SU1569766A1

SU1569766A1 - Устройство дл формировани опорной линии

Info

Publication number: SU1569766A1
Application number: SU884478581A
Authority: SU
Inventors: Виктор Иванович Юрлов; Александр Степанович Писарев
Original assignee: Научно-исследовательский институт прикладной геодезии
Priority date: 1988-08-30
Filing date: 1988-08-30
Publication date: 1990-06-07

Abstract

Изобретение относитс к области оптического приборостроени и может быть использовано при контроле профилей различных объектов в машиностроении, геодезии, самолетостроении, судостроении или при прокладке тоннелей. Устройство содержит лазер 1 и дифракционную решетку 2, расположенную на оптической оси 3 лазера 1 и ориентированную перпендикул рно плоскости, проход щей через эту ось и центр О формируемой опорной линии 4. При этом штрихи решетки 2 параллельны этой плоскости и составл ют с осью 3 угол α, тангенс которого равен отношению заданного радиуса R кривизны формируемой опорной линии 4 к рассто нию L от решетки 2 до заданной плоскости формировани линии 4 вдоль оси 3. Благодар такому выполнению расшир ютс функциональные возможности устройства путем формировани опорной линии с произвольным радиусом R кривизны. При выполнении решетки на частично отражающей подложке формируетс лини замкнутого контура. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

Description

Изобретение относитс к оптическому приборостроению и может быть использовано при контроле профилей раз- личных объектов в машиностроении, геодезии , самолетостроении, судостроении или при прокладке тоннелей.

Цель изобретени - -расширение функциональных возможностей путем Формировани опорной линии с произволь- ным радиусом кривизны, а также формирование опорной линии замкнутого Контура .

На Фиг. 1 представлена схема устройства и ход лучей в нем; на фиг.2 - to же, при выполнении решетки на час- пгшо отражающей подложке.

Устройство содержит лазер 1 и дифракционную решетку 2, расположенную на оптической оси 3 лазера 1 и ори- ентированную перпендикул рно плоскости , проход щей -через эту ось и центр О формируемой опорной линии 4. При Этом штрихи решетки 2 параллельны Этой плоскости и составл ют с осью 3 угол d. , определ емый из соотношени В

О)

где R - згданный радиус кривизны

Формируемой опорной линии 4; L - рассто ние от решетки 2 до заданной плоскости Формировани линии 4 вдоль оси 3. Решетка 2 может быть выполнена на частично отражающей подложке (Фиг.2)

Устройство работает следующим образом .

Результирующие дифракционные максимумы формируютс на пересечении окружности с пр мыми и образуют опор- ную кривую линию 4 в.виде дуги окружности радиусом

R. L-tpo .

(2)

Данна лини высвечиваетс на кон ролируемом объекте 5 в виде дискретных световых точек, соответствующих максимумам дифракции. Контроль профил объекта 5 может производитьс визуально или автоматически. В по- следнем случае на объекте в точках дифракционных максимумов должны быть установлены позиционно-чувствитель- ные фотоприемники, св занные с объектом и подключенные к системе обра- ботки данных. В соответствии с выражением (2) радиус дуги R может быть установлен путем выбора соответствующего угла d наклона решетки 2 и рассто ни L может лежать в пределах от нул до бесконечности.

При необходимости объект 5 может быть наклонен в плоскости OZ, при этом Формируетс дуга эллипса, причем максимальна величина дуги (фиг.1 может доходить до половины окружности (эллипса).

Кроме того, возможно формирование линии замкнутого контура - эллипса или окружности (фиг.2). Дл этого решетка 2 должна быть выполнена на частично отражающей подложке. При этом нар ду с максимумами прошедшего светового пучка по вл ютс максимумы отраженного пучка, причем отраженные максимумы формируютс точно таким же образом, как описанные проход щие максимумы, и располагаютс симметрично к ним относительно плоскости , проход щей через плоскость решетки 2. Прошедшие максимумы формируют половину дуги окружности (или эллипса), а отраженные максимумы - дугу окружности (.или эллипса , дополн ющую первую дугу до замкнутого контура , повтор ющего форму объекта 5.

Дл изменени степени эллиптичности формируемого контур объект можно наклон ть в ту или другую сторону в плоскости tfOZ. При установке объекта 5 перпендикул рно плоскости решетки 2 формируемый замкнутый контур практически совпадает с окружностью .

Claims

Формула изобретени

1 . Ус гройство дл формировани опорной линии, содер ашее лазер и диракционную решетку, расположенную на оптической оси лазера, отличающеес тем, что, с целью расширени функциональных возможностей за счет Формировани опорной линии с произвольным радиусом кривизны, дифракционна решетка ориентирована перпендикул рно плоскости, проход щей через оптическую ось лазера и центр формируемой опорной линии, а штрихи решетки параллельны этой плоскости и составл ют с оптической осью лазера угол с/ 1 определ емый из соотношени

R

tgrf-L /

где R - заданный радиус кривизны фор мируемой опорной линии;

515697666

данной плоскости формирова- ч а ю щ е е с . тем, что, с целью ни опорной пинии вдоль опти- Формировани опорной линии замкнуто- ческой оси лазера.го контура, решетка выполнена на
2. Устройство по п. 1, о т л и - частично отражающей подложке

Фиг. 2