SU1577819A1 - Method of producing contrast narrow-band filter having one layer of metal - Google Patents

Method of producing contrast narrow-band filter having one layer of metal Download PDF

Info

Publication number
SU1577819A1
SU1577819A1 SU884362335A SU4362335A SU1577819A1 SU 1577819 A1 SU1577819 A1 SU 1577819A1 SU 884362335 A SU884362335 A SU 884362335A SU 4362335 A SU4362335 A SU 4362335A SU 1577819 A1 SU1577819 A1 SU 1577819A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
layer
deposition
point
resonating
intensity
Prior art date
Application number
SU884362335A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Виктор Иванович Цыпин
Вениамин Николаевич Токарь
Владимир Юрьевич Обанин
Любовь Константиновна Красницкая
Original Assignee
Предприятие П/Я В-8538
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я В-8538 filed Critical Предприятие П/Я В-8538
Priority to SU884362335A priority Critical patent/SU1577819A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU1577819A1 publication Critical patent/SU1577819A1/en

Links

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к технологии изготовлени  оптических фильтров путем нанесени  интерференционных покрытий на подложку физическим методом и позвол ет увеличить пропускание и уменьшить искажени  формы спектральной кривой. Способ включает нанесение слоев покрыти  в вакууме при одновременной регистрации интенсивности пропущенного монохроматического излучени . Напыление слоев четвертьволновых стоп прекращают в поворотных точках характеристики регистрируемой интенсивности излучени , первого резонирующего сло  - в заранее определенной точке, при этом фиксируют точку, соответствующую окончанию напылени  первого резонирующего сло , а напыление сло  металла прекращают при значени х интенсивности излучени , наход щихс  в интервале между интенсивностью излучени  в зафиксированной точке и в заранее определенной точке окончани  нанесени  первого резонирующего сло . 2 ил.The invention relates to the technology of manufacturing optical filters by applying interference coatings on a substrate by a physical method and allows to increase the transmittance and reduce the distortion of the shape of the spectral curve. The method involves applying coating layers in a vacuum while simultaneously recording the intensity of the transmitted monochromatic radiation. The deposition of the quarter-wave stop layers stops at the turning points of the characteristic of the detected radiation intensity, the first resonating layer at a predetermined point, while fixing the point corresponding to the end of the deposition of the first resonating layer, and the deposition of the metal layer is stopped when the radiation intensity values are between radiation intensity at a fixed point and at a predetermined end point of the deposition of the first resonant layer. 2 Il.

Description

Изобретение относитс  к технологии изготовлени  оптических фильтров путем нанесени  интерференционных по- .крытий на подложку физическим методом .The invention relates to the technology of making optical filters by applying interference coatings to a substrate by a physical method.

Целью изобретени   вл етс  увеличение пропускани  и уменьшение искажений формы спектральной кривой.The aim of the invention is to increase the transmittance and reduce the distortion of the shape of the spectral curve.

На фиг.1 изображено изменение регистрируемого сигнала при изготовлении фильтраj на фиг.2 - спектральные кривые получаемых фильтров.Figure 1 shows the change in the recorded signal in the manufacture of the filter in figure 2 - the spectral curves of the resulting filters.

Кривые 1 и 3 относ тс  к случа м, когда значение сигнала находитс  за пределами интервала значений, зафиксированных до и после нанесени  первого резонирующего сло .Curves 1 and 3 relate to cases where the signal value is outside the range of values recorded before and after the application of the first resonating layer.

Изготовление фильтров по предлагаемому способу производ т на серийных вакуумных установках типа УВН-2М-2 и других с подколпачной оснасткой дл  изготовлени  интерференционных покрытий и с системой фотоконтрол  толщин слоев по экстремальным точкам.The manufacture of filters according to the proposed method is carried out on serial vacuum installations of the type UVN-2M-2 and others with subcollet equipment for the manufacture of interference coatings and with a photocontrol system of layer thicknesses at extreme points.

В систему фотоконтрол  вход т: осветитель (лампа КГМ ), фокусирующа  и передающа  оптика (линзы, зеркала , стекл нные пластины), монохро- матор МДР-4, фотоприемник, регистрирующий прибор КСП4. Контроль толщин слоев, формирующих фильтр, производитс  непосредственно по изготовл емым детал м.The photocontrol system includes: an illuminator (KGM lamp), focusing and transmitting optics (lenses, mirrors, glass plates), an MDR-4 monochromator, a photodetector, a recording device KSP4. The control of the thickness of the layers forming the filter is carried out directly on the manufactured parts.

4 four

0000

соwith

Изготовление фильтра на 550 нм, например «со слоем серебра, конструкции ВНВНВ 1,75 НА 1,75 Н В Н В Н В П, где В - слой диэлек- трика LnS с высоким показателем преломлени , Н - слой диэлектрика NajAlF с низким показателем преломлени J Ag - слой серебра, П - подложка из стекла провод т следующим образом. Manufacturing a 550 nm filter, for example “with a layer of silver, construction VNVNV 1.75 NA 1.75 N B N B N B P, where B is a high refractive index LnS dielectric layer, H is a low J Ag is a silver layer, and P is a substrate of glass, which is carried out as follows.

Устанавливают на монохроматоре ВДР-4 контрольную длину волны 550 нм Загружают в испарители пленкообразующие материалы LnS, ч Ag, a также подложки из стекла К8. Откачи- вают установку УВН-2М-2 до давлени  Па. Включают вращение подложек и систему фотоконтрол . Устанавливают на регистраторе КСП 4 98 делений и последовательно напыл ют первые п т слоев LnS и , прекраща  напыление в первых поворотных (экстремальных ) точках. Примерньй отсчет по делени м КСП 4 будетA control wavelength of 550 nm is installed on a WDR-4 monochromator. Film-forming materials LnS, h Ag, and K8 glass substrates are loaded into the evaporators. Pump the UVN-2M-2 unit to Pa. Include the rotation of the substrate and the photocontrol system. A PSC recorder is installed on the 98 divisions and the first fifth layers of LnS are deposited successively and, ceasing the sputtering at the first turning (extreme) points. An approximate count by division of the PSC 4 will be

Шестой слой  вл етс  первым резонирующим слоем и он должен быть нанесен с учетом фазового сдвига от металла , т.е. 1,75 Н. Его нанос т следующим образом: устанавливают на КСП 4 50 делений и напыл ют 1,75 Н. Отсчет будет таким: 50-81 - 54. Фиксируют значени  и 2.The sixth layer is the first resonating layer and it should be applied with regard to the phase shift from the metal, i.e. 1.75 N. It is plotted as follows: the divisions of the PSC are set at 4 50 divisions and 1.75 N are sprayed. The count will be as follows: 50-81 - 54. The values of and 2 are fixed.

Затем напыл ют слой металла (серебра ) „ Дл  того, чтобы получить фильтр с максмиальным пропусканием и неискаженной формой спектральнойThen a layer of metal (silver) is sprayed in order to obtain a filter with maximal transmission and an undistorted spectral shape.

5 0 50

5five

00

5five

00

кривой, напыление прекращают после прохождени  сигналом А резкого макси-i мума в интервале А2 А А.the curve, the sputtering is stopped after passing the sharp A maxi-i mum signal A in the A2 A range of A.

Оставшиес  слои напыл ют по экстремумам , включа  и второй резонирующий слой.The remaining layers are sprayed over the extremes, including the second resonating layer.

Claims (1)

Формула изобретени Invention Formula Способ изготовлени  контрастного узкополосного фильтра с одним слоем металла, заключающийс  в нанесении на подложку многослойного покрыти  в вакууме , состо щего из четвертьволновых стоп, первого резонирующего сло , сло  металла и второго резонирующего сло , регистрации интенсивности пропущенного монохроматического излучени  в процессе нанесени  слоев, при этом напыление слоев четвертьволновых стоп прекращают в поворотных точках характеристики регистрируемой интенсивности излучени , первого резонирующего сло  - в заранее определенной точке, а напыление сло  металла прекращают после прохождени  максимального значени  регистрирующей интенсивности излучени , отличающийс  тем, что, с целью увеличени  пропускани ми уменьшени  искажений формы спектральной кривой, дополнительно фиксируют точку характеристики до нанесени  резонирующего сло , а нанесение сло  металла прекращают при значени х регистрируемой интенсивности излучени , наход щихс  в интервале между интенсивностью излучени  в зафиксированной точке и в заранее определенной точке окончани  нанесени  первого резонирующего сло .A method of manufacturing a single-layer contrast narrowband filter consisting in applying a multilayer vacuum coating consisting of quarter-wave feet, a first resonating layer, a metal layer and a second resonating layer to the substrate, recording the intensity of the transmitted monochromatic radiation during the deposition, while sputtering the quarter-wave stop layers are stopped at the turning points of the characteristic of the detected radiation intensity, the first resonating layer is determined in advance The deposited point and the deposition of the metal layer cease after the passage of the maximum value of the recording intensity of the radiation, characterized in that, in order to increase the transmissions to reduce the distortion of the spectral curve, the characteristic point is additionally fixed before the application of the resonating layer, and the deposition of the metal layer is stopped radiation intensity, which are in the interval between the radiation intensity at a fixed point and at a predetermined end point neither the first resonant layer. Urn ViUrn vi 8 Н 8 Н в 1,15Н Ад 1.75Н В Н в Н в 8 N 8 N in 1.15N Ad 1.75N VN in N in t г з 4 s е 7 в 9 ю и п тз Фиг 1t g s 4 s e 7 in 9 th and ptz Fig 1 r.%r.% 5050 4040 2020 500500 550550 Фие.гPhie.g Л,#мL, # m
SU884362335A 1988-01-13 1988-01-13 Method of producing contrast narrow-band filter having one layer of metal SU1577819A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU884362335A SU1577819A1 (en) 1988-01-13 1988-01-13 Method of producing contrast narrow-band filter having one layer of metal

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU884362335A SU1577819A1 (en) 1988-01-13 1988-01-13 Method of producing contrast narrow-band filter having one layer of metal

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1577819A1 true SU1577819A1 (en) 1990-07-15

Family

ID=21349174

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU884362335A SU1577819A1 (en) 1988-01-13 1988-01-13 Method of producing contrast narrow-band filter having one layer of metal

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1577819A1 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Фурман Ш.А. Тонкослойные оптические покрыти . Ленинград: Машиностроение, 1977, с.182-183. Lessberger. Coatings with induced transmission Applied optics, v.20, N 1, 1981, c.17-18. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5400174A (en) Optical notch or minus filter
JP2007113091A (en) Method for forming multilayer film
SU1577819A1 (en) Method of producing contrast narrow-band filter having one layer of metal
CN1996063A (en) Film narrow band-pass reflective filter
JP2724563B2 (en) Multilayer interference filter
CA2113794C (en) Interference filter and method of making the same
US5624709A (en) High resolution differential spectrometry system
JPH05249312A (en) Production of optical multilayered film
CN110275233B (en) Narrow-period long-wave infrared multilayer grating structure
JP3084862B2 (en) Optical film thickness monitor
JPS61296305A (en) Production of interference filter made of multi-layered film
CN2763776Y (en) Film thickness monitoring controller
RU2079861C1 (en) Band-pass light filter
JPH0395502A (en) Filter for flame sensor
JPS6275403A (en) Edge filter
JP4156455B2 (en) Multicolor optical film thickness measuring apparatus and method
JP3231299B2 (en) Optical interference filter fabrication method
JPS62220903A (en) Manufacture of multilayered dielectric film
US4838628A (en) Process and apparatus for production of an optical element
JPH027042B2 (en)
RU1598697C (en) Correcting filter
JPS60258503A (en) Production of optical interference filter
KR0178187B1 (en) Optical lowpass filter for video camera & method for fabricating it
SU573107A1 (en) Interference filter
Lubezky et al. Cut-on interference filter for the 8–11.7 μm region