SU1487619A1 - Способ измерения толщины диэлектрических покрытий на подложках в процессе осаждения - Google Patents

Способ измерения толщины диэлектрических покрытий на подложках в процессе осаждения

Info

Publication number
SU1487619A1
SU1487619A1 SU4327274/28A SU4327274A SU1487619A1 SU 1487619 A1 SU1487619 A1 SU 1487619A1 SU 4327274/28 A SU4327274/28 A SU 4327274/28A SU 4327274 A SU4327274 A SU 4327274A SU 1487619 A1 SU1487619 A1 SU 1487619A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
deposition process
dielectric coatings
substrates
measurement
electrolyte
Prior art date
Application number
SU4327274/28A
Other languages
English (en)
Inventor
И.Н. Сорокин
В.А. Никитенко
Л.П. Милешко
Original Assignee
Московский институт электронной техники
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Московский институт электронной техники filed Critical Московский институт электронной техники
Priority to SU4327274/28A priority Critical patent/SU1487619A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1487619A1 publication Critical patent/SU1487619A1/ru

Links

Landscapes

  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Abstract

Способ измерения толщины диэлектрических покрытий на подложках в процессе осаждения, заключающийся в том, что строят анодную поляризационную кривую контролируемой структуры в электролите при заданной скорости увеличения потенциала подложки, находят пороговое напряжение, соответствующее началу линейного участка на указанной кривой, по которому определяют толщину слоя, отличающийся тем, что, с целью повышения точности измерения, построение анодной поляризационной кривой проводят при скорости увеличения потенциала подложки от 0,2 до 12 В/с в электролите с электропроводностью от 50 до 400 мкСм/см.
SU4327274/28A 1987-11-09 1987-11-09 Способ измерения толщины диэлектрических покрытий на подложках в процессе осаждения SU1487619A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4327274/28A SU1487619A1 (ru) 1987-11-09 1987-11-09 Способ измерения толщины диэлектрических покрытий на подложках в процессе осаждения

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4327274/28A SU1487619A1 (ru) 1987-11-09 1987-11-09 Способ измерения толщины диэлектрических покрытий на подложках в процессе осаждения

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1487619A1 true SU1487619A1 (ru) 2001-06-10

Family

ID=60519855

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4327274/28A SU1487619A1 (ru) 1987-11-09 1987-11-09 Способ измерения толщины диэлектрических покрытий на подложках в процессе осаждения

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1487619A1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2540239C1 (ru) * 2013-10-17 2015-02-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Способ определения толщины покрытия в ходе процесса плазменно-электролитического оксидирования
RU2611632C2 (ru) * 2015-05-28 2017-02-28 Акционерное общество "Кумертауское авиационное производственное предприятие" Способ определения толщины покрытия в ходе процесса твердого анодирования

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2540239C1 (ru) * 2013-10-17 2015-02-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Способ определения толщины покрытия в ходе процесса плазменно-электролитического оксидирования
RU2611632C2 (ru) * 2015-05-28 2017-02-28 Акционерное общество "Кумертауское авиационное производственное предприятие" Способ определения толщины покрытия в ходе процесса твердого анодирования

Similar Documents

Publication Publication Date Title
IT1083003B (it) Prodotto polimerico e procedimento per il rivestimento elettrolitico catodico di substrati conduttivi
ATE8664T1 (de) Elektrolytischen sauerstoff verwendende enzymelektrode.
BE869269A (fr) Procede de placage in situ d'un revetement actif sur les cathodes de cellules d'electrolyse
ES2015906B3 (es) Limpieza electrolitica selectiva de recubrimientos de metal de sustratos con metal base.
KR890005666A (ko) 일렉트로레스 도금조를 제어하는 방법(a process for controlling an electroless plating bath)
IT1115626B (it) Processo di lavorazione per il deposito di sottili pellicole complanari
EP0030227A3 (en) Method and apparatus for electrolytically treating a metal strip
IT1165978B (it) Metodo per il controllo del deposito elettrolitico di zinco
SU1487619A1 (ru) Способ измерения толщины диэлектрических покрытий на подложках в процессе осаждения
ATE32383T1 (de) Verfahren zur messung des elektrischen widerstandes von unter dem einfluss eines plasmas hergestellten, duennen, metallischen schichten waehrend ihrer herstellung.
IT8119522A0 (it) Procedimento per la produzione elettrolitica di idrogeno.
IT1096309B (it) Processo per la produzione di un film vetroso elettricamente isolante su acciaio silicico
FR2325084A1 (fr) Procede d'elimination du bioxyde d'etain ou du bioxyde d'indium
DE3674529D1 (de) Verfahren zur bestimmung der zeit bis zum elektrischen spannungsdurchbruch einer isolierenden duennen schicht.
JPS5710224A (en) Forming method for silicone single crystalline film
FR2238249A1 (en) Metallic nitride conductor layers on semiconductor - for improved compat-ability with substrate
SU627190A1 (ru) Устройство дл нанесени гальванических покрытий
DE59302602D1 (de) Verfahren zum elektrolytischen Ätzen
BR8900131A (pt) Processo para a producao de uma tira de aco eletro-galvanizada em um so lado,em uma linha de revestimento;e linha de eletro-galvanizacao
SE9602817L (sv) Metod för att erhålla en hög ytfinhet på titanbaserade beläggningar genom elektropoleringsteknik
JPS6450944A (en) Chemical sensitive field effect transistor
GB815208A (en) Improvements in or relating to the manufacture of transistors and other semi-conductor devices
SU148700A1 (ru) Способ травлени германи
SE7811836L (sv) Beleggningsbad for kataforetisk beleggning av ytan hos elektriskt ledande substrat
JPS54141494A (en) Wire-cut electric discharge machining method