SU693176A1 - Method of ellipsometric checking of phase plate - Google Patents

Method of ellipsometric checking of phase plate

Info

Publication number
SU693176A1
SU693176A1 SU762424010A SU2424010A SU693176A1 SU 693176 A1 SU693176 A1 SU 693176A1 SU 762424010 A SU762424010 A SU 762424010A SU 2424010 A SU2424010 A SU 2424010A SU 693176 A1 SU693176 A1 SU 693176A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
analyzer
polarizer
phase plate
phase
light
Prior art date
Application number
SU762424010A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Александр Иванович Ванюрихин
Виктория Петровна Герчановская
Original Assignee
Предприятие П/Я Х-5827
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Х-5827 filed Critical Предприятие П/Я Х-5827
Priority to SU762424010A priority Critical patent/SU693176A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU693176A1 publication Critical patent/SU693176A1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21Polarisation-affecting properties
    • G01N21/211Ellipsometry

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

(54) СПОСОБ ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ ФАЗОВОЙ(54) METHOD OF ELLIPSOMETRIC CONTROL OF PHASE

Claims (2)

ПЛАСТИНЫ На чертеже показана схема одного из вариантов эллипсометра - эллипсометра с четвертьволновым компенсатором Сенармона. Эллипсометр содержит источник излу чени  1, пол ризатор 2, исследуемую фазовую пластину 3, четвертьволновый компенсатор Сенармона 4, модул тор 5, анализатор б, фоторегистрирующую систему 7. Пример. На пути светового луча источника 1 устанавливают пол ризатор 2 и анализатор 6. Анализатор б вращают до получени  на его выходе минимального светового сигнала. В ход луча Между пол ризатором 2 и анализатором б ввод т четвертьволновый компенсатор 4 так, чтобы его оптическа  ось совместилась с направлением пропускани  пол ризатора 2 (илианализатора б). При этом сигнал на выходе анализатора б минимален. За пол ризатором 2 нормально к лучу света устанавливают исследуемую фазовую пластину 3 так, чтобы ее, оптическа  Ось составл ла угол 45 с направлением пропускани  пол ризатора 2. АналиЗЛ .ТОР б поворачивают на азимут до получени  на его выходе минимального сигнала. Затем фазовую пластину 3 наклон ют относительно падающего луча И одновременно поворачивают анализатор б до получени  ближайщйх экстремумов азимута т (fnin ) и вычис л ют истинное значение разности фаз Выполн   контроль фазовых пластин предлагаемым способом, можно повысит точность измерени  на 1,5-2 пор дка. Экспериментальные исследовани  этого способа с помощью прибора сХема которого изображена на чертеже, показали, что точность измерени  разности фаз Сможет составл ть 0,1 и лучще. Предлагаемый способ рекомендован к внедрению в производство фазовых пластин . Формула изобретени  Способ эллипсомётрическогО контрол  фазовой пластины, заключающийс  в освещении фазовой пластины, установленной между скрещенными пол ризатором и анализатором эллипсометра, компенсации разности фаз, вносимой пластиной , с помощью четвертьволнового компенсатора и измерении интенсивности света на выходе анализатора, о тличающийс  тем, что, с целью повыщени  точности контрол , фазовую пластину периодическинаклон ют в плоскости падени  светового луча , измер ют экстремальные значени  интенсивности света на выходе анализатора и по ним суд т о толщине фазовой пластины. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1.Ржанов А. В. и др. Эллипсометрические методы контрол  в микроэлектронике . - Микроэлектроника, 1975, 4, 1, с. 3-23. PLATES The drawing shows a diagram of one of the variants of an ellipsometer - an ellipsometer with a quarter-wave compensator Senarmon. The ellipsometer contains a radiation source 1, a polarizer 2, a phase plate 3 under investigation, a Senarmon 4 quarter-wave compensator, a modulator 5, an analyzer b, a photo-recording system 7. Example. In the path of the light beam of source 1, a polarizer 2 and an analyzer 6 are installed. The analyzer b is rotated until a minimum light signal is received at its output. Between the polarizer 2 and the analyzer b, a quarter-wave compensator 4 is inserted into the beam path so that its optical axis is aligned with the transmission direction of the polarizer 2 (or analyzer b). The signal at the output of the analyzer b is minimal. Behind Polarizer 2, the phase plate 3 under investigation is normally set to a beam of light so that its optical axis is at an angle of 45 with the polarizer 2 passing direction. Analyze the T-switch b is turned to azimuth until the minimum signal is received at its output. Then the phase plate 3 is tilted relative to the incident beam. At the same time, the analyzer b is turned to obtain the nearest extremums of azimuth τ (fnin) and the true value of the phase difference is calculated. By checking the phase plates by the proposed method, the measurement accuracy can be increased by 1.5-2 times . Experimental studies of this method using an instrument whose Scheme is shown in the drawing showed that the accuracy of measuring the phase difference can be 0.1 and better. The proposed method is recommended for implementation in the production of phase plates. The invention The method of ellipsometric control of a phase plate, which consists in illuminating a phase plate installed between a crossed polarizer and an ellipsometer analyzer, compensating the phase difference introduced by the plate with a quarter-wave compensator and measuring the intensity of light at the analyzer output, which is increase the accuracy of control, the phase plate is periodically inclined in the plane of incidence of the light beam, the extreme values of the light intensity are measured de analyzer and it is judged on the thickness of the phase plate. Sources of information taken into account in the examination 1.Rzhanov A.V. and others. Ellipsometric control methods in microelectronics. - Microelectronics, 1975, 4, 1, p. 3-23. 2.Авторское свидетельство СССР № 345421, кл. G 01 N 21/40, 21.05. 1970.2. USSR author's certificate number 345421, cl. G 01 N 21/40, 21.05. 1970.
SU762424010A 1976-11-29 1976-11-29 Method of ellipsometric checking of phase plate SU693176A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762424010A SU693176A1 (en) 1976-11-29 1976-11-29 Method of ellipsometric checking of phase plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762424010A SU693176A1 (en) 1976-11-29 1976-11-29 Method of ellipsometric checking of phase plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU693176A1 true SU693176A1 (en) 1979-10-30

Family

ID=20684327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU762424010A SU693176A1 (en) 1976-11-29 1976-11-29 Method of ellipsometric checking of phase plate

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU693176A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3871771A (en) Optical apparatus for determining deviations from a predetermined form of a surface
US4432239A (en) Apparatus for measuring deformation
US6927853B2 (en) Method and arrangement for optical stress analysis of solids
US3584959A (en) Shaft position encoders
US3200698A (en) Measurement of distance by means of modulated polarized light
US3797940A (en) Refractometer with displacement measured polarimetrically
US5517022A (en) Apparatus for measuring an ambient isotropic parameter applied to a highly birefringent sensing fiber using interference pattern detection
US2956472A (en) Electro-optical distance meter
SU693176A1 (en) Method of ellipsometric checking of phase plate
US3806251A (en) Method of measuring small objects
US3446557A (en) Measurement of circular dichroism
US3109049A (en) Interferometer
GB1190564A (en) Method of and Means for Surface Measurement.
SU974113A1 (en) Polarimeter
SU940018A1 (en) Two-beam photometer
JPH11101739A (en) Ellipsometry apparatus
SU1320657A1 (en) Range fixation device
SU847018A1 (en) Displacement meter
SU744294A1 (en) Method of measuring azimuth change of light-radiation polarisation plane
SU1060939A1 (en) Multi-beam interferometer
SU1130777A1 (en) Device for determination of pulse radiation polarization parameters
SU1139976A1 (en) Polarimeter
SU1165878A1 (en) Interferometer measuring device
US2413660A (en) Flickering beam spectrophotometer
SU1755068A1 (en) Method of determining matched position of two linear polarizers