Известен способ очистки гексафторида вольфрама от фтористого водорода путем конденсации газовой смеси прИ температуре минус 76-80°С и декантации фтористого водорода с последующей разгонкой под вакуумом оставшегос гексафторида вольфрама, загр зненного фтористым водородом. Недостатки известного способа: осуществление Процесса при низких температурах, его многостадийность и невысокий выход гексафторида вольфрама. С целью устранени указанных недостатков предложено гексафторид вольфрама сорбировать на фториде натри при температуре 170-190°С и давлении 15-40 мм рт. ст. с последующей десорбцией его при температуре 300-350°С. Целесообразно очистку вести при удельном объемном расходе содержащего фтористый водород гексафторида вольфрама 0,05- 0,6 НЛ/СМ -МИН. При этом фтористый водород проходит через сорбент, не сорбиру сь, а гексафторид вольфрама остаетс на сорбенте. Полученный гексафторид вольфрама практически не содер}кит фтористого водорода. Пример. Газовую смесь гексафторида вольфрама и фтористого водорода в количестве 3500 г, содержащего 46,11 вес. % фторИстого водорода и 53,89 вес. % гексафторида вольфрама, пропускают через слой фтористого натри при температуре 190°С, давлении 40 мм рт. ст. и удельном объемном расходе газовой смеси 0,05 нл/см -мин. На выходе получают фтористый водород в количестве 1615 г с содержанием гексафторида вольфрама 0,62 вес. %. Затем при температуре 340°С десорбируют гексафторид вольфрама в количестве 1884 г, свободный от фтористого водорода. Предмет изобретени 1.Способ очистки гексафторида вольфрама от фтористого водорода, отличающийс тем, что, с целью упрощени способа гексафторид вольфрама сорбируют на фториде натри при температуре 170-190°С и давлении 15-40 мм рт. ст. с последующей десорбцией его при температуре 300-350°С. 2.Способ по п. 1, отличающийс тем, что очистку ведут при удельном объемном расходе гексафторида вольфрама, содержащего фтористый водород, 0,05-0,6 нл/см -мин.A known method of purifying tungsten hexafluoride from hydrogen fluoride by condensing a gas mixture at a temperature of minus 76-80 ° C and decanting hydrogen fluoride, followed by distillation under vacuum of the remaining tungsten hexafluoride contaminated with hydrogen fluoride. The disadvantages of this method: the implementation of the Process at low temperatures, its multi-stage and low yield of tungsten hexafluoride. In order to eliminate these drawbacks, tungsten hexafluoride has been proposed to adsorb on sodium fluoride at a temperature of 170-190 ° C and a pressure of 15-40 mm Hg. Art. with its subsequent desorption at a temperature of 300-350 ° C. It is advisable to clean the lead when the specific volumetric flow rate containing hydrogen fluoride tungsten hexafluoride 0.05-0.6 NL / CM -MIN. In this case, hydrogen fluoride passes through the sorbent without sorbing, and tungsten hexafluoride remains on the sorbent. The resulting tungsten hexafluoride is practically free of hydrogen fluoride kit. Example. The gas mixture of tungsten hexafluoride and hydrogen fluoride in the amount of 3500 g, containing 46,11 weight. % Fluoride Hydrogen and 53.89 wt. % of tungsten hexafluoride, passed through a layer of sodium fluoride at a temperature of 190 ° C, a pressure of 40 mm RT. Art. and specific volume flow rate of the gas mixture of 0.05 nl / cm-min. At the exit receive hydrogen fluoride in the amount of 1615 g with a content of tungsten hexafluoride of 0.62 weight. % Then, at a temperature of 340 ° C, tungsten hexafluoride in the amount of 1884 g, free from hydrogen fluoride, is desorbed. The subject of the invention 1. A method for purifying tungsten hexafluoride from hydrogen fluoride, characterized in that, in order to simplify the process, tungsten hexafluoride is sorbed on sodium fluoride at a temperature of 170-190 ° C and a pressure of 15-40 mm Hg. Art. with its subsequent desorption at a temperature of 300-350 ° C. 2. A method according to claim 1, characterized in that the cleaning is carried out at a specific volume flow rate of tungsten hexafluoride containing hydrogen fluoride, 0.05-0.6 nl / cm-min.