Изобретение относитс к измерительной технике и предназначено дл рефрактометрических измерений, а также дл других прецизионных измерений условных величин. Целью изобретени вл етс измерение также и угловых перемещений. На чертеже представлена схе.ма интерферо .метрического измерительного устройстваУстройство содержит источник 1 линейно пол ризованного излучени и оптически св занные светоделитель 2 и два плоских зеркала 3 и 4, предметный столик 5, установленный с возможностью вращени вокруг оси, параллельной двум плоским зеркалам 3 и 4, два дополнительных плоских зеркала (не показаны), установленных на столике 5 параллельно отражающим плоскост м навстречу друг другу под- углом к оптической оси устройства, две пластины /1/4 и 6 и7, установленные перед отражающими плоскост ми первых двух плоских зеркал 3 и 4, оптические оси пластин составл ют соответственно углы +45° и -45° с плоскостью пол ризации источника 1 излучени , электрооптический модул тор 8, оптически св занный со светоделителе.м 2 и установленный оптической осью под углом 45° к оси плоскости пол ризации источника 1 излучени , и последовательно расположенные анализатор 9, блок 10 обработки информации в виде последовательно соединенных фотоумножител , 11, узкополосного фильтра 1-2 и реверсивного счетчика 13, двустороннее зеркало 14, установленное на предметном с.толике 5 параллельно двум дополнительным зеркалам 15 и 16, светоделительный блок в виде светоделительного кубика 17 и четырех фазовых пластин 18-21, кажда из которых посажена на оптический контакт с соответствующей гранью кубика 17, установленного на оптической оси устройства между модул торо.м 8 и анализатором 9, блок 22 настройки нулевой полосы, расположенный за светоделителем 2 по ходу потока излучени , ось которого перпендикул рна оптической оси устройства, в виде оптически св занных источника 23 немонохроматического излучени , объектива 24 , пол ризатора 25 и светофильтра 26, оптически св занного со светоделителем 2. Устройство работает следующим образом . Луч от источника 1 излучени после прохождени через электрооптический модул тор 8 становитс эллиптически пол ризованным с осью эллипса, параллельной плоскости пол ризации луча источника 1. После йластины 2 и 3 луч становитс линейно пол ризованным с модулированным азимутом плоскости пол ризации. Светоделитель 17 образует два луча а и б которые дважды отражаютс соответственно от зеркал 14, 15, 3 (луч а) и 16, 14, 4 (луч б), и интер1 8 ферйруют на светоделителе 17. Фазовые пластинки 19 и 20, оптические оси которых взаимно перпендикул рны, при прохождении лучей туда и обратно сквозь пластинки действуют на нихкак пластины .Я/4, поэтому на выходе и.меют место два эллиптически пол ризованных луча с одинаковой эллиптичностью , одинаковым азимутом оси эллипса 45°, но с противоположным направлением вращени . В результате интерференции этих лучей образуетс линейно пол ризованный луч, модулированный по азимуту и интенсивности. Начальное значение азимута do ( которое .имеет место при отсутствии напр жени на модул торе 8) зависит от разности фаз сГ между лучами а и б. Пластинки 4, 6, 7 при прохождении лучей туда и обратно действуют на них как полуволновые, мен местами составл ющие лучей с азимутом О и 90°, благодар чему ис1 лючаетс вли ние искажений состо ни пол ризации лучей на зеркалах 6 и 7. При вращении предметного столика 5, на котором жестко закреплены зеркала 14- 16 и которЬш сопр жен с исследуемым объектом (не показан) относительно исходного положени , оптический путь одного луча увеличиваетс , второе уменьшаетс . При этом, между лучами а и б образуетс разность 5 R-sin. (1) При вращении столика 5 периодически мен етс освещенность фотоумножител , который равномерно освещен (бесконечно щирока полоса), причем счет целых чисел полос (кратных) осуществл етс фотоэлектрическим способом с по.мощью реверсивного счетчика 24, измерение дробной части интерференции - компенсационным способом с помощью анализатора 9. Исходным положением столика 5 вл етс такое положение, когда зеркала 14-16 параллельны светоделителю . 17. В этом случае на выходе имеет место нулева (бесконечно щирока ) полоса . Дл настройки нулевой полосы предназначен блок 22. Интенсивность выходного луча описываетс выражением I-Ioti -stni&ffo -6oSinfib)(.iniS-siiiZ4(2 где (5 и П - амплитуда и частота модул ции; б -дрейф рабочей точки модул тот -азимут анализатора 21; S -разность фаз, определ ема равенством (1). Из (2) следует, что в приведенном устройстве исключено вли ние дрейфа рабочей точки модул тора на измерение угловой величины . Кроме того, симметричное построение устройства позвол ет также исключить вли ние гирации фазовых пластинок (если последние изготовлены, например, из кварца ), уменьшить вли ние неточностей изготовлени фазовых пластин, чем достигаетс высока точность измерений.The invention relates to a measurement technique and is intended for refractometric measurements, as well as for other precision measurements of conventional values. The aim of the invention is to measure also angular movements. The drawing shows an interferometric measuring device circuit. The device contains a source 1 of linearly polarized radiation and an optically coupled beam splitter 2 and two flat mirrors 3 and 4, a stage 5, mounted for rotation around an axis parallel to two flat mirrors 3 and 4 , two additional flat mirrors (not shown) mounted on table 5 parallel to the reflecting planes opposite each other sub-angle to the optical axis of the device, two plates / 1/4 and 6 and 7, installed in front of the mirror The contact planes of the first two plane mirrors 3 and 4, the optical axes of the plates are respectively the angles of + 45 ° and -45 ° with the polarization plane of the radiation source 1, an electro-optical modulator 8 optically connected to the beam splitter m 2 and mounted by the optical axis at an angle of 45 ° to the axis of the plane of polarization of the radiation source 1, and successively located analyzer 9, information processing unit 10 in the form of serially connected photomultiplier 11, narrowband filter 1-2 and reversing counter 13, double-sided mirror 14, mouth Injected on the object strip 5 parallel to two additional mirrors 15 and 16, the beam splitting unit in the form of a beam-splitting cube 17 and four phase plates 18-21, each of which is seated on optical contact with a corresponding face of the cube 17 installed on the optical axis of the device between the module toro.m 8 and analyzer 9, zero-band tuning unit 22, located behind the beam splitter 2 along the radiation flux, the axis of which is perpendicular to the optical axis of the device, in the form of optically coupled source 23 is non-monochromatic one radiation lens 24, polarizer 25 and optical filter 26 is optically associated with a beam splitter 2. The device operates as follows. The beam from the radiation source 1 after passing through the electro-optical modulator 8 becomes elliptically polarized with an ellipse axis parallel to the plane of polarization of the beam of source 1. After plate 2 and 3, the beam becomes linearly polarized with the modulated azimuth of the plane of polarization. The beam splitter 17 forms two beams a and b which are twice reflected respectively from mirrors 14, 15, 3 (beam a) and 16, 14, 4 (beam b), and inter1 8 are fermented on the beam splitter 17. Phase plates 19 and 20, optical axes which are mutually perpendicular, when the rays pass back and forth through the plates, they act on them like plates. 4/4, therefore two elliptically polarized rays with the same ellipticity, the same azimuth of the ellipse axis 45 °, but with the opposite direction of rotation, take place. . As a result of the interference of these rays, a linearly polarized beam is produced, modulated in azimuth and intensity. The initial value of the azimuth do (which has a place in the absence of voltage on the modulator 8) depends on the phase difference cG between the rays a and b. Plates 4, 6, 7, when the rays travel back and forth, act on them as half-wave, changing the components of the rays with azimuth O and 90 °, thereby preventing the effect of polarization distortions of the rays on the mirrors 6 and 7. During rotation The stage 5, on which the mirrors 14-16 are rigidly fixed and which adjoins the object under study (not shown) with respect to the initial position, the optical path of one beam increases, the second decreases. In this case, a difference of 5 R-sin is formed between the rays a and b. (1) As table 5 rotates, the photomultiplier illuminates periodically, which is evenly illuminated (an infinitely wide band), and the counting of whole numbers of bands (multiples) is carried out by photoelectric method using a reversible counter 24, the fractional part of the interference is measured by a compensation method with using the analyzer 9. The initial position of the table 5 is such a position when the mirrors 14-16 are parallel to the beam splitter. 17. In this case, there is a null (infinitely broad) strip at the output. Block 22 is used to adjust the zero band. The output beam intensity is described by the expression I-Ioti-stni & ffo -6oSinfib) (. IniS-siiiZ4 (2 where (5 and P are the amplitude and frequency of modulation; b is the operating point drift modulus that - The analyzer has an azimuth of 21; S is the phase difference defined by (1). From (2) it follows that the device eliminates the influence of the modulator’s drift on the measurement of the angular value. In addition, the symmetrical construction of the device also eliminates the influence the gyration of phase plates (if the latter are made, for example , of quartz), to reduce the effect of inaccuracies in the manufacture of phase plates, thus achieving high measurement accuracy.
г ,, Чу Л : 7 У Г g ,, chu l: 7 u g