SU603709A1 - Silver-plating electrolyte - Google Patents
Silver-plating electrolyteInfo
- Publication number
- SU603709A1 SU603709A1 SU762345519A SU2356681A SU603709A1 SU 603709 A1 SU603709 A1 SU 603709A1 SU 762345519 A SU762345519 A SU 762345519A SU 2356681 A SU2356681 A SU 2356681A SU 603709 A1 SU603709 A1 SU 603709A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- silver
- thiourea
- copyright certificate
- derivative
- electrolyte
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/46—Electroplating: Baths therefor from solutions of silver
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
При этом в качестве производного тиомочевины он содержит соединение общей формулыMoreover, as a derivative of thiourea it contains a compound of the general formula
s s
fH - fH -
2 R-CH2CH20H -//5 -CH2 a также соединение общей формулы2 R-CH2CH20H - // 5 -CH2 a also a compound of the general formula
R-HH- -KH-CHjOH;R-HH- -KH-CHjOH;
гВе В -Н; НОСН2.gWe B-H; HOCH2.
Технологи пригото1зленн электролита очень проста. Азотнокислое серебро в добавку ввод т в раствор азотной кислрты в твердом виде. Дл корректировки можно использовать как твердые вещества, так и нх концентрированные растворы.The technology of prepared electrolyte is very simple. Silver nitrate is added to the additive in a solution of nitric acid in solid form. Both solids and hx concentrated solutions can be used for adjustments.
Осаждение серебра на медь из азотноки :лого электролита можно прово шь как элек тролитически, так и контактным способами. Контактный способ особенно прост, удобен и заключаетс в том, что в ванну са ектролитоы опускают медный образвв,пре;даа|датвльно обезжиренный и протравленный в 5О%-н1юм растворе азотной кислоты в течение сек.The deposition of silver on copper from nitrogen: the electrolyte logo can be carried out both electrolytically and by contact methods. The contact method is particularly simple, convenient, and consists in the fact that copper is immersed in a bath of an electrolyte, before it is degreased and pickled in a 5O% solution of nitric acid for a second.
Медна подложка сразу же покрываетс блест щим слоем серебра, С увеличением времени осаждени контактным способомThe copper substrate is immediately covered with a shiny silver layer. With increasing deposition time by contact
(.1О-15О мин) толщину покрыти растет и до толщины 6 мкм осадки остаютс гладкими , блест щими, хорошо сцепленными с основой. Такие покрыти можно рекомендовать как декоратиЁные ила дл придани специальных свойств (например, электропро водности) детал м, работающим 6 м гких услови х. Контактное осаждение может примен тьс дл предварительной обработка перед цианистым серебрением деталей.(.1O-15O min) the thickness of the coating grows and up to a thickness of 6 microns the sediments remain smooth, shiny, well adhered to the substrate. Such coatings can be recommended as decorative sludge for imparting special properties (e.g., electrical conductivity) to parts operating under 6 mild conditions. Contact deposition can be used for pretreatment before cyanide silvering of parts.
Осаждение серебра на медь электролитическим способом ведут при pfH 0,5-1,1 комнатной температуре и плотност х тока О,1-О,4 А/дм с растворимыми серебр ными анодами, которые в процессе электролиза не пассивируютс . Продолжительность процесса составл ет 1О-2О мин. Электролитические покрыти более плотные, равномерные , хорошо сцепленные с медной подложкой , по сравнению с контактными, блестшаие д« толщины 6 мкм. .Silver is deposited on copper by electrolytic method at a pfH of 0.5-1.1 room temperature and current densities O, 1-O, 4 A / dm with soluble silver anodes, which are not passivated during electrolysis. The duration of the process is 1O-2O minutes. Electrolytic coatings are more dense, uniform, well adhered to the copper substrate, as compared to contact surfaces, shining d 6 mm thick. .
С увеличением времени осаждени серебр ные осадки станов тс матовыми с темный напетой, толщина покрытий практически не зависит от катодной плотности тока, Рассеивакнца способность азотнокислых электролитов близка к 1ОО%, Все это свидетельствует об осаждении серебра на медь из этих растворов на. предельном токе.With an increase in precipitation time, silver precipitates become opaque with a dark smoke, the thickness of the coatings practically does not depend on the cathode current density. current limit.
Увеличение концентрации азотнокислого серебра в растворе свыще 5 г/л ведетк быстрому образованию и росту дентритов на медной подложке. Однако npji повышенных концентраци х (от Ю до 2ОО г/л) возможно электрохимическое осаждение светлых, гладких, мелкокристаллических, хорощо сцепленных с основой осадков серебра на благородных металлах, в частности на серебре. Это даст возможность значительно интенси шцировать процесс осаждени серебра при необходимости получени толстых осадков за счет высокого содержани в электролите азотнокислого i серебра AgNO и увеличени катодной плотности тока до 0,5-5 А/дм Наилучшим условием .Тдл элект5Х)Осаждени серебра на медь из предлагаемого электролита вл етс осаждение при посто нном потенциале, несколько более отрицательном, чем стационарный потенциал меди в данном электролите, например Ю,2бО-0,28О В относительно нормалыюго водородного электрода сравнени .An increase in the concentration of silver nitrate in a solution of more than 5 g / l leads to the rapid formation and growth of dendrites on a copper substrate. However, npji of elevated concentrations (from 10 to 2OO g / l), electrochemical deposition of light, smooth, fine-crystalline, silver-bonded silver deposits on noble metals, in particular, on silver, is possible. This will make it possible to significantly intensify the process of silver deposition, if it is necessary to obtain thick precipitates due to the high content of silver nitrate AgNO in the electrolyte and an increase in cathode current density to 0.5–5 A / dm. The best condition. Electrolyte is deposition at a constant potential, somewhat more negative than the stationary potential of copper in a given electrolyte, for example, Yu, 2O-0.28O V relative to the normal hydrogen electrode of the comparison.
В таблице приведены примеры составов электролитов.The table shows examples of the composition of electrolytes.
Производное тиомоч евины общей фор({улыDerivative tiomoch evins common form ({uly
/ИН-СН2 „ т,/ IN-CH2 "t,
., .
где fl-CH2CH20H}where fl-CH2CH20H}
1-2- (Оксиэтнл) -гвксаги.цро-1 ,3,5-гриааин -4- тион1-2- (Oxyethnl) -gvksagi.tsro-1, 3,5-griaain-4- thion
-О-ABOUT
Предлагаемый электролит не токсичен, прост в приготовлении, использовании и корректировке . Стоимость 10О л электролита составл ет 14,64 руб.The proposed electrolyte is non-toxic, easy to prepare, use and adjust. The cost of 10 liters of electrolyte is 14.64 rubles.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762345519A SU603709A1 (en) | 1976-03-09 | 1976-03-09 | Silver-plating electrolyte |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762345519A SU603709A1 (en) | 1976-03-09 | 1976-03-09 | Silver-plating electrolyte |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU603709A1 true SU603709A1 (en) | 1978-04-03 |
Family
ID=20660096
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU762345519A SU603709A1 (en) | 1976-03-09 | 1976-03-09 | Silver-plating electrolyte |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU603709A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4614568A (en) * | 1983-06-14 | 1986-09-30 | Nihon Kogyo Kabushiki Kaisha | High-speed silver plating and baths therefor |
EP0290102A2 (en) * | 1987-05-07 | 1988-11-09 | Triazone Corporation | Water-insoluble triazone fertilizer and method of making and use |
-
1976
- 1976-03-09 SU SU762345519A patent/SU603709A1/en active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4614568A (en) * | 1983-06-14 | 1986-09-30 | Nihon Kogyo Kabushiki Kaisha | High-speed silver plating and baths therefor |
EP0290102A2 (en) * | 1987-05-07 | 1988-11-09 | Triazone Corporation | Water-insoluble triazone fertilizer and method of making and use |
EP0290102A3 (en) * | 1987-05-07 | 1991-01-02 | Triazone Corporation | Water-insoluble triazone fertilizer and method of making and use |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3677909A (en) | Palladium-nickel alloy plating bath | |
JPH08104993A (en) | Silver plating bath and its silver plating method | |
JP5887381B2 (en) | Method for obtaining yellow gold alloy deposits by electroplating without using toxic or semi-metals | |
ATE10862T1 (en) | PROCESS FOR ELECTROPLATING OF LEAD ALLOYS. | |
US20040195107A1 (en) | Electrolytic solution for electrochemical deposition gold and its alloys | |
US3920526A (en) | Process for the electrodeposition of ductile palladium and electroplating bath useful therefor | |
SU603709A1 (en) | Silver-plating electrolyte | |
US3729396A (en) | Rhodium plating composition and method for plating rhodium | |
US4159926A (en) | Nickel plating | |
US4465563A (en) | Electrodeposition of palladium-silver alloys | |
JP2001172790A (en) | Electroplating bath for nickel plating | |
EP0225422A1 (en) | Alkaline baths and methods for electrodeposition of palladium and palladium alloys | |
US4615774A (en) | Gold alloy plating bath and process | |
US3984291A (en) | Electrodeposition of tin-lead alloys and compositions therefor | |
FR2519656A1 (en) | PROCESS FOR THE ELECTROLYTIC COATING OF TRIVALENT CHROMIUM WITHOUT HEXAVALENT CHROMIUM ION FORMATION, USING A FERRITE ANODE | |
US3880730A (en) | Electro-galvanic gold plating process | |
CA1050471A (en) | Electroplating of rhodium-ruthenium alloys | |
US4401527A (en) | Process for the electrodeposition of palladium | |
US4741818A (en) | Alkaline baths and methods for electrodeposition of palladium and palladium alloys | |
US2439935A (en) | Indium electroplating | |
JP2540110B2 (en) | Electro aluminum plating method | |
CA1272160A (en) | Gold alloy plating bath and process | |
Chomakova et al. | Microthrowing power of electrolytes for the deposition of nickel-iron alloys. I. Components determining the levelling effect of nickel-iron plating electrolytes | |
JPS6070197A (en) | Silver alloy plating method | |
SU142489A1 (en) | Electrolytic metal reduction method |