SU555917A1

SU555917A1 - Apparatus for applying photoresist on plates

Info

Publication number: SU555917A1
Application number: SU2307518A
Authority: SU
Inventors: Валерий Николаевич Комаров; Николай Иванович Никулин; Игорь Иванович Поярков
Original assignee: Предприятие П/Я Р-6707
Priority date: 1975-12-29
Filing date: 1975-12-29
Publication date: 1977-04-30

Description

1one

Изобретение относитс к устройствам дл нанесени покрытий с помощью центробежной силы, и может быть, в частности, использовано дл нанесени светочувствительного сло (фоторезиста) на пластины при химической фотогравировке.The invention relates to coaters using centrifugal force, and may in particular be used to apply a photosensitive layer (photoresist) to the plates during chemical photogravure.

Известно устройство дл нанесени светочувствительного сло на пластины при химической фотогравировке, включающее барабан и держатели дл закреплени пластин в горизоитальной нлоскости 1.A device for applying a photosensitive layer to a plate during chemical photogravure is known, which includes a drum and holders for securing the plates in a horizontal plane 1.

Однако в таком устройстве имеет место нроскальзывание обрабатываемой иластины относительно барабана в начальный момент нанесени фоторезиста, что вл етс основной причнной получени неравномерного по толщине сло фоторезиста на пластине. Кроме того, в процессе обработки пластины фоторезист поиадает на обратную сторону пластины и на фиксирующие щтыри, что влечет за собой необходимость проведени дополнительной операции отмывки обратной стороны пластины, промывки фиксирующих штырей после обработки каждой нластины.However, in such a device, there is a slip of the processed ilastine relative to the drum at the initial moment of applying the photoresist, which is the main reason for obtaining a photoresist layer uneven in thickness on the plate. In addition, during the processing of the wafer, the photoresist pokes on the back side of the plate and on the fixing plugs, which entails the need to perform an additional operation of washing the reverse side of the plate, washing the fixing pins after treating each plate.

Известно устройство дл нанесени фотореаиста иа пластины, содержащее сборннк фоторезиста , установленную внутри него приводную оправку с вакуумной полостью 2.A device for applying a photoreist to a wafer is known, containing a collection of photoresist, a drive mandrel mounted inside it with a vacuum cavity 2.

Конструкци известпого устройства не исключает возможности попадани фоторезиста The construction of a lime device does not exclude the possibility of hitting the photoresist

на обратную сторону пластины, что ведет к необходимости введени в технологический процесс дополнительной операции отмывки обратной стороны пластины и вл етс недостатком конструкции, загрудн ющпм автоматизацию процесса.on the back side of the plate, which leads to the need to introduce into the process an additional operation of washing the back side of the plate and is a design flaw that inhibits the automation of the process.

Недостатком известного устройства вл етс также сложность конструкции и изготовлени , обусловлеина подводом вакуума к вращающейс онравке.A disadvantage of the known device is also the complexity of the design and manufacture, due to the vacuum supply to the rotating frame.

Цель изобретени - исключение попаданн фоторезнста на обратную сторону нластины.The purpose of the invention is the elimination of photo-soils on the reverse side of the nlastina.

Дл этого нредлагаемое устройство снабжено крыльчаткой, соосно установленной с зазором на оправке. Кроме того, в стенках оправки выполнены радиальные отверсти .For this, the proposed device is provided with an impeller coaxially mounted with a gap on the mandrel. In addition, radial holes are made in the walls of the mandrel.

На фиг. 1 изображен общий вид устройства в разрезе; на фиг. 2 - разрез по А-А на фиг. 1.FIG. 1 shows a general view of the device in section; in fig. 2 is a section along A-A in FIG. one.

Устройство содержит корпус 1, сборник фоторезиста 2, оправку 3 с вакуумной полостью 4 и радиальными отверсти ми 5, электропривод 6 оправки, крыльчатку 7 с электроприводом 8.The device comprises a housing 1, a collection of photoresist 2, a mandrel 3 with a vacuum cavity 4 and radial holes 5, an electric actuator 6 of the mandrel, an impeller 7 with an electric actuator 8.

Устройство работает следующим образом. Пластину 9 устанавливают на оправку 3 и включают электропривод 8 крыльчаткп 7. Под действием крыльчатки 7 воздух через радиальные отверсти 5 оправки 3 откачиваетс из вакуумной нолости 4. В вакуумной полости 4The device works as follows. The plate 9 is mounted on the mandrel 3 and the electric drive 8 of the impellers 7 is switched on. Under the action of the impeller 7, the air through the radial holes 5 of the mandrel 3 is pumped out of the vacuum section 4. In the vacuum cavity 4