SU764977A1 - Manipulator for measuring barrier caracitances of surface-barrier structures - Google Patents

Manipulator for measuring barrier caracitances of surface-barrier structures Download PDF

Info

Publication number
SU764977A1
SU764977A1 SU782637841A SU2637841A SU764977A1 SU 764977 A1 SU764977 A1 SU 764977A1 SU 782637841 A SU782637841 A SU 782637841A SU 2637841 A SU2637841 A SU 2637841A SU 764977 A1 SU764977 A1 SU 764977A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
barrier
manipulator
measuring
structures
pedestal
Prior art date
Application number
SU782637841A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Виктор Алексеевич Преснов
Олег Петрович Канчуковский
Лидия Васильевна Мороз
Александр Леонидович Шенкевич
Original Assignee
Одесский государственный университет им.И.И.Мечникова
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Одесский государственный университет им.И.И.Мечникова filed Critical Одесский государственный университет им.И.И.Мечникова
Priority to SU782637841A priority Critical patent/SU764977A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU764977A1 publication Critical patent/SU764977A1/en

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)

Description

1one

Изобретение относитс  к электронной технике , непосредственно дл  измерени  барьерных емкостей (менее 0,3 пФ) поверхностнобарьерных структур. Манипул тор может быть применен на препри ти х, занимающихс  изготовлением и исследованием поверхностно-барьерных структур, имеющих малые барьерные емкости.The invention relates to electronic technology, directly for measuring barrier capacitances (less than 0.3 pF) of surface barrier structures. The manipulator can be applied to enterprises engaged in the manufacture and study of surface barrier structures with small barrier capacitances.

Известен манипул тор дл  измерени  электрических параметров полупроводниковых структур, содержащий пьедестал и контактный зонд 1.A known manipulator for measuring the electrical parameters of semiconductor structures, comprising a pedestal and a contact probe 1.

Однако этот манипул тор не позвол ет измер ть барьерные емкости поверхностнобарьерных структур.However, this manipulator does not allow measurement of the barrier capacitances of surface barrier structures.

Наиболее близким устройством  вл етс  манипул тор дл  измерени  барьерных емкостей поверхностно-барьерных структур , содержащий металлизированный подвижный пьедестал, на котором устанавливаетс  с поверхностно-барьерными структурами полупроводникова  пластина, оптическим контактом к пьедесталу и контактный зонд 2.The closest device is a manipulator for measuring the barrier capacitances of surface barrier structures containing a metallized mobile pedestal on which a semiconductor plate is installed with the surface barrier structures, an optical contact to the pedestal and a contact probe 2.

Недостатки манипул тора следующие: наличие паразитной емкости пор дка 0,3 пФ между контактным зондом и полупроводниковой пластиной понижает точность измерени  и не позвол ет измерить барьерные емкости менее 0,3 пФ.The disadvantages of the manipulator are the following: the presence of a parasitic capacitance of about 0.3 pF between the contact probe and the semiconductor plate reduces the measurement accuracy and does not allow for measuring the barrier capacitances of less than 0.3 pF.

Цель изобретени  - повыщение точности измерений за счет уменьщени  паразитной 5 емкости -достигаетс  тем, что над полупроводниковой пластиной расположен заземленный электрод, размером не менее величины пластины и жестко св занный с пьедесталом , имеющий две взаимно перпендикул рные щели дл  контактного зонда. Паразит0 на  емкость между полупроводниковой пластиной и контактным зондом практически отсутствует , так как они разделены заземленным электродом.The purpose of the invention is to increase the measurement accuracy by reducing the parasitic 5 capacitance — achieved by the fact that a grounded electrode is located at least the size of the plate and rigidly connected to the pedestal, having two mutually perpendicular gaps for the contact probe. Parasite0 on the capacitance between the semiconductor plate and the contact probe is practically absent, since they are separated by a grounded electrode.

На фиг. 1 изображен общий вид предлагаемого манипул тора; на фиг. 2 - то же, вид сверху.FIG. 1 shows a general view of the proposed manipulator; in fig. 2 - the same, top view.

Предлагаемый манипул тор содержит подвижный пьедестал 1, на котором расположена полупроводникова  пластина 2 с поверхностно-барьерными структурами 3, рас20 положенными на полупроводниковой пластине; контактный зонд 4, осуществл ющий контакт с измер емой поверхностно-барьерной структурой; заземленный электрод 5, размером не менее размера пластины, имеюThe proposed manipulator contains a movable pedestal 1, on which the semiconductor wafer 2 is located with surface-barrier structures 3 placed on the semiconductor wafer; a contact probe 4 that makes contact with the measured surface barrier structure; grounded electrode 5, no less than the size of the plate, I have

Claims (1)

Формула изобретенияClaim Манипулятор для измерения барьерных емкостей поверхностно-барьерных структур, содержащий металлизированный подвижный пьедестал, на котором установлена с поверхностно-барьерными структурами полупроводниковая пластина омическим контакттом к пьедесталу и контактный зонд, отличающийся тем, что, с целью повышения точности измерения за счет уменьшения паразитной емкости, над полупроводниковой пластиной расположен заземленный электрод, размером не менее величины пластины, жестко связанный с пьедесталом и имеющий две взаимно перпендикулярные щели для контактного зонда.Manipulator for measuring the barrier capacities of surface-barrier structures, containing a metallized movable pedestal, on which a semiconductor wafer is mounted with surface-barrier structures by ohmic contact to the pedestal and a contact probe, characterized in that, in order to increase the measurement accuracy by reducing stray capacitance, over a semiconductor wafer is a grounded electrode, not less than the size of the wafer, rigidly connected to the pedestal and having two mutually perpendicular bright slots for the contact probe.
SU782637841A 1978-07-07 1978-07-07 Manipulator for measuring barrier caracitances of surface-barrier structures SU764977A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782637841A SU764977A1 (en) 1978-07-07 1978-07-07 Manipulator for measuring barrier caracitances of surface-barrier structures

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782637841A SU764977A1 (en) 1978-07-07 1978-07-07 Manipulator for measuring barrier caracitances of surface-barrier structures

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU764977A1 true SU764977A1 (en) 1980-09-23

Family

ID=20774095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782637841A SU764977A1 (en) 1978-07-07 1978-07-07 Manipulator for measuring barrier caracitances of surface-barrier structures

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU764977A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5528153A (en) Method for non-destructive, non-contact measurement of dielectric constant of thin films
US4311959A (en) Capacitive measuring sensor
US4772928A (en) Electric transducer for measuring mechanical quantities
ES2043711T3 (en) ULTRASONIC LIQUID DETECTOR.
JPS6486053A (en) Sensitive element
US3568124A (en) Piezoresistive force- and pressure-measuring element
SU764977A1 (en) Manipulator for measuring barrier caracitances of surface-barrier structures
US3787764A (en) Solid dielectric capacitance gauge for measuring fluid pressure having temperature compensation and guard electrode
GB1194071A (en) Piezoelectric Transducer with Acceleration Compensation
US2522987A (en) Photoelectric cell structure incorporating a lens
CN112366145A (en) Test structure and test method for AC calibration
JPH06105791B2 (en) Photoelectric conversion device
SU842514A1 (en) Device for measuring material dielectric permittivity
SU1111033A1 (en) Weight-measuring pickup
SU642639A1 (en) Moisture-content sensor
JPS585202Y2 (en) Electrostatic probe for displacement meter
SU518707A1 (en) Capacitive soil moisture sensor
SU1377787A1 (en) Device for measuring hall electromotive force in space-charge region
JPS57114866A (en) Measuring device of semiconductor device
SU1765686A1 (en) Displacement capacitance-type transducer
SU1385090A1 (en) Capacitive pickup
SU634194A1 (en) Linear displacement ultrasonic measuring device
SU1392519A1 (en) Device for measuring distribution of a charge over dielectric surface
SU801125A1 (en) Capacitor with electrostatic excitation
SU462064A1 (en) Capacitive strain gauge sensor