SU1666582A1

SU1666582A1 - Способ изготовлени матрицы дл гальванопластического получени перфорированных изделий

Info

Publication number: SU1666582A1
Application number: SU884489308A
Authority: SU
Inventors: Александр Михайлович Посвольский; Николай Николаевич Исаев; Виктор Семенович Пужливый
Original assignee: Предприятие П/Я М-5893
Priority date: 1988-10-03
Filing date: 1988-10-03
Publication date: 1991-07-30

Abstract

Изобретение относитс к гальванопластике, в частности к гальванопластическому изготовлению перфорированных изделий. Целью изобретени вл етс повышение количества изделий с одной матрицы. По изобретению изготавливают перфорированную металлическую модель из двух идентичных по форме частей, толщина одной из которых соответствует толщине издели , устанавливают модель на временное основание, заполн ют отверсти в модели диэлектрическим материалом, на основе эпоксидной смолы, причем заполнение осуществл ют на толщину, превышающую толщину модели, после чего временное основание и часть модели соответствующей толщине издели удал ют. Полученнуюб матрицу используют дл получени перфорированных изделий гальваническим осаждением меди, никел , сплава никел - кобальт или др. металлов. С одной матрицы можно получить 90 изделий при сохранении высокой точности их геометрии.

Description

Изобретение относитс к гальванопластике , в частности к гальванопластическому изготовлению металлических перфориро- ванных изделий.

Целью изобретени вл етс повышение количества изделий с одной матрицы.

По изобретению изготавливают составную перфорированную модель из металлического материала, состо щую из двух идентичных по форме частей, из которых по крайней мере одна по толщине соответствует изготавливаемому изделию, устанавливают составную модель на временное основание отверсти в модели заполн ют

диэлектрическим материалом на основе эпоксидной смолы, толщиной, превышающей толщину модели, после чего временное основание и часть модели, соответствующую по толщине изготавливаемому изделию , отдел ют.

Пример. Изготавливали изделие сетчатый модуль электрода дл аккумул торов , представл ющий собой сетчатую пластину толщиной 200 мкм, с квадратными отверсти ми размером 4х 4 мм и рассто нием между центрами отверстий 4,5 мм.

Дл этого изготавливали по негативному фотошаблону с изображением издели

Os ON Ov СЛ 00

ю

методом фотолитографии фоторезистивную матрицу из фоторезиста марки СПФ-2ВЩ. На матрицу наращивали изделие из сплава никель-кобальт толщиной 200 мкм в сульфа- матном электролите никелировани . Состав электролита и режим осаждени были следующими:

Сульфамат никел 340 г/л

Сульфамат кобальта10 г/л

Хлорид никел 5 г/л

Борна кислота30 г/л

Лаурилсульфат натри 0,1 г/л

Температура45°С

Плотность тока1-2 А/дм

Из указанного электролита выращивают по фоторезистивным матрицам детали двух типов: перва соответствует толщине изготавливаемого издели , втора - в несколько раз толще в данном случае - 1 мм. Фоторезистивный слой удал ют химическим путем обработкой в 30%-ном растворе КОН при 50-70°С и детали отдел ют от подложки.

Изготовленные детали совмещают по контуру и покрывают лаком марки ХСЛ, устанавливают модель частью, соответствующей по толщине изготавливаемому изделию, на временное основание из оргстекла , фиксиру ее указанным выше лаком, Устанавливают временное основание с моделью , заливают на высоту 10 мм эпоксидной композицией следующего состава, мае.ч.:

Эпоксидна смола ЭД-20 100 Полиэтиленполмамины 15 После отверждени композиции модель вынимают из опоки, отдел ют временное основание и верхнюю деталь сборной модели механически с промывкой в гор чей воде дл удалени лака. Получают таким образом матрицу, на которую наращивают издели толщиной до 200 мкм из электролитов меднени , никелировани , сплава никель-кобальт и т.п.

Например, детали из никел наращивают следующим образом.

На матрицу нанос т разделительный слой в растворе бихррмата кали 120 г/л в течение 15 мин,

Матрицу промывают в гор чей воде и завешивают в ванну. Состав электролита и режим:

Сульфат никел 340 г/л

Хлорид никел 5 г/л

Борна кислота30 г/л

Лаурилсульфат натри 0,3 г/л Температура50°С

Плотность тока2 А/дм2

Готовую деталь легко отдел ют от матрицы . Таким образом с матрицы было получено 90 шт. изделий с четкой кромкой отверстий - вертикальной стенкой отверстий .

Отклонение размера от исходного не превышает 0,02 мм при изготовлении перфорированных изделий с использованием матрицы, полученной способом фотолитографии . Количество полученных изделий не

превышает 500, а в случае использовани плоской матрицы с чередованием провод щих и непровод щих участков ухудшаетс и точность геометрии получаемых изделий. Указанные выше преимущества позвол т

Claims

использовать изобретение дл изготовлени перфорированных сложнопрофильных изделий различного назначени . Формула изобретени Способ изготовлени матрицы дл гальванопластического получени перфорированных изделий, включающий изготовление неметаллической модели с отверсти ми, соответствующими перфорации издели и заполнение отверстий диэлектрическим

материалом, отличающийс тем, что, с целью повышени изделий с одной матрицы , металлическую модель выполн ют из двух идентичных по форме частей, толщина одной из которых соответствует толщине

издели , устанавливают модель на временное основание и в качестве диэлектрического материала дл заполнени отверстий берут состав на основе эпоксидной смолы, причем заполнение осуществл ют на толщину , превышающую толщину модели, после чего временное основание и часть модели, соответствующей толщине издели , отдел ют.