SU843029A1 - Device for cleaning semiconductor plate surface - Google Patents
Device for cleaning semiconductor plate surface Download PDFInfo
- Publication number
- SU843029A1 SU843029A1 SU792752212A SU2752212A SU843029A1 SU 843029 A1 SU843029 A1 SU 843029A1 SU 792752212 A SU792752212 A SU 792752212A SU 2752212 A SU2752212 A SU 2752212A SU 843029 A1 SU843029 A1 SU 843029A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- temperature
- plate surface
- semiconductor plate
- cleaning semiconductor
- cleaning
- Prior art date
Links
Description
(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН(54) DEVICE FOR CLEANING THE SURFACE OF SEMICONDUCTOR PLATES
Изобретение относитс к технологическому оборудованию дл производства изделий микроэлектроники и может быть использовано дл очистки полупроводниковых пластин и подложек приборов от загр знений и при сн тии сло фоторезиста.The invention relates to manufacturing equipment for the production of microelectronic products and can be used to clean semiconductor wafers and device substrates from contamination and when removing a layer of photoresist.
Известно устройство дл очистки поверхности полупроводниковых пластин , в котором использован способ гидродинамической кавитационной очистки. Устройство содержит центрифугу с планшайбой, на которой имеютс держатели дл очищаемых полупроводниковых пластин, неподвижный диск с пневмоприводом дл поджати его к поверхности планшайбы, резервуар дл растворени кислорода в очи1Ч енной воде и нагрева полученной смеси, систему подачи {забочей жид кости в зону обработки и контрольноизмерительную аппаратуру 1.A device for cleaning the surface of semiconductor wafers is known, which uses a hydrodynamic cavitation cleaning method. The device contains a centrifuge with a faceplate, on which holders for the cleaned semiconductor wafers are located, a fixed disk with a pneumatic actuator to press it to the faceplate, a reservoir for dissolving oxygen in purified water and heating the resulting mixture, a supply system (quench liquid to the treatment area, and control measurement) equipment 1.
Очистка полупроводниковых пласти производитс жидкостью, истекаю1лей под давлением во врем вращени планшайбы от центра ротора по. взаимно перпендикул рным каналам, выполненным на .диске и вызывающим вление кавитации, разрушающей поверхностные загр знени на полупроводниковых пластинах.The cleaning of semiconductor plates is made by a liquid, which exhausts under pressure during the rotation of the faceplate from the center of the rotor. mutually perpendicular channels made on the disk and causing the appearance of cavitation destroying surface contamination on semiconductor wafers.
Недостатком этого устройства вл етс его невысока надежность, так как при работе устройства дл образовани тонкого сло истекающей жидкости ее необходимо подавать под давлением, достаточным дл получени эффектов Кавитации, что вы0 зывает значительные осевые нагрузки на рабочий вал центрифуги. Кроме того, устройство не обладает достаточной производительностью, а отсутствие вращени пластин вокруг своих The disadvantage of this device is its low reliability, since when the device is operated to form a thin layer of flowing fluid, it must be supplied under a pressure sufficient to produce cavitation effects, which causes significant axial loads on the centrifuge working shaft. In addition, the device does not have sufficient performance, and the absence of rotation of the plates around its
5 осей во врем обработки приводит к неравномерному сн тию загрйзнений на полупроводниковых пластинах. Участки пластин, расположенные,ближе к центру имеют меньшую линейную скорость и 5 axes during processing leads to uneven removal of contamination on semiconductor wafers. Plates located closer to the center have a lower linear velocity and
0 низкое качество обработки поверхности .0 low quality surface treatment.
Цель изобретени - повышение производительности и надежности.The purpose of the invention is to increase productivity and reliability.
Поставленна цель достигаетс тем, The goal is achieved by
5 что.устройство дл очистки поверхности полупроводниковых пластин, содержащее расположенные на основании ротор с валом, св занным с приводн м механизмом, планшайбу с держател ми 5 that a device for cleaning the surface of semiconductor wafers containing a base-mounted rotor with a shaft connected to a drive mechanism, a faceplate with holders
0 пластин, диск с канавками, выполненDate : 03/05/20010 plates, grooved disk, madeDate: 03/05/2001
Number of pages : 4Number of pages: 4
Previous document : SU 843029Previous document: SU 843029
Next document : SU 843031Next Document: SU 843031
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792752212A SU843029A1 (en) | 1979-04-16 | 1979-04-16 | Device for cleaning semiconductor plate surface |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792752212A SU843029A1 (en) | 1979-04-16 | 1979-04-16 | Device for cleaning semiconductor plate surface |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU843029A1 true SU843029A1 (en) | 1981-06-30 |
Family
ID=20821841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU792752212A SU843029A1 (en) | 1979-04-16 | 1979-04-16 | Device for cleaning semiconductor plate surface |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU843029A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0718872A1 (en) * | 1994-12-19 | 1996-06-26 | Fujitsu Limited | Semiconductor substrate cleaning method |
-
1979
- 1979-04-16 SU SU792752212A patent/SU843029A1/en active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0718872A1 (en) * | 1994-12-19 | 1996-06-26 | Fujitsu Limited | Semiconductor substrate cleaning method |
US5795494A (en) * | 1994-12-19 | 1998-08-18 | Fujitsu Limited | Semiconductor substrate cleaning method and semiconductor device fabrication method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4313284A (en) | Apparatus for improving flatness of polished wafers | |
KR840001774A (en) | Temperature control method and apparatus for wafer polishing | |
JPS6056431B2 (en) | plasma etching equipment | |
SU843029A1 (en) | Device for cleaning semiconductor plate surface | |
US4417945A (en) | Apparatus for chemical etching of a wafer material | |
BR8201531A (en) | PROCESS FOR THERMAL MECHANICAL TREATMENT INCLUDING FLUID MASS STERILIZATION AND DEVICE EMPLOYED IN THE PROCESS | |
JPH0992615A (en) | Cooler for semiconductor wafer | |
US3040754A (en) | Etching machine | |
CN100565337C (en) | A kind of Pt/Ti metal membrane patterning method | |
JPS61142743A (en) | Equipment for manufacturing semiconductor | |
SU459818A1 (en) | A device for cleaning the surface of semiconductor wafers | |
CN111015498A (en) | Wafer polishing apparatus and method | |
JP2865753B2 (en) | Chemical solution supply method and chemical solution supply device | |
US3844738A (en) | Method and device for de-aerating greases | |
JP2006192555A (en) | Grinding liquid for wire saw and cutting method of ingot | |
US696222A (en) | Process of refining resins, oils, or fats. | |
JPS5362786A (en) | Washing method for membrane in electric dialysis | |
JPS5216041A (en) | Reducing process of liquid temperature and its apparatus | |
SU576295A1 (en) | Device for cleaning glass-ware | |
SE427759B (en) | WANT TO REDUCE ENERGY CONSUMPTION, POSSIBLE HIGH ROTATION SPEEDS AND IMPROVE MASS QUALITY BY MECHANICAL PROCESSING OF CELLULOSIC MATERIAL IN MALA APPLIANCES AND DEVICE IMPLEMENTATION DEVICE | |
SU1650180A2 (en) | Centrifugal atomizer | |
JPH03165033A (en) | Apparatus for lifting substrate from super pure water and drying substrate | |
JPH05317602A (en) | Method for reaction and concentration of chemical substance and flask for rotary evaporator used therefor | |
JPS63136523A (en) | Manufacture of semiconductor | |
JPS57133633A (en) | Dry-etching device |