SU1341448A1 - Radiation source for exposure of photopolymerizing plates - Google Patents
Radiation source for exposure of photopolymerizing plates Download PDFInfo
- Publication number
- SU1341448A1 SU1341448A1 SU853933296A SU3933296A SU1341448A1 SU 1341448 A1 SU1341448 A1 SU 1341448A1 SU 853933296 A SU853933296 A SU 853933296A SU 3933296 A SU3933296 A SU 3933296A SU 1341448 A1 SU1341448 A1 SU 1341448A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- base
- reflector
- irradiator
- radiation source
- prismatoid
- Prior art date
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к светотехнике - к облучател м дл изготовлени фотополимерных печатных форм, и позвол ет повысить равномерность распределени светового потока по зкспонируемой поверхности. Облучатель содержит источник излучени 1, отражатель 2, выполненный в виде полого призматоида, верхнее, меньшее, основание которого имеет форму квадрата и снабжено зеркальным отражающим двугранным элементом 4, а нижнее, большее , основание - пр моугольник, сопр женный с верхним основанием отражающего экрана 3, Расположение длинных сторон нижнего, большего, основани призматоида и экспонируемой пластины 5 в процессе работы облучател взаимно перпендикул рно. 2 з.п. ф-лы, 2 ил. (Л со 4 4 4; 00The invention relates to lighting technology - to irradiators for the manufacture of photopolymer printing plates, and allows to improve the uniformity of the distribution of the light flux of the exposed surface. The irradiator contains the radiation source 1, the reflector 2, made in the form of a hollow prismatoid, upper, smaller, the base of which has the shape of a square and is equipped with a mirror reflecting dihedral element 4, and the lower, larger base has a rectangle conjugated to the upper base of the reflecting screen 3 The arrangement of the long sides of the lower, larger, base of the prismatoid and the exposed plate 5 during the operation of the irradiator is mutually perpendicular. 2 hp f-ly, 2 ill. (L with 4 4 4; 00
Description
113113
Изобретение относитс к светотехнике , в частности к облучател м дл изготовлени фотополимерных печатных форм.The invention relates to lighting technology, in particular to irradiators for making photopolymer printing plates.
Цель изобретени - повьшениб; равномерности распределени светового потока по экранируемой поверхности .The purpose of the invention is povyshenib; uniform distribution of the luminous flux over the shielded surface.
На фиг, 1 изображен предлагаемый облучатель, общий вид; на фиг. 2 - то же, вид слева.Fig, 1 shows the proposed irradiator, a general view; in fig. 2 - the same, left view.
Облучатель содержит источник 1 излучени , представл ющий собой металл огалогенную лампу, отражатель 2 и отражающий экран 3. Отражатель снабжен зеркальным элементом 4.-Фото- полимеризующа с пластина 5 размещена на экспонируемой поверхности, причем F и М соответственно размеры длинной и короткой сторон пластины. Источник излучени характеризуетс длиной L свет щей зоны. Дл ламп типа ДРТИ- 3000 максимальна длина свет щей зоны 105-110 мм, поэтому дл стандартного формата фотополимеризующихс пластин (420 X 600 мм) справедливо соотношениеThe irradiator contains a radiation source 1, which is a metal halogen lamp, a reflector 2 and a reflecting screen 3. The reflector is provided with a mirror element 4. Photopolymerizing plate 5 is placed on the exposed surface, with F and M respectively the dimensions of the long and short sides of the plate. The radiation source is characterized by a length L of the bore zone. For DRTI-3000 type lamps, the maximum length of the luminous zone is 105-110 mm; therefore, for a standard format of photopolymerizable plates (420 x 600 mm), the ratio is:
М S г Е Г 7M S g E G 7
Источник излучени расположен на рассто нии А от экранируемой поверхности , определ емом из соотношени The radiation source is located at a distance A from the shielded surface, determined from the ratio
А (1,7 - 1,9)F (2,2 - 2,4)М,A (1.7 - 1.9) F (2.2 - 2.4) M,
которое определ етс из услови максимальной допустимой величины нагрева экспонируемой пластины источником излучени и установлен таким образом что его ось параллельна длинным сторонам экспонируемой поверхности и находитс от них на одинаковом рассто нии .which is determined from the condition of the maximum allowable heating value of the exposed plate by the radiation source and is set in such a way that its axis is parallel to the long sides of the exposed surface and is at the same distance from them.
Отражатель выполнен в виде полого призматоида, верхнее, меньшее, основание которого представл ет собой квадрат со стороной, равной (2 - 4)L нижнее, большее, основание - пр мо- угольник, размеры сторон, которого определ ютс из соотношени The reflector is made in the form of a hollow prismatoid, the upper, smaller, the base of which is a square with a side equal to (2-4) L lower, larger, the base is a rectangle, the dimensions of the sides, which are determined from the ratio
С (0,6 - 0,9)F; К (1,3 - 1,7)М,C (0.6-0.9) F; K (1.3 - 1.7) M,
где С и К - размеры сторон нижнего основани отражател , параллельных длинной и короткой сторонам экспонируемой поверхности соответственно.where C and K are the dimensions of the sides of the lower base of the reflector, parallel to the long and short sides of the exposed surface, respectively.
5five
00
5five
44824482
Откуда, после подстановки/соотношени параметров F и М, получим соотношение сторон нижнего, .большего, основани призматоида, равное С : К 3:4.From where, after the substitution / ratio of the parameters F and M, we obtain the aspect ratio of the lower, larger, base of the prismatoid, equal to C: K 3: 4.
Высота Н отражател составл ет (0,3 - 0,7)А или (1 - 1,5)К.The reflector height H is (0.3 - 0.7) A or (1 - 1.5) K.
Взаимное расположение облучател „ и пластины 5 (фиг. 1) показывает, что проекции длинных сторон основани призматоида и экспонируемой пластины на экспонирующую поверхность взаимно перпендикул рны.The mutual arrangement of the irradiator and the plate 5 (Fig. 1) shows that the projections of the long sides of the base of the przmatoid and the exposed plate on the exposing surface are mutually perpendicular.
Зеркальный элемент 4 выполнен в форме двугранного угла, ребро которого направлено вниз, параллельно длинной стороне нижнего основани призматоида и перпендикул рно оси расположенной под ним лампы.The mirror element 4 is made in the form of a dihedral angle, the edge of which is directed downward, parallel to the long side of the lower base of the prismatoid and perpendicular to the axis of the lamp located beneath it.
Внутренние поверхности отражател и отражающего экрана выпол-нены из диффузно рассеивающего материала.The inner surfaces of the reflector and reflective screen are made of diffusely diffusing material.
Облучатель работает следующим образом .The irradiator works as follows.
Облучатель устанавливают над вакуумной плитой (не показана). На вакуумную плиту помещают фотополимери- зуюшуюс пластину 5 с размещенным на ее поверхности негативом, закрывают .их полиэтиленовой пленкой, включают вакуум и после достижени в системе давлени , не более 300 гПа (0,3 ати), включают облучатель. Экспонирование провод т в течение требуемого време- 5 ни, после чего выключают облучатель, отключают вакуум, снимают полиэтиленовую пленку, вынимают проэкспониро- ванную полимеризующуюс пластину 5 и отдел ют от нее негатив. Проэкспони- 0 рованную фотополимеризующуюс пластину 5 направл ют на вымывание.The irradiator is placed above a vacuum plate (not shown). A photopolymerized plate 5 with a negative placed on its surface is placed on a vacuum plate, its polyethylene film is closed, the vacuum is turned on and, after reaching a pressure in the system, no more than 300 hPa (0.3 MPa), the irradiator is turned on. Exposure is carried out for the required time, then the irradiator is turned off, the vacuum is turned off, the polyethylene film is removed, the exposed polymerization plate 5 is removed and the negative is separated from it. The exposed photopolymerizable plate 5 is directed to leaching.
Предлагаемый облучатель (по срав- . нению с известными) обеспечиваетThe proposed irradiator (in comparison with the known) provides
равномерность распределени светово- 5 го потока по поверхности экспонировани , о чем свидетельствует получаемый оптимальный профиль печатающих элементов : их сечение представл ет собой равнобедренную трапецию с уг- 0 лом у основани в пределах 65-75 . Кроме того, использование предлагаемого облучател дает возможность одновременного экспонировани двух и более фотополимеризующихс пластин.uniform distribution of the light flux 5 over the surface of the exposure, as evidenced by the obtained optimal profile of the printing elements: their cross section is an isosceles trapezium with an angle of 0 at the base within 65-75. In addition, the use of the proposed irradiator allows the simultaneous exposure of two or more photopolymerization plates.
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU853933296A SU1341448A1 (en) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | Radiation source for exposure of photopolymerizing plates |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU853933296A SU1341448A1 (en) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | Radiation source for exposure of photopolymerizing plates |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1341448A1 true SU1341448A1 (en) | 1987-09-30 |
Family
ID=21190506
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU853933296A SU1341448A1 (en) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | Radiation source for exposure of photopolymerizing plates |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1341448A1 (en) |
-
1985
- 1985-04-19 SU SU853933296A patent/SU1341448A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР № 901712,, кл. F 21 S 1/00, 1978. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4242725A (en) | Light reflector structure | |
US6649921B1 (en) | Apparatus and method providing substantially two-dimensionally uniform irradiation | |
KR100425511B1 (en) | Apparatus and Method for Manufacturing light guide plate for plane light source unit | |
SU1341448A1 (en) | Radiation source for exposure of photopolymerizing plates | |
JPH04335642A (en) | Exposing device for forming image | |
US2295632A (en) | Process for the production of screen reflex copies | |
US4516841A (en) | Method for screening line screen slit mask color picture tubes | |
US6797971B2 (en) | Apparatus and method providing substantially two-dimensionally uniform irradiation | |
JPH07108565B2 (en) | UV irradiation device | |
JPH05224396A (en) | Photomask | |
US4568162A (en) | Method for screening line screen slit mask color picture tubes | |
KR970007068Y1 (en) | Prefabricated deformation illumination apparatus | |
JP3988287B2 (en) | Continuous transport exposure system | |
CA1282990C (en) | Method for screening line screen slit mask color picture tubes | |
KR100437020B1 (en) | Exposer with a Non-Leaned Light Source | |
CN109080259B (en) | UV L ED curing light source system and design method thereof | |
JPH028473B2 (en) | ||
JPS62143426A (en) | Light irradiation device | |
KR200141225Y1 (en) | Membrane preparation apparatus | |
KR200150013Y1 (en) | Polarizer for exposure | |
JP2594419Y2 (en) | Temporary polymerization device for photopolymerization material for dentures | |
JPS5785019A (en) | Lighting device | |
US3752579A (en) | Light exposure apparatus and method | |
JPS6269519A (en) | Irradiation method for ultraviolet ray laser | |
JPH0244276Y2 (en) |