SU1549917A1

SU1549917A1 - Method of purifying silicon dioxide

Info

Publication number: SU1549917A1
Application number: SU884414996A
Authority: SU
Inventors: Борис Матвеевич Жигарновский; Валерий Филиппович Суховерхов; Георгий Павлович Панасюк; Владислав Борисович Лазарев; Владимир Валентинович Кириленко; Аркадий Товиевич Фалькенгоф; Владислав Юрьевич Коженков
Original assignee: Институт Общей И Неорганической Химии Им.Н.С.Курнакова Ан Ссср
Priority date: 1988-04-25
Filing date: 1988-04-25
Publication date: 1990-03-15

Abstract

Изобретение относитс к способам очистки диоксида кремни , примен емого дл производства кварцевых или оптических стекол, и позвол ет повысить чистоту продукта за счет снижени содержани гидроксильных групп и углерода в продукте, а также снизить энергозатраты. В кварцевый вращающийс реактор загружают диоксид кремни и нагревают до 120-250°С. Затем через реактор пропускают трифторид хлора. После окончани продувки CLF₃ через реактор пропускают сухой аргон. Диоксид кремни в сухом боксе собирают и анализируют. Эксперименты провод т в проточном реакторе на порошкообразных образцах массой 50 г. Врем пропускани реагента над диоксидом кремни марки OC4 составл ет 3 мин при скорости потока 3 г/мин. При обработке SIO₂, полученного из тетраэтоксисилана, скорость потока 0,5 г/мин при том же времени. 1 табл.The invention relates to methods for purifying silica used for the production of quartz or optical glasses, and it allows to increase the purity of the product by reducing the content of hydroxyl groups and carbon in the product, as well as to reduce energy costs. Silica is charged to a quartz rotating reactor and heated to 120-250 ° C. Then chlorine trifluoride is passed through the reactor. After CLF ₃ purging is complete, dry argon is passed through the reactor. The silica in the dry box is collected and analyzed. The experiments were carried out in a flow reactor on powder samples weighing 50 g. The passing time of the reagent over OC4 silica was 3 minutes at a flow rate of 3 g / min. When processing SIO ₂ obtained from tetraethoxysilane, the flow rate is 0.5 g / min at the same time. 1 tab.

Description

Изобретение относитс к способам очистки диоксида кремни , примен емого дл производства кварцевых или оптических стекол.This invention relates to methods for purifying silica used for the production of quartz or optical glasses.

Целью изобретени вл етс повышение чистоты продукта за счет снижени содержани гидроксильных групп и углерода в продукте, а также снижение энергозатрат.The aim of the invention is to increase the purity of the product by reducing the content of hydroxyl groups and carbon in the product, as well as reducing energy consumption.

Пример 1. Во вращающийс конической кварцевый реактор засыпают 50 г диоксида кремни марки ОСЧ. Содержание гидроксильных групп в образце 1,2 мас.%. Реактор нагревают до 220 С в течение 3 мин. При скорости 3 г/мин через реактор продувают C1F3. После окончани подачи ClF5 реактор охлаждают в токе сухого аргона. ВыходExample 1. In a rotating conical quartz reactor, 50 g of silica of the OFS brand are poured. The content of hydroxyl groups in the sample is 1.2 wt.%. The reactor is heated to 220 ° C. for 3 minutes. At a speed of 3 g / min, C1F3 is flushed through the reactor. After the end of the supply of ClF5, the reactor is cooled in a stream of dry argon. Output

SiO 99,3%. Содержание гидроксильных групп после обработки 2-10 мас.%. Углерод отсутствует.SiO 99.3%. The content of hydroxyl groups after processing 2-10 wt.%. Carbon is missing.

П р и м е р 2. Эксперимент провод т аналогично примеру 1, только используют диоксид кремни , полученный гидролизом тетраэтоксисилана. Температура реактора 120°С, скорость потока реагента 0,5 г/мин. Выход диоксида кремни 99,85%. Содержание гидроксильных групп после обработки 5-10 мас.%. Углерод отсутствует.EXAMPLE 2: The experiment was carried out analogously to Example 1, only using silica obtained by hydrolysis of tetraethoxysilane. The reactor temperature is 120 ° C, the reagent flow rate is 0.5 g / min. The output of silicon dioxide 99,85%. The content of hydroxyl groups after treatment is 5-10 wt.%. Carbon is missing.

Результаты остальных опытов и данные прототипа представлены в таблице.The results of the remaining experiments and the data of the prototype are presented in the table.

Таким образом, предложенный способ позвол ет повысить чистоту продукта по углероду и воде и снизить энергозатраты .Thus, the proposed method makes it possible to increase the purity of the product with respect to carbon and water and reduce energy consumption.

спcn

4ь СО СО4 CO CO

3154991731549917

Claims

Invention Formula

A method for purifying silicon dioxide, including heating it in a current of gaseous fluorine-containing reagent, characterized in that, in order to increase the purity of the product,

by reducing the content of hydroxyl groups and carbon in it, as well as reducing energy consumption, chlorofluoride trifluoride is used as a fluorine-containing reagent, and the process is carried out at 120-250 ° C.

The proposed method

The flow rate of the gas reagent 3 g / min, time 3 min. The flow rate of the gas reagent 0.5 g / min, time 3 min.