RU1788095C - Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит - Google Patents
Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных ситInfo
- Publication number
- RU1788095C RU1788095C SU904837186A SU4837186A RU1788095C RU 1788095 C RU1788095 C RU 1788095C SU 904837186 A SU904837186 A SU 904837186A SU 4837186 A SU4837186 A SU 4837186A RU 1788095 C RU1788095 C RU 1788095C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- nickel
- sieves
- precision
- thickness
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/08—Perforated or foraminous objects, e.g. sieves
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Сущность изобретени : на пластину из нержавеющей стали последовательно осаждают слои никел , меди и никел и дополнительно нанос т слой хрома и никел , равный толщине сита с последующим травлением через фотолитографическую маску до первого сло никел . После чего пблученные лунки заполн ют диэлектриком, а дополнительный слой никел удал ют до сло хрома. 1 ил.. -
Description
Изобретение относитс к машиностроению в частности к способам гальванического осаждени металла,
В машиностроении используют следующий способ изготовлени сеток, заключающийс в электроосаждении металла (материала сетки) на гравированную и металлизированную матрицу-катод. Дл этого матрицу из органического или другого специального стекла гравируют в двух взаимно перпендикул рных направлени х с помощью специального устройства. После гравировки матрицу металлизируют.
Дл получени никелевых сеток, размером 135 мм и шагом гравировки 50,80 и 130 мкм с толщиной около 1.0 мкм используют сульфатный электролит ( - 330 г/л, NICI2 - 45 г/л, НзВОз - 38 г/л) с добавками (0,5-1,0 г/л) сахарина, 1,4 - бутиндиола, па- ротолуолсульфамида, снижающими внутренние напр жени . При катодной плотности тока 0,8 А/дм из электролита с указанными добавками получают высокопрочные сетки, которые после отжига в водороде при температуре 480°С в течение 20
мин имеют предел прочности на разрыв 0,73-0,78 ГПа. Абсолютное, значение оптической прозрачности изгдтавлййаёмШ сеток составл ет 50-53%.
Однако данный способ имеет р д недостатков . Матрицу-катод изготавливают из орг- стекла, которое как правило, после длительного использовани деформируетс , а, следовательно, тер ет свои геометрические размеры, что приводит к искажению формы и размеров отверстий сеток.
Необходимость использовани специального оборудовани дл гравировки.
Использование специальных органических добавок и невысоких плотностей тока,
Наиболее близким техническим решением вл етс способ изготовлени сеток- ножей дл бритв. В качестве матриц при изготовлении сеток-ножей используютс листы коррозионно-стойкой холоднокзтан- ной полированной стали марки 10Х1АГ. На рабочую поверхность пластины нанос т последовательно первый слой Ni толщиной 1 мкм, слой меди толщиной 250 мкм, второй
ел С
vi
00
00
о
О
ел
слой NI толщиной 25 мкм. Первый слой NI, осаждаемый на поверхность матрицы выполн ет роль подсло , обеспечивающего хорошую адгезию последующего сло меди. Медный и второй слой N обеспечивают пол- учение четкого контура отверстий при последующих операци х. На матрицу нанос т, фоторезист и экспонируют рисунок. Затем ее погружают в травильный раствор (хлорное железо) на две минуты. Полученные лун- ки глубиной 0,08-0,10 мм заполн ют диэлектриком. После шлифовки поверхности матрицы и обезжиривани производ т осаждение на перемычки сло меди толщиной 5 мкм, никел -4,5 мкм и хрома 0,5 мкм, Суммарна толщина этого покрыти составл ет 10 мкм и обеспечивает образование режущих кромок сеток. Готовые сетки отдел ют от матрицы. Матрицы используютс многократно, дл получени с каждой до 80-100 сьемов. ... ; . ; . .
Однако известный способ имеет следующие недостатки. : :; ;.
Невозможность получени заданной формы отверстий при толщине 100 мкм.
Отсутствует контроль за процессом формировани отверстий сита.
Целью предложенного способа вл етс повышение точности формы и размеров отверстий прецизионных сит.
Поставленна цель достигаетс тем, что в качестве матриц при изготовлении прецизионных сит используетс нержавеюща сталь, на рабочую поверхность которой нанос т слой никел толщиной 1...1,5 мкм, слой меди 250 мкм второй слой никел толщиной 10 мкм, а на него слой хрома толщиной 0,5 мкм и после этого на всю эту матрицу нанос т слой никел , равный толщине сита. Далее на матрицу нанос т слой фоторезиста и получают рисунок. Затем ее погружают в травильной раствор (FeCIs) дл стравливани через фотолитографическую маску слоев Ni, Gr, NI и Си до первого сло NI. Полученные лунки заполн ют жидким диэлектриком, который впоследствии от- верждают. Полученную матрицу шлифуют, а затем стравливают дополнительный слой никел , равный толщине сита до сло хрома. Известны технические решени , в которых верхний слой никел не стравливают, т.о. полученные сита имеют острые кромки, а также повышенную конусность чеек, что п свою очередь не позвол ет получить требуемые точность размеров и формы чеек си- та, которые достигаютс в за вл емом решении.
На п редставл ена заготовка матрицы дл производства прецизионного си 1,ч и пор док формировани диэлектрических столбиков, состо ща из: 1 - нержавеюща сталь,.2 - слой никел , 3 - слой меди толчциной 250 мкм, 4 - слой никел толщиной 10 мкм, 5-слойхрома, 6 -дополнительный слой никел , равный толщине сита, 7 - слой фоторезиста, 8 - диэлектрик.
Предлагаемый способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит реализованы следующим образом.
На пластину из нержавеющей стали толщиной 2-4 мм нанос т слой никел толщиной 1-1,5 мкм, выполн ющий роль подсло , обеспечивающего хорошую адгезию последующего сло меди, нанесенную на слой никел , затем на слой меди толщиной до 250 мкм, гальваническим осаждением нанос т слой никел , толщиной 1-1,5 мкм, в стационарной ванне при плотности тока 10-50 мА/см . После этого, нанос т слой хрома 0,5 мкм дл защиты от последующего растрав- ливани сло никел , который осаждают также в стационарной ванне из стандартного электролита (N iSO-r-320 г/л, г/л, НзВОз-38 г/л) при плотности тока, равной 10-50 мА/см .Толщина сло хрома выбрана 0,5 мкм, так как при толщине 0,3 мкм происходит частичный протрав сло никел , а при 0,7 мкм увеличиваетс врем осаждени хрома, что приводит к снижению производительности .
Слой никел осаждают до тех пор пока он не будет равен толщине будущего сита (в рассматриваемом случае толщина сита составл ет 100 мкм, диаметр отверстий 0,525+ 0,025 мм, рассто ние между центрами отверстий 0,8 мм).
Далее на сформированные слой с помощью ламинатора накатывают слой фоторезиста марки СПФ-В Щ или др. и экспонируют рисунок с помощью установки дл экспонировани . Затем матрицу погружают в травильный раствор (например, 10% NaOH). Вынимают, тщательно промывают проточной, а затем дистиллированной водой . Далее просушивают теплым воздухом. Полученные лунки заполн ют жидким диэлектриком эпоксидный компаунд (вакуумна пропитка). После этого диэлектрик отверждают и полученные столбики под- шлифовуют. Затем химически стравливают слой никел (например, раствором следующего состава РеС1з - 150 г/л) на толщину. равную толщине сита, до сло хрома. Матрицы используютс многократно.
Claims (1)
- Использование предлагаемого гальванопластического способа изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит за счет образовани данных столбиком повышает точность формы и размеров отверстий прецизионных сит на 75-85%, по сравнению с известными способами. Формула изобретени Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит включающий электроосаждение на пластину из нержавеющей стали последовательно слоев никел , меди и никел с последующим травлением через фотолитографическую маску, отличающий с тем, что, с целью повышени точности формы и размеров отверстий прецизионных сит, дополнительно нанос т слой хрома и слой никел , равный толщине сита, а травление через фотолитографическую маску ведут до первого сло никел , полученные лунки заполн ют диэлектриком, после чего дополнительный слой никел удал ют до сло хрома.:- 6а/ гальваническое осажае- ие слоев под заготовку ;.«триин3 S55|76/ формирование фотолитографической маскиSZZZZ 4в/ химчческое травление через отолитогра }лческую каскуг/ вакуумчое заполнение полостей тллккм диэлектриком
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU904837186A RU1788095C (ru) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU904837186A RU1788095C (ru) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1788095C true RU1788095C (ru) | 1993-01-15 |
Family
ID=21519787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU904837186A RU1788095C (ru) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1788095C (ru) |
-
1990
- 1990-06-08 RU SU904837186A patent/RU1788095C/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Вансовска К, М.,Вол нюк Г.А. Промышленна гальванопластика. Под ред. П.М.В - чеславова, Машиностроение/1986, с. 71. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4088544A (en) | Composite and method for making thin copper foil | |
CA1247552A (en) | Process of electroforming a metal product and an electroformed metal product | |
US3878061A (en) | Master matrix for making multiple copies | |
KR20100103434A (ko) | 전기 주조를 위한 몰드 및 상기 몰드를 제조하는 방법 | |
DE2854588A1 (de) | Metallverbund, insbesondere gedruckte schaltungen, und verfahren zur herstellung | |
US3022230A (en) | Process for electroforming grooved and channeled bodies | |
KR20100103433A (ko) | 전기 주조를 위한 몰드 및 상기 몰드를 제조하는 방법 | |
CN108277510A (zh) | 一种掩模板及其制作方法、显示基板 | |
DE4231742C2 (de) | Verfahren zur galvanischen Abformung von mit Strukturen versehenen plattenförmigen Körpern | |
CA1331575C (en) | Electroforming emp shielding elements | |
US3695927A (en) | Electrodeposition process for producing perforated foils with raised portions at the edges of the holes | |
RU1788095C (ru) | Гальванопластический способ изготовлени многослойных матриц дл прецизионных сит | |
Silaimani et al. | Review on recent advances in electroforming during the last decade | |
CN115922258A (zh) | 一种太赫兹金属镀层空芯矩形波导腔体铸、铣一体化成型制造方法 | |
NO144756B (no) | Fremgangsmaate ved fremstilling av motstander. | |
US2230868A (en) | Method of manufacturing reticulated metal sheets | |
US2225733A (en) | Process for the electrolytic production of metal screens | |
EP1871925A2 (en) | Method for electroforming a studded plate and a copy die, electroforming die for this method, and copy die | |
US4327428A (en) | Decorative plate for a timepiece | |
US7097754B2 (en) | Continuous electroforming process to form a strip for battery electrodes and a mandrel to be used in said electroforming process | |
GB2085620A (en) | Timepiece hand and method of manufacture | |
US3846258A (en) | Process for solder coating silicon solar cells | |
US4166011A (en) | Method for the manufacture of a shaping mask for an electroerosion tool | |
CN111621816A (zh) | 一种超高深宽比金属微柱阵列的制作方法 | |
KR101849158B1 (ko) | 배선용 기판의 제조방법 |