RU1788095C - Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит - Google Patents

Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит

Info

Publication number
RU1788095C
RU1788095C SU904837186A SU4837186A RU1788095C RU 1788095 C RU1788095 C RU 1788095C SU 904837186 A SU904837186 A SU 904837186A SU 4837186 A SU4837186 A SU 4837186A RU 1788095 C RU1788095 C RU 1788095C
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layer
nickel
sieves
precision
thickness
Prior art date
Application number
SU904837186A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Константинович Сундуков
Андрей Юрьевич Чечеткин
Александр Николаевич Жуков
Original Assignee
Тульский Политехнический Институт
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Тульский Политехнический Институт filed Critical Тульский Политехнический Институт
Priority to SU904837186A priority Critical patent/RU1788095C/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU1788095C publication Critical patent/RU1788095C/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
    • C25D1/08Perforated or foraminous objects, e.g. sieves

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

Сущность изобретени : на пластину из нержавеющей стали последовательно осаждают слои никел , меди и никел  и дополнительно нанос т слой хрома и никел , равный толщине сита с последующим травлением через фотолитографическую маску до первого сло  никел . После чего пблученные лунки заполн ют диэлектриком, а дополнительный слой никел  удал ют до сло  хрома. 1 ил.. -

Description

Изобретение относитс  к машиностроению в частности к способам гальванического осаждени  металла,
В машиностроении используют следующий способ изготовлени  сеток, заключающийс  в электроосаждении металла (материала сетки) на гравированную и металлизированную матрицу-катод. Дл  этого матрицу из органического или другого специального стекла гравируют в двух взаимно перпендикул рных направлени х с помощью специального устройства. После гравировки матрицу металлизируют.
Дл  получени  никелевых сеток, размером 135 мм и шагом гравировки 50,80 и 130 мкм с толщиной около 1.0 мкм используют сульфатный электролит ( - 330 г/л, NICI2 - 45 г/л, НзВОз - 38 г/л) с добавками (0,5-1,0 г/л) сахарина, 1,4 - бутиндиола, па- ротолуолсульфамида, снижающими внутренние напр жени . При катодной плотности тока 0,8 А/дм из электролита с указанными добавками получают высокопрочные сетки, которые после отжига в водороде при температуре 480°С в течение 20
мин имеют предел прочности на разрыв 0,73-0,78 ГПа. Абсолютное, значение оптической прозрачности изгдтавлййаёмШ сеток составл ет 50-53%.
Однако данный способ имеет р д недостатков . Матрицу-катод изготавливают из орг- стекла, которое как правило, после длительного использовани  деформируетс , а, следовательно, тер ет свои геометрические размеры, что приводит к искажению формы и размеров отверстий сеток.
Необходимость использовани  специального оборудовани  дл  гравировки.
Использование специальных органических добавок и невысоких плотностей тока,
Наиболее близким техническим решением  вл етс  способ изготовлени  сеток- ножей дл  бритв. В качестве матриц при изготовлении сеток-ножей используютс  листы коррозионно-стойкой холоднокзтан- ной полированной стали марки 10Х1АГ. На рабочую поверхность пластины нанос т последовательно первый слой Ni толщиной 1 мкм, слой меди толщиной 250 мкм, второй
ел С
vi
00
00
о
О
ел
слой NI толщиной 25 мкм. Первый слой NI, осаждаемый на поверхность матрицы выполн ет роль подсло , обеспечивающего хорошую адгезию последующего сло  меди. Медный и второй слой N обеспечивают пол- учение четкого контура отверстий при последующих операци х. На матрицу нанос т, фоторезист и экспонируют рисунок. Затем ее погружают в травильный раствор (хлорное железо) на две минуты. Полученные лун- ки глубиной 0,08-0,10 мм заполн ют диэлектриком. После шлифовки поверхности матрицы и обезжиривани  производ т осаждение на перемычки сло  меди толщиной 5 мкм, никел  -4,5 мкм и хрома 0,5 мкм, Суммарна  толщина этого покрыти  составл ет 10 мкм и обеспечивает образование режущих кромок сеток. Готовые сетки отдел ют от матрицы. Матрицы используютс  многократно, дл  получени  с каждой до 80-100 сьемов. ... ; . ; . .
Однако известный способ имеет следующие недостатки. : :; ;.
Невозможность получени  заданной формы отверстий при толщине 100 мкм.
Отсутствует контроль за процессом формировани  отверстий сита.
Целью предложенного способа  вл етс  повышение точности формы и размеров отверстий прецизионных сит.
Поставленна  цель достигаетс  тем, что в качестве матриц при изготовлении прецизионных сит используетс  нержавеюща  сталь, на рабочую поверхность которой нанос т слой никел  толщиной 1...1,5 мкм, слой меди 250 мкм второй слой никел  толщиной 10 мкм, а на него слой хрома толщиной 0,5 мкм и после этого на всю эту матрицу нанос т слой никел , равный толщине сита. Далее на матрицу нанос т слой фоторезиста и получают рисунок. Затем ее погружают в травильной раствор (FeCIs) дл  стравливани  через фотолитографическую маску слоев Ni, Gr, NI и Си до первого сло  NI. Полученные лунки заполн ют жидким диэлектриком, который впоследствии от- верждают. Полученную матрицу шлифуют, а затем стравливают дополнительный слой никел , равный толщине сита до сло  хрома. Известны технические решени , в которых верхний слой никел  не стравливают, т.о. полученные сита имеют острые кромки, а также повышенную конусность  чеек, что п свою очередь не позвол ет получить требуемые точность размеров и формы  чеек си- та, которые достигаютс  в за вл емом решении.
На п редставл ена заготовка матрицы дл  производства прецизионного си 1,ч и пор док формировани  диэлектрических столбиков, состо ща  из: 1 - нержавеюща  сталь,.2 - слой никел , 3 - слой меди толчциной 250 мкм, 4 - слой никел  толщиной 10 мкм, 5-слойхрома, 6 -дополнительный слой никел , равный толщине сита, 7 - слой фоторезиста, 8 - диэлектрик.
Предлагаемый способ изготовлени  многослойных матриц дл  прецизионных сит реализованы следующим образом.
На пластину из нержавеющей стали толщиной 2-4 мм нанос т слой никел  толщиной 1-1,5 мкм, выполн ющий роль подсло , обеспечивающего хорошую адгезию последующего сло  меди, нанесенную на слой никел , затем на слой меди толщиной до 250 мкм, гальваническим осаждением нанос т слой никел , толщиной 1-1,5 мкм, в стационарной ванне при плотности тока 10-50 мА/см . После этого, нанос т слой хрома 0,5 мкм дл  защиты от последующего растрав- ливани  сло  никел , который осаждают также в стационарной ванне из стандартного электролита (N iSO-r-320 г/л, г/л, НзВОз-38 г/л) при плотности тока, равной 10-50 мА/см .Толщина сло  хрома выбрана 0,5 мкм, так как при толщине 0,3 мкм происходит частичный протрав сло  никел , а при 0,7 мкм увеличиваетс  врем  осаждени  хрома, что приводит к снижению производительности .
Слой никел  осаждают до тех пор пока он не будет равен толщине будущего сита (в рассматриваемом случае толщина сита составл ет 100 мкм, диаметр отверстий 0,525+ 0,025 мм, рассто ние между центрами отверстий 0,8 мм).
Далее на сформированные слой с помощью ламинатора накатывают слой фоторезиста марки СПФ-В Щ или др. и экспонируют рисунок с помощью установки дл  экспонировани . Затем матрицу погружают в травильный раствор (например, 10% NaOH). Вынимают, тщательно промывают проточной, а затем дистиллированной водой . Далее просушивают теплым воздухом. Полученные лунки заполн ют жидким диэлектриком эпоксидный компаунд (вакуумна  пропитка). После этого диэлектрик отверждают и полученные столбики под- шлифовуют. Затем химически стравливают слой никел  (например, раствором следующего состава РеС1з - 150 г/л) на толщину. равную толщине сита, до сло  хрома. Матрицы используютс  многократно.

Claims (1)

  1. Использование предлагаемого гальванопластического способа изготовлени  многослойных матриц дл  прецизионных сит за счет образовани  данных столбиком повышает точность формы и размеров отверстий прецизионных сит на 75-85%, по сравнению с известными способами. Формула изобретени  Гальванопластический способ изготовлени  многослойных матриц дл  прецизионных сит включающий электроосаждение на пластину из нержавеющей стали последовательно слоев никел , меди и никел  с последующим травлением через фотолитографическую маску, отличающий с   тем, что, с целью повышени  точности формы и размеров отверстий прецизионных сит, дополнительно нанос т слой хрома и слой никел , равный толщине сита, а травление через фотолитографическую маску ведут до первого сло  никел , полученные лунки заполн ют диэлектриком, после чего дополнительный слой никел  удал ют до сло  хрома.
    :- 6
    а/ гальваническое осажае- ие слоев под заготовку ;.«триин
    3 S55|
    7
    6/ формирование фотолитографической маски
    SZZZZ 4
    в/ химчческое травление через отолитогра }лческую каску
    г/ вакуумчое заполнение полостей тллккм диэлектриком
SU904837186A 1990-06-08 1990-06-08 Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит RU1788095C (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU904837186A RU1788095C (ru) 1990-06-08 1990-06-08 Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU904837186A RU1788095C (ru) 1990-06-08 1990-06-08 Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU1788095C true RU1788095C (ru) 1993-01-15

Family

ID=21519787

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU904837186A RU1788095C (ru) 1990-06-08 1990-06-08 Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU1788095C (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Вансовска К, М.,Вол нюк Г.А. Промышленна гальванопластика. Под ред. П.М.В - чеславова, Машиностроение/1986, с. 71. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4088544A (en) Composite and method for making thin copper foil
CA1247552A (en) Process of electroforming a metal product and an electroformed metal product
US3878061A (en) Master matrix for making multiple copies
KR20100103434A (ko) 전기 주조를 위한 몰드 및 상기 몰드를 제조하는 방법
DE2854588A1 (de) Metallverbund, insbesondere gedruckte schaltungen, und verfahren zur herstellung
US3022230A (en) Process for electroforming grooved and channeled bodies
KR20100103433A (ko) 전기 주조를 위한 몰드 및 상기 몰드를 제조하는 방법
CN108277510A (zh) 一种掩模板及其制作方法、显示基板
DE4231742C2 (de) Verfahren zur galvanischen Abformung von mit Strukturen versehenen plattenförmigen Körpern
CA1331575C (en) Electroforming emp shielding elements
US3695927A (en) Electrodeposition process for producing perforated foils with raised portions at the edges of the holes
RU1788095C (ru) Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит
Silaimani et al. Review on recent advances in electroforming during the last decade
CN115922258A (zh) 一种太赫兹金属镀层空芯矩形波导腔体铸、铣一体化成型制造方法
NO144756B (no) Fremgangsmaate ved fremstilling av motstander.
US2230868A (en) Method of manufacturing reticulated metal sheets
US2225733A (en) Process for the electrolytic production of metal screens
EP1871925A2 (en) Method for electroforming a studded plate and a copy die, electroforming die for this method, and copy die
US4327428A (en) Decorative plate for a timepiece
US7097754B2 (en) Continuous electroforming process to form a strip for battery electrodes and a mandrel to be used in said electroforming process
GB2085620A (en) Timepiece hand and method of manufacture
US3846258A (en) Process for solder coating silicon solar cells
US4166011A (en) Method for the manufacture of a shaping mask for an electroerosion tool
CN111621816A (zh) 一种超高深宽比金属微柱阵列的制作方法
KR101849158B1 (ko) 배선용 기판의 제조방법