SU486079A1 - Electrolyte for deposition of copper based alloys - Google Patents
Electrolyte for deposition of copper based alloysInfo
- Publication number
- SU486079A1 SU486079A1 SU1956588A SU1956588A SU486079A1 SU 486079 A1 SU486079 A1 SU 486079A1 SU 1956588 A SU1956588 A SU 1956588A SU 1956588 A SU1956588 A SU 1956588A SU 486079 A1 SU486079 A1 SU 486079A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- electrolyte
- zinc
- deposition
- copper
- based alloys
- Prior art date
Links
Description
фосфорную кислоту и декантируют в рабочую ванну. Электролит тщательно перемешивают, довод т водой до рабочего уровн . Рассеивающа способность электролита 8-17%.phosphoric acid and decanted into a working bath. The electrolyte is thoroughly mixed, brought to a working level with water. Electrolyte dispersing ability is 8-17%.
Трилон Б ввод т в электролит в качестве комплексообразовател , фосфорную кислоту - дл создани кислой среды и повышени раетворимости монофоефата цинка, двузамещенный фосфорнокислый аммоний - дл депассивации анодов, монофосфат цинка ввод т в качестве соли соосаждаемого металла и дл слабой фосфотации подложки и покрыти .Trilon B is introduced into the electrolyte as a complexing agent, phosphoric acid is used to create an acidic environment and improve the solubility of zinc mono- phate, disubstituted ammonium phosphate is used to depassivate the anodes, zinc monophosphate is used as a co-precipitating metal salt and for weak phosphatation of the substrate and the coating.
Электролит стабилен в работе при пропус ,-„ а-часElectrolyte is stable in operation with a pass, - “a-hour
кании 56 электричества.Cania 56 electricity.
лl
Корректирование электролита по величине рН производ т 1 раз в сутки, по содержанию основных компонентов - 2-3 раза в неделю, по содержанию двузамещенного .фосфорнокислого аммони и трилона Б - 1 раз в неделю .The correction of the electrolyte by pH is made 1 time per day, according to the content of the main components - 2-3 times a week, according to the content of disubstituted ammonium phosphoric acid and Trilon B - once a week.
Пример 1. Электроосаждение сплава медь-цинк-никель-|фосфор с содержанием 81,3% меди, 7,2% цинка, 10,6% никел и 0,9% фосфора, толщиной 20 мкм, провод т в электролите, содержащем, г/л:Example 1. Electrodeposition of a copper-zinc-nickel- | phosphorus alloy with a content of 81.3% copper, 7.2% zinc, 10.6% nickel and 0.9% phosphorus, 20 microns thick, is carried out in an electrolyte containing g / l:
Сернокисла медь50Copper sulfate 50
Сернокислый никель15Nickel sulphate15
Моно.фосфат цинка50Zinc mono phosphate50
Фосфорна кислота100Phosphoric acid100
Двузамещенный фосфорнокислыйDisubstituted phosphate
аммоний30ammonium30
Трилон Б50Trilon B50
при рН 1,5, температуре 20°С и катодной плотности тока 2 а/дм. Скорость осаждени покрыти 0,45 мкм/мин, выход по току 96,5%. Осадки обладают следующими свойствами: отражательна способность 36%, внутренние напр жени 495 кг/см, микротвердость 291 кг/мм, удельное электросопротивлениеat pH 1.5, temperature 20 ° С and cathode current density 2 a / dm. The deposition rate of the coating is 0.45 µm / min, the current efficiency is 96.5%. Precipitation has the following properties: reflectivity 36%, internal stresses 495 kg / cm, microhardness 291 kg / mm, specific electrical resistance
ом .мм 0036 переходное электросонротивлеМohm .mm 0036 transition elektrokonstruktivM
ние 0,016 ом, пористость 2,5 поры/см глубина пор 6-8 мкм и диаметр поры 2 мкм. Покрыти термостойкие, коррозионностойкие, прочно сцепленные с основой.0.016 ohm, a porosity of 2.5 pores / cm pore depth of 6-8 microns and a pore diameter of 2 microns. Cover heat-resistant, corrosion-resistant, firmly coupled with the base.
Пример 2. Электроосаждение сплава, содержащего 82,2% меди, 5,9% цинка, 11% никел и 0,9% фосфора, толщиной 20 мкм, провод т в электролите, содержащем, г/л: Сернокисла медь55Example 2. Electrodeposition of an alloy containing 82.2% copper, 5.9% zinc, 11% nickel and 0.9% phosphorus, 20 microns thick, is carried out in an electrolyte containing, g / l: Copper sulfate 55
Сернокислый никель15Nickel sulphate15
Монофосфат цинка40Zinc monophosphate40
Фосфорна кислота100Phosphoric acid100
Двузамещенный фосфорнокислыйDisubstituted phosphate
аммоний30ammonium30
Трилон Б50Trilon B50
пр.и рН 1,6, температуре 20С и катодной плотности тока 1 а/дм. Скорость осаждени 0,22 мкм/мин, выход по току 96,5%.pH and pH 1.6, temperature 20C and cathode current density of 1 a / dm. The deposition rate is 0.22 µm / min, the current efficiency is 96.5%.
Осадки обладают следующими свойствами: отражательна способность 42%, внутренние напр жени 430 кг/см удельное электросо ,,.,„ ом-ммпротивление 0,038 , переходное элекмThe sediments have the following properties: reflectivity 42%, internal voltages 430 kg / cm specific electro,, ohm-mm resistance 0.038, transient electromotive
тросоиротивление 0,014 ом.trosirostovenie 0,014 ohm.
Предмет изобретени Subject invention
Электролит дл осаждени сплавов на основе меди, содержащий сернокислую медь, сернокислый никель, соль цинка и органическую добавку, отличающийс тем, что, с целью получени блест щих покрытий из сплавов медь-цинк-никель-фосфор и повышени стабильности электролита в его состав Введены фосфорна кцслота и двузамещенный фосфорнокислый аммоний, а в качестве соли цинка и органической добавки использованы монофосфат цинка и трилон Б при следующем соотношении компонентов, г/л: Сернокисла медь40-55The electrolyte for the deposition of copper-based alloys, containing copper sulphate, nickel sulphate, zinc salt and an organic additive, characterized in that phosphorne is added to obtain shiny coatings from copper-zinc-nickel-phosphorus alloys to improve the stability of the electrolyte. ktslot and disubstituted ammonium phosphate, and zinc monophosphate and Trilon B are used as zinc salts and organic additives in the following ratio of components, g / l: Copper sulfide 40-55
Сернокислый никель15- 30Nickel sulfate15-30
Монофоофат цинка40-55Zinc monophosphate40-55
Фосфорна кислота90-100Phosphoric acid90-100
Двузамещенный .фосфорнокислыйDisubstituted phosphate
аммоний25-30ammonium25-30
Трилон Б40-50.Trilon B40-50.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1956588A SU486079A1 (en) | 1973-08-23 | 1973-08-23 | Electrolyte for deposition of copper based alloys |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1956588A SU486079A1 (en) | 1973-08-23 | 1973-08-23 | Electrolyte for deposition of copper based alloys |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU486079A1 true SU486079A1 (en) | 1975-09-30 |
Family
ID=20563768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU1956588A SU486079A1 (en) | 1973-08-23 | 1973-08-23 | Electrolyte for deposition of copper based alloys |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU486079A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4417956A (en) | 1980-07-17 | 1983-11-29 | Electrochemical Products, Inc. | Alkaline plating baths and electroplating process |
-
1973
- 1973-08-23 SU SU1956588A patent/SU486079A1/en active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4417956A (en) | 1980-07-17 | 1983-11-29 | Electrochemical Products, Inc. | Alkaline plating baths and electroplating process |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4428802A (en) | Palladium-nickel alloy electroplating and solutions therefor | |
CN105473768B (en) | For the electrolyte of electrolytic deposition silver palladium alloy and the deposition process of silver palladium alloy | |
JP2003533867A5 (en) | ||
JP6951465B2 (en) | Trivalent chrome plating solution and chrome plating method using this | |
Smirnova et al. | Study of anode processes during development of the new complex thiocarbamide-citrate copper plating electrolyte | |
CN101815814A (en) | Method of obtaining a yellow gold alloy coating by electroplating without the use of toxic metals or metalloids | |
SU486079A1 (en) | Electrolyte for deposition of copper based alloys | |
EP0032463A1 (en) | Electrodeposition of cadmium with selenium | |
CN101565843B (en) | Method for preparing zinc-magnesium alloy coating | |
CN103806036A (en) | Wide-current density cyanide-free copper-tin alloy electroplating process | |
Ouakki et al. | Electrochemical deposition of Zinc on mild steel | |
Afifi et al. | Additive behavior in copper electrorefining | |
SU467145A1 (en) | Electrolyte for precipitation of tin-bismuth alloy | |
Rudnik et al. | Comparative studies of the electroreduction of zinc ions from gluconate solutions | |
SU699037A1 (en) | Electrolyte for depositing nickel-phosphorus alloy coatings | |
SU1585391A1 (en) | Electrolyte for depositing palladium-nickel alloy | |
SU524866A1 (en) | Electrolyte for deposition of zinc-nickel alloys | |
SU1079701A1 (en) | Copper-plating electrolyte | |
RU2205901C1 (en) | Method of electrodeposition of zinc | |
SU1618786A1 (en) | Electrolyte for depositing bismuth-indium alloy | |
SU603709A1 (en) | Silver-plating electrolyte | |
PL438918A1 (en) | Electroplating bath for the deposition of nickel coatings, method of its preparation and method of electroplating nickel coatings from this bath, in particular for production of target material enriched in Ni-64 isotope for use in PET research | |
RU2153029C1 (en) | Electrolyte for cadmium plating | |
RU2061800C1 (en) | Electrolyte for deposition of palladium-base alloy | |
SU1407998A1 (en) | Electrolyte for depositing tin-lead alloy coating |