same, mixed flexible printed wiring board for optical and electrical transmission
US11377550B2 (en) Photosensitive epoxy resin composition for formation of optical waveguide, photosensitive film for formation of optical waveguide, optical waveguide produced by using the epoxy resin composition or the photosensitive film, and hybrid flexible printed wiring board for optical/electrical transmission
JPWO2017115622A1 (en) Resist pattern formation method and development condition determination method
EP0321618B1 (en) Photosensitive hardenable compositions
US9989848B2 (en) Photosensitive resin composition for optical waveguide, photocurable film for formation of optical waveguide core layer, optical waveguide produced by using the resin composition or the photocurable film, and hybrid flexible printed wiring board for optical/electrical transmission
US20180224600A1 (en) Photosensitive epoxy resin composition for formation of optical waveguide, photosensitive film for formation of optical waveguide, optical waveguide produced by using the epoxy resin composition or the photosensitive film, and hybrid flexible printed wiring board for optical / electrical transmission
JP4713704B2 (en) Active energy ray-curable resin composition