SU1633021A1 - Способ удалени активного покрыти с оксидных рутениево-титановых анодов - Google Patents

Способ удалени активного покрыти с оксидных рутениево-титановых анодов Download PDF

Info

Publication number
SU1633021A1
SU1633021A1 SU884429286A SU4429286A SU1633021A1 SU 1633021 A1 SU1633021 A1 SU 1633021A1 SU 884429286 A SU884429286 A SU 884429286A SU 4429286 A SU4429286 A SU 4429286A SU 1633021 A1 SU1633021 A1 SU 1633021A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
orta
coating
solution
quality
ruthenium
Prior art date
Application number
SU884429286A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Егорович Зяблицев
Петр Иванович Чапайкин
Ирина Вениаминовна Гордеева
Олег Константинович Камалов
Мария Петровна Зяблицева
Original Assignee
Стерлитамакское Производственное Объединение "Каустик"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Стерлитамакское Производственное Объединение "Каустик" filed Critical Стерлитамакское Производственное Объединение "Каустик"
Priority to SU884429286A priority Critical patent/SU1633021A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1633021A1 publication Critical patent/SU1633021A1/ru

Links

Landscapes

  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к производству оксидных рутениево-титановых анолов (ОРТА) и может быть использовано дл  удалени  с их поверхности отработанного активного покрыти . Цель изобретени  - повышение качества при уменьшении потерь титановой основы и уменьшение времени обработки . Удаление активного покрыти  с ОРТА провод т в 1-10%-ном растворе малеинового ангидрида илм  нтарной кислоты с добавкой 0,1-1,0% ионов фтора при 20-60°С. 1 з.п. ф-лы, 3 табл.

Description

Изобретение относитс  к производству оксидных рутениево-титановых анодов (ОРТА) и может быть использовано дл  удалени  с их поверхности отработанного активного покрыти .
Цель изоГретени  - повышение качества при уменьшении потерь основы и уменьшение времени обработки.
Удаление активного покрыти  с ОРТА провод т в 1-10%-ном растворе малеинового ангидрида или  нтарной кислоты с добавкой 0,1-1,0% ионов фтора при 20-60°С.
Результаты испытаний приведены в табл.1-3.
Способ обеспечивает перевод снимаемого оксида рутени  в растворимые соединени , перевод рутени  в растворимые соединени , которые легко можно извлечь известными методами без потерь или утилизировать раствор.
Способ.особенно перспективен при удалении активного покрыти  с ОРТл, представл ющих собой листы титана (просечные в диафрагменных, сплошные в хлоратных электролизерах).которые соединены о внутренним титановым опорным листом и наружна  поверхность которых покрыта активным покрытием. При обработке другими способами (травление в неорганических кислотах, дробеструйна  обработка и др.) происходит сильное разрушение участков (опорный лист) без покрыти  и деформаци  (обработка дробью ) анодов.
I
аъ
00
со
о
IN

Claims (2)

1. Способ удалени  активного покрыти  с оксидных рутениево-титановых анодов в кислом растворе при повышенной температуре, отличающийс  тем, что, с целью повышени  качества при уменьшении потерь титановой основы и уменьшени  времени обработки, процесс осуществл ют в 1-10%-ном растворе малеино- вого ангидрида или  нтарной кислоты с добавкой 0,1-1,0% ионон фтора.
2. Способ по п.1, о г л и чающийс  тем, уто процесс ведут при 30-60°С.
:1
Способ Услови  процесса
Раствор: щавелева  кислота 0,8-15%, фтористоводородна  кислота 0,02-2%, 60°С
Раствор: малеиновый ангидрид и  нтарна  кислота 1-10%, ионы фтора 0,1- 1%, 60°С, 15 мин
Раствор чалеТаблица 1 Результаты обработки
Нет полного удалени  покрыти  (за 15 мин сн тие покрыти  неравномерное с разрушением участков основы, низкое качество основы (нет требуемой микрошероховатости , наводороживание, запирание и отсутствие защитной пленки), большие потери металла (до 3,5 мг/см2), длительность процесса (полное удаление - не менее 1 ч и при 100°С) низкое качество регенерированных ОРТА (запирание - высокий потенциал, т.е. более 1,35 В).
Полное удаление покрыти , высокое качество основы (нет наводороживани , обеспечение микрошероховатости, хороша  адгези  свежего покрыти , наличие защитной пленки), мало врем , незначительны потери металла (до 0,5 мг/см2), высокое качество регенерированных ОРТА (потенциал не более 1,35 В), процесс менее трудоемок (не требуетс  дополнительна  обработка с целью удалени  остатков покрытий и обеспечени  микрошероховатости
Таблица
Сотлело ТУ потенциал ОРТА не более 1,35 В, весовые потери не более 0,5 иг/см1 , толвщиа Идентично предыдущим опытам, где получены неудовлетворительные ОРТА.
покрыти  30-40 мкм.
SU884429286A 1988-05-23 1988-05-23 Способ удалени активного покрыти с оксидных рутениево-титановых анодов SU1633021A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU884429286A SU1633021A1 (ru) 1988-05-23 1988-05-23 Способ удалени активного покрыти с оксидных рутениево-титановых анодов

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU884429286A SU1633021A1 (ru) 1988-05-23 1988-05-23 Способ удалени активного покрыти с оксидных рутениево-титановых анодов

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1633021A1 true SU1633021A1 (ru) 1991-03-07

Family

ID=21376651

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU884429286A SU1633021A1 (ru) 1988-05-23 1988-05-23 Способ удалени активного покрыти с оксидных рутениево-титановых анодов

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1633021A1 (ru)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6165956A (en) * 1997-10-21 2000-12-26 Lam Research Corporation Methods and apparatus for cleaning semiconductor substrates after polishing of copper film
US6303551B1 (en) 1997-10-21 2001-10-16 Lam Research Corporation Cleaning solution and method for cleaning semiconductor substrates after polishing of cooper film
US6479443B1 (en) 1997-10-21 2002-11-12 Lam Research Corporation Cleaning solution and method for cleaning semiconductor substrates after polishing of copper film
US6593282B1 (en) 1997-10-21 2003-07-15 Lam Research Corporation Cleaning solutions for semiconductor substrates after polishing of copper film

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР № 502537, кл. С 25 В 11/06. *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6165956A (en) * 1997-10-21 2000-12-26 Lam Research Corporation Methods and apparatus for cleaning semiconductor substrates after polishing of copper film
US6303551B1 (en) 1997-10-21 2001-10-16 Lam Research Corporation Cleaning solution and method for cleaning semiconductor substrates after polishing of cooper film
US6479443B1 (en) 1997-10-21 2002-11-12 Lam Research Corporation Cleaning solution and method for cleaning semiconductor substrates after polishing of copper film
US6593282B1 (en) 1997-10-21 2003-07-15 Lam Research Corporation Cleaning solutions for semiconductor substrates after polishing of copper film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4072589A (en) Process for electrolytic graining of aluminum sheet
US20080217186A1 (en) Electropolishing process for titanium
CA2035991A1 (en) Method of coating steel substrate using low temperature plasma processes and priming
SU1633021A1 (ru) Способ удалени активного покрыти с оксидных рутениево-титановых анодов
US3073765A (en) Process for electrolytically graining aluminum lithographic plates
US6030710A (en) Copolymer primer for aluminum alloy food and beverage containers
EP0264972B1 (en) Method of cleaning aluminium surfaces
CA2380542C (en) Copolymer primer for aluminum alloy food and beverage containers
JP2943634B2 (ja) AlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面処理方法
JPS6013061A (ja) クロム含有合金
JPS58130280A (ja) 超合金基体からの硬質表面コ−テイングの選択的化学的除去
US4190468A (en) Process for coating an electrical steel sheet with an anti-sticking layer
US4980195A (en) Method for inhibiting inland corrosion of steel
US4509992A (en) Processes and compositions for the treatment of aluminum surfaces
EP0311774A1 (en) Method of coating a metal part with a pealable mask
JP2694941B2 (ja) 低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法
JPH04173965A (ja) スパッタリング用ターゲット
US4581073A (en) Method for descaling metal strip
JPH1161433A (ja) アルミニウム塗装材
GB2084614A (en) Processes and compositions for the treatment of aluminium surfaces
JPS63197692A (ja) 平版印刷版用支持体の製造方法
RU1825821C (ru) Способ подготовки поверхности полимерных материалов перед химической металлизацией
JPS63262488A (ja) キヤツプ用アルミニウム材料の表面清浄化法
JPH0311093B2 (ru)
SU1294883A1 (ru) Способ электрохимического полировани