SU491116A1 - Способ изготовлени диэлектрического полосового пропускающего интерференционного фильтра - Google Patents

Description

Так же, как разделительный слой, контролируют нанесение пленок, образующих второе зеркало фильтра. При изготовлении всех слоев фильтра о величине пропускани  суд т по показани м отсчетного прибора, по шкале которого регистрируют величину ф, пропорциональную пропусканию подложки с покрытием, включающим наносимый слой. Напылив последний слой фильтра до достижени  ф фгаах измер ют у получившегос  полосового фильтра, имеющего симметричную конструкцию, фактическое значение полуширины бХ полосы пропускани . Дл  этого , перестраива  монохроматор, фиксируют ближайшие к Ко длины волн К и Я2, соответствующие пропусканию, равному половине пропускани  в максимуме, и вычисл ют разность KZ-Х бХ получившегос  фильтра. Конструкци  симметричного фильтра выбираетс  такой, чтобы при всех возможных отступлени х от заданных (расчетных) значений показателей преломлени  и оптических толщин слоев величина бЛ была меньше требуемой бЯо на 30-40%. При изготовлении ДУПИФ из определенной пары веществ выполнение этого услови  обеспечиваетс  выбором числа пленок в зеркалах и оптической толщиной разделительного сло , котора  имеет дискретные значени , кратные --. По полученной дл  симметричного фильтра разности вычисл ют значение величины , при достижении которой следует прекратить напыление последнего сло , чтобы получить требуемую полуширину бЯ фильтра. Контроль пропускани  покрыти  в окончательной стадии нанесени  последнего сло  производитс  в монохроматическом свете на длине волны А,о, на которой определилось пропускание при нанесении всех предыдущих слоев. Предмет изобретени  Способ изготовлени  диэлектрического полосового пропускающего интерференционного фильтра путем нанесени  на подложку слоев с большим и меньшим показател ми преломлени  с одновременной регистрацией на рабочей длине волны Хо фильтра величины ф, пропорциональной пропусканию подложки с системой слоев, включающей наносимый, и прекращени  нанесени  последнего сло  при достижении максимального значени  ф Фтах, отличающийс  тем, что, с целью получени  заданной ширины полосы пропускани  фильтра, определ ют ближайшие к Ко длины волн Л1 и Яз, соответствующие половине пропускани  в максимуме, и продолжают нанесение последнего сло  до получени  величины , функционально св занной с разностью i2-Я; и показател ми преломлени  слоев.