SU717157A1 - Способ электрохимического нанесени металлических покрытий - Google Patents

Способ электрохимического нанесени металлических покрытий Download PDF

Info

Publication number
SU717157A1
SU717157A1 SU772468153A SU2468153A SU717157A1 SU 717157 A1 SU717157 A1 SU 717157A1 SU 772468153 A SU772468153 A SU 772468153A SU 2468153 A SU2468153 A SU 2468153A SU 717157 A1 SU717157 A1 SU 717157A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
current
cathode
coatings
copper
amplitude
Prior art date
Application number
SU772468153A
Other languages
English (en)
Inventor
Петр Михайлович Вячеславов
Галина Константиновна Буркат
Леонид Михайлович Вишневецкий
Алла Ивановна Коваль
Лев Григорьевич Левин
Владислав Борисович Рабинович
Геннадий Иванович Рябинин
Original Assignee
Ленинградский Ордена Трудового Красного Знамени Технологический Институт Им. Ленсовета
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ленинградский Ордена Трудового Красного Знамени Технологический Институт Им. Ленсовета filed Critical Ленинградский Ордена Трудового Красного Знамени Технологический Институт Им. Ленсовета
Priority to SU772468153A priority Critical patent/SU717157A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU717157A1 publication Critical patent/SU717157A1/ru

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Description

Изобретение относитс  к гальваностегии, в частности к электрохимическому осаждению металлов, например, меди и серебра.
Известен способ электрохимического нанесени  серебр ных покрытий, заключающийс  в том, что процесс ведут посто нным трком плотностью 0,1-5 А/дм при температуре 2123С 1./
При использовании известного способа рсажг- .....-....--.J.. Jx;il.-i..:.4 feiiSsl ;NifJi.;j.-,-,,-....;...
дают качественные покрыти  толщиной до / 25 мкм с высокой скоростью осаждени . Одна ко толстые (пор дка 1 мм) осадки получаютс  хрупкими, крупнокристаллическими и с. очень низкой микротвердостью, что преп тствуег применению этого способа дл  целей гайь- |j ванопластики.
Получению толстых и качественных осадков металлов на покрываемых издели х преп тствует то, что с увеличением толщшш осадкаухуд-20 шаетс  его качество: по вл ютс  дендриты, микротрещины и микронеровности, образуютс  порошок или пассивирующие пленки и другие дефекты.
Дл  предотвращени  образовани  дендритов и улучшени  равномерности покрыти  Металла поверхности издели  используют дополнительные электроды соответствующего профил  и расположени .
Но использование дополнительных электродов не позвол ет воздействовать на микроструктуру осадка и повысить качество его поверхности . Этого можно достичь применением нестационарн1 К рёжймов Шёк ролиза, т.е. |)азличных форм тока: симметричного, асимметричцого , импульсного или реверсивного 2, {3}.
Преимущество таких режимов состоитг в том, что высокое качество покрыти  обеспечиваетс  не изменением состава электролита, физико-химических условий электролиза или конструкций ванн, а выбором параметров электрического тока. Наличие в таком токе обратной (анодной) составл ющей способствует преодолению диффузионных ограничений, более интенсивному перемешиванию электролита, обогащению прикатодного сло , растворению микровыступов-(так называема  анодна  обработка ) и пассирующих лленок, а также сниженйю внутренних напр жений {ликвидаци  микротрещин ) и количества примесей, т-е. в кб НечйЪй счете пбвышенйЮ качества покрыти .
Найб ольшии эффект ДбстйгаетСй ТВ том случае , когда обратна  составл юща  превыМеТ
по величине посто нную составл ющую тока
элё1сфолиза.
НизкЫ пройэводи1елИ10сть процесса по известным способам обусловлена величиной постойниой . составл ющей тока электролиза, а также образованием дендритов на отдельных част х катода, так как съем металла за счет обратной составл ющей тоКа осуществл; етс  неизбиратёльно со всей пбверхн6ст11 .
Сущехггвует, таким образом, техническое противоречие между стремлением к предотвращению роста дендритов, требун щего повышени  величшы обратной составл ющей тока, с одной стороны, и к увеличению производительности процесса, требующего OTHOcnfeftbHoro умёньщени  обратной составл ющей, с другой.
Наиболее близким к изобретению по технической сущности  вл етс  способ электрохимического нанесени  металлических покрытий путем наложени  на посто нный ток анодной составл ющей меаду покрываемым изделием и дополнительными электродами W.
OiHoujeHHe силы тока в анодной и катодной цеп х составл ет 0,6-0,8.
Известный способ, хот  и позвол ет улучшить |)авномерностъ распределени  металла на покрь 18аемом изделик, но не позвол ет по лучгать толстые компактные осадки с мелкокристаллической структурой, так как при соотношении анодной и усатодной сЪставЛ йГиусс тока электролиза 0,6-0,8 происходит лищь снижение плотности тока в облает if раШр Ложени  дополнительнь х электродов, но не Изменение его Направлени , г.е. отсутствует расгворение микровыступов осадка. Увеличение указанного соотнощени  анодной и катодаой состав лйющих выше единицы длй pacfSQpitfflft МикpoBbtcTynoB йастацйонарнШ оКе нёво1Йожно,
так это исключает осаждение металла На катоде.
Предлагаемый способ отличаетс  тем, что с целью повышени  толшйныПокрыти ; анодную составлйюифо накладывают импульсами с амплитудой в 1,3-5 раз выше амплАуды посто нного тока при Частоте импульсов 2- 4 Гц и длительности импульсов 10-20 Мс.
Сущность предлагаемого способа ctJCTOHT в том, что брагодарг  йОДаче Через дополнительные
электроды обратного; тока в виде импульсой, пресыщающих величину посто нного тока электролиза , обеспечиваетс  избирательное воздейСтвие наг отдельньте участки поверхности катода . При эго1Я вЪ р11 тЙт число центров крис таллизации и происходит растворе)ие микро- s iS ,:: vM:i c::
выступов. В результате получаютс  высококачественные осадки с однородной мелкокристаллической структурой, что позвол ет наращивать толстые покрыти  пор дка несколькгос сотен Микрон.
Дополнительные электроды устанавливают напротив участков покрываемого издели  с резким изменением рельефа поверхности. В главную цепь анод-катод при этом осветвл етс  Лишь незначительна  дод  обратного тока (ни пор док Меньше чем в цепи катод-дополнительный электрод), вследствие чего осуществл етс  микрополировка всей поверхности катода вне зоны дополнительных электродов, практически без снижени  выхода на току.
На фиг. 1 изображена схема подключени  источников питани  к электродам; на фиг. 2 4 - зшорытока на аноде, катоде и дополнительном электроде соответственно.
Схема вклйчает электролитическую ванну I, анод 2, катод 3, дополнительный электрод 4, источник посто нного тока 5, дроссель 6, служащий дл  подавлени  импульсной составл ющей тока вцепи источника 5, источник импульсного тока 7 и огран чителып 1й резистор 8.- .:--..:., .--;., ..
Ток анбда практически не измен етс , так как часть импульсного тока, ответвл юща с  йа анод 2 через резистор 8, пренебрежимо мала Ток по цепи катод - дополнительный электрод подаетс  в виде обратньгх импульсов от источников 7. Небольшой по величине посто нный ток от источника 5 на дополнительном электроде (через резистор 8) предотвращает осаждение на нем MeTarfaia в паузах меаду имйульсами.
Выбор оптимального режима обусловлен тем, что уменьшение относительной аМйлитуды импульсов в цепи катод-дополнительный электрод ниже амплитуды посто нного тока в 1,3 (медь) и 2 (серебро) раза ведет к по влению и росту девдритов, а увеличение амплитуды CBbtoe 5 (медь) и 4 (серебро) раз приводит к по влению пористого осадка меди и порошкообразного серебра.
Увеличение длительности импульса свыше 20 МС вызывает по вление микронеровностей при толшинё осадка свьше 300 мкм меди и 150 м серебра, уменьшение же длительности ниже 10 МС неэффективно. При предельных значени  амплитуды или длительности импульсов повы1иение частотьг импульсов свьше 3 Гц (медь) и 4 Гц (серебро) ведет к чрезмерному съему металла (снижение производительности) без улучшени  качества покрыти , а уменьгиение частоты ниже 2 Гц делает процесс неэффективным .
По предлагаемому способу получают медные покрыти  толщиной 510-1015 мкм и серебр ные покрыти  194-325 мкм.
Толстые металлические покрыти  (1-1,5мм) необходимы дл  различных изделий многих отраслей промышленности, например, дл  обеспечени  высокой антикавитационной стойкости судовых гребных винтов необходимы толстые .высококачественные медные покрыти , а аналогичные серебр ные покрыти  необходимь в приборостроении, стоматолопш и т д.,
Пример 1. Медные покрыти  нанбс т на медный катод из электролита, содержащего 220 г/л сернокислой меди, 60 г/л серной кислоты, 40 г/л хлористого натри  и 1 мг/л комплексной добавки ЛТИ Авангард при температуре 18-22°С, силе посто нного тока 0,28 А, амплитуде импульсов обратного тока-между катодом и дополнительным электродом 0,43 А (в 1,5 раза выше амплитуды посто нного тока ), частоте следовани  импульсов 2,5 Гц и длительности импульсов 18 мс. При этом амплитуда импульсов тока обратной пол рности в главной цепи (катод-анод) незначительна - 0,025 А. Плошадь поверхности катода соста1Вл ет 0,1 дм, вблизи его нижней кромки ... устанавливают дополнительный электрод из нержавеющей стали. Продолжительность электроПиза , составл ет 15ч.
При этом получают медное покрытие толщиной 510 мкм, плотное, гладкое, полублест щее , микротвердость покрыти  составл ет 136 кгс/мм, переходное электросопротивлёкие - 0,0018 Ом, внутренние напр жени  сжати  -. 90 кгс/см, равномерность покрыти  - 0,5 мм + 27о. Отслаивани  осадка ненабл1рдаетс .
Пример 2. Серебр ные покрыти  нанос т на медный катод площадью 0,04 дм из электролита, содержащего 28 г/л серебра, 50 г/л железосинеродистого кали  и 90 г/л роданистого кали  и 20 г/л поташа при температуре 20-25°С, силе посто нного тока 0,03 А амплитуде импульсов обратного тока между катодом и дополнительным :м1ектродом 0,09 А (в 3 раза больше амплгпуды посто шного тока ), частоте следовани  импульсов 3,5 Гц и длительности 10 мс. При этом амплитуда импульсов . обратного тока в главной цепи составл ет 0,008 А. Продолжительность электролиза составл ет 10 ч.
При этом получают серебр ные покрыти  толщиной 261 мкм, полублест шие, гладкие, плотные, микротвердость покрыти  составл ет 148 кгс/мм, переходное электросопротивление - 0,0016 Ом, внутренние напр жени  сжати  - 100 кгс/см, равномерность покрыти  - 0,25 мм + 8%. Отслаивани  покрыти  не происходит .
Таким образом, предлагаемый способ позвол ет гголучЕпгь толстые высококачественные покрыти , которые найдут широкое применение в различных отрас.л х народного хоз йства.

Claims (4)

1.Авторское свидетельство СССР № 461158, кл. С 25 D 3/46, 1972.
2.Ваграм н А. Т. и Соловьева 3. А. Методы исследовани  электроосаждени  металлов. М., изд. АН СССР, 1960, с. 148-149.
3.Авторское свидетельство СССР № 293875, кл. С 25 D 5/18, 1969.
4.Авторское .свидетельство СССР № 254298, кл. С 25 D 5/00, 1966.
3 J& Аь
S5;
Vj. . - -Ь -t pO lEyKA- o - 1
jrsjaiKfflHssjijigsSS
JUl )7
i/г./
.уда «P ..,t
.r
ЩТ
//
1/г.2
-t:
SU772468153A 1977-03-22 1977-03-22 Способ электрохимического нанесени металлических покрытий SU717157A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU772468153A SU717157A1 (ru) 1977-03-22 1977-03-22 Способ электрохимического нанесени металлических покрытий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU772468153A SU717157A1 (ru) 1977-03-22 1977-03-22 Способ электрохимического нанесени металлических покрытий

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU717157A1 true SU717157A1 (ru) 1980-02-25

Family

ID=20701721

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU772468153A SU717157A1 (ru) 1977-03-22 1977-03-22 Способ электрохимического нанесени металлических покрытий

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU717157A1 (ru)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4396467A (en) * 1980-10-27 1983-08-02 General Electric Company Periodic reverse current pulsing to form uniformly sized feed through conductors
US4436591A (en) 1981-11-13 1984-03-13 Veco Beheer B.V. Process of electroforming screen material
RU2719050C1 (ru) * 2019-07-31 2020-04-16 Общество с ограниченной ответственностью "КС Гальваника" Способ нанесения гальванических покрытий в ванне с дополнительными электродами
RU2734213C1 (ru) * 2019-06-18 2020-10-13 Вера Олеговна Петрова Электролит для электрохимического осаждения композиционного медного покрытия для радиоэлектроники

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4396467A (en) * 1980-10-27 1983-08-02 General Electric Company Periodic reverse current pulsing to form uniformly sized feed through conductors
US4436591A (en) 1981-11-13 1984-03-13 Veco Beheer B.V. Process of electroforming screen material
RU2734213C1 (ru) * 2019-06-18 2020-10-13 Вера Олеговна Петрова Электролит для электрохимического осаждения композиционного медного покрытия для радиоэлектроники
RU2719050C1 (ru) * 2019-07-31 2020-04-16 Общество с ограниченной ответственностью "КС Гальваника" Способ нанесения гальванических покрытий в ванне с дополнительными электродами

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4092226A (en) Process for the treatment of metal surfaces by electro-deposition of metal coatings at high current densities
JPH0463159B2 (ru)
Dobrev et al. Periodic reverse current electrodeposition of gold in an ultrasonic field using ion-track membranes as templates: growth of gold single-crystals
Vargas et al. Controlled nucleation and growth in chromium electroplating from molten LiCl-KCl
SU717157A1 (ru) Способ электрохимического нанесени металлических покрытий
Sánchez et al. Electrochemical deposition of silver from a low cyanide concentration bath
US3729396A (en) Rhodium plating composition and method for plating rhodium
US3515650A (en) Method of electroplating nickel on an aluminum article
JPH0525957B2 (ru)
Stoychev et al. The influence of pulse frequency on the hardness of bright copper electrodeposits
US3775267A (en) Electrodeposition of rhodium
JPS6047353B2 (ja) 電気化学的反応用活性陰極の製造方法
US3909369A (en) Method for the production of an electrode for cathodic protection
Lee et al. Evaluating and monitoring nucleation and growth in copper foil
RU2813428C1 (ru) Способ обработки титана и его сплавов
JP2540110B2 (ja) 電気アルミニウムめっき方法
Rao et al. The electrodeposition of copper on film-covered metal surfaces
JPH0240751B2 (ru)
US2439935A (en) Indium electroplating
SU1633027A1 (ru) Способ нанесени гальванических покрытий на профилированные издели
US4810337A (en) Method of treating a chromium electroplating bath which contains an alkyl sulfonic acid to prevent heavy lead dioxide scale build-up on lead or lead alloy anodes used therein
RU2046155C1 (ru) Способ нанесения покрытий из железа и его сплавов
Кокоша et al. Corrosion resistance of zinc galvanic deposits obtained by the electrochemical 3D printing method
SU1544846A1 (ru) Способ электролитического осаждени никелевых покрытий с включением оксидов титана
Puippe et al. Qualitative approach to pulse plating