SU127025A1 - Apparatus for producing high frequency silicon by thermal decomposition of silicon tetraiodide - Google Patents

Apparatus for producing high frequency silicon by thermal decomposition of silicon tetraiodide

Info

Publication number
SU127025A1
SU127025A1 SU626292A SU626292A SU127025A1 SU 127025 A1 SU127025 A1 SU 127025A1 SU 626292 A SU626292 A SU 626292A SU 626292 A SU626292 A SU 626292A SU 127025 A1 SU127025 A1 SU 127025A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
silicon
thermal decomposition
tetraiodide
high frequency
producing high
Prior art date
Application number
SU626292A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
И.А. Иноземцева
С.Н. Рязанцев
занцев С.Н. Р
Original Assignee
И.А. Иноземцева
С.Н. Рязанцев
занцев С.Н. Р
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by И.А. Иноземцева, С.Н. Рязанцев, занцев С.Н. Р filed Critical И.А. Иноземцева
Priority to SU626292A priority Critical patent/SU127025A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU127025A1 publication Critical patent/SU127025A1/en

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

ИзЕестные в лабораторной практике спиральные и ленточные аппараты дл  получени  заготовок кремни  высокой чистоты термическим разложением тетраиодида кремни  мало пригодны дл  заводской практики , вследствие низкой производительности; использование же укрупненных установок такой конструкции приводит к частым авари м от растрескивани  кварцевых ампул и труб.Laboratory helical and ribbon apparatus for the preparation of high-purity silicon blanks by thermal decomposition of silicon tetraiodide are not suitable for factory practice due to low productivity; the use of enlarged installations of this design leads to frequent accidents from cracking quartz ampoules and tubes.

Предлагаема  установка, выполненна  из кварца в сочетании с металлической ампулой дл  конденсации иода, исключает эти недостатки и делает ее пригодной дл  заводских условий.The proposed installation, made of quartz in combination with a metal ampoule for condensing iodine, eliminates these disadvantages and makes it suitable for factory conditions.

Установка состоит (см. чертеж) из кварцевой ампулы / с тетраиодидом кремни , внутренней танталовой трубы 2, нагреваемой током, наружной кварцевой труби 3 и металлической ампулы 4 дл  конденсации иода с охлаждающим змеевиком от фреоновой холодильной установки.The installation consists (see drawing) of a quartz ampule / with silicon tetraiodide, an internal tantalum tube 2 heated by a current, an outer quartz tube 3 and a metal ampoule 4 for condensing iodine with a cooling coil from a freon refrigeration unit.

Внутренн   танталова  труба сворачиваетс  спирально из танталовой ленты и зажимаетс  танталовыми контактами 5 с молибденовыми электродам-и 6. Коническим срезом ширины танталовой ленты создаетс  искусственный перепад температуры по длине трубы ( 200°).The inner tantalum tube is rolled up spirally from a tantalum tape and clamped by tantalum contacts 5 with molybdenum electrodes and 6. A conical cut of the width of the tantalum tape creates an artificial temperature drop along the length of the tube (200 °).

Работа установки складываетс  из следующих операций: из всей системы , проверенной предварительно на вакуумную плотность, форвакуумным насосом откачиваетс  воздух; одновременно включаетс  нагрев танталовой трубы и фреоновое охлаждение металлической ампулы; иодит кремни  в кварцевой ампуле расплавл етс  при помощи горелки, после чего под ампулу подставл етс  печь дл  поддержани  температуры на уровне 135-140°. Пары тетраиодида кремни  поступают в танталовую трубку, нагретую до 880-1100°, где нроисходит их термическое разложение; кремний при этом откладываетс  на стенках танталовой трубы , а иод конденсируетс  в металлической ампуле. По окончании процесса ампула с иодом поступает на синтез тетраиодида кремни ; кремниева  заготовка извлекаетс  из танталовой трубки при разворачиЕ нни танталовой -фольги.The operation of the plant consists of the following operations: air is pumped out of the entire system, which has been previously tested for vacuum density, by a vacuum pump; at the same time, the heating of the tantalum tube and the freon cooling of the metal ampoule are turned on; Silicon iodite in a quartz ampoule is melted with a burner, after which a furnace is placed under the ampoule to maintain the temperature at 135-140 °. Silicon tetraiodide vapor enters the tantalum tube heated to 880-1100 °, where their thermal decomposition occurs; the silicon is then deposited on the walls of the tantalum tube, and iodine is condensed in a metal ampoule. At the end of the process, an ampoule with iodine is fed to the synthesis of silicon tetraiodide; Silicon billet is removed from the tantalum tube while turning tantalum foil.

Искусственно создаваемый по длине трубы перепад температуры позвол ет получать кремниевые заготовки с определенным распределением примесей по длине трубы, благодар  чему повышаетс  чистота монокристаллов кремни  при проведении зонной плавки от наиболее чистого конпа заготовки.An artificially created temperature difference across the length of the tube makes it possible to obtain silicon blanks with a certain distribution of impurities along the length of the tube, thereby improving the purity of silicon single crystals when conducting zone melting from the most pure konpa of the blank.

Предмет изобретени Subject invention

Устройство дл  получени  кремни  высокой чистоты термическим разложением тетраиодида кремни , отличающеес  тем, что, с це.чью получени  трубчатых кремниевых заготовок, оно выполнено в виде танталовой трубы, нагреваемой до 1100° с искусственно создаваемым перепадом температуры EI 200° по длине трубы, .с проведением диссоциации тетраиодида кремни  внутри трубы и конденсацией получаемого в результате разложени  иода в никелевой, охлаждаемой фреоном, ампуле.A device for producing high purity silicon by thermal decomposition of silicon tetraiodide, characterized in that, in order to obtain tubular silicon blanks, it is made in the form of a tantalum tube heated to 1100 ° C with an artificially created temperature difference of EI 200 ° along the length of the pipe. the dissociation of silicon tetraiodide inside the tube and the condensation of the resulting decomposition of iodine in a nickel cooled Freon ampoule.

220 220220 220

SU626292A 1959-04-20 1959-04-20 Apparatus for producing high frequency silicon by thermal decomposition of silicon tetraiodide SU127025A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU626292A SU127025A1 (en) 1959-04-20 1959-04-20 Apparatus for producing high frequency silicon by thermal decomposition of silicon tetraiodide

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU626292A SU127025A1 (en) 1959-04-20 1959-04-20 Apparatus for producing high frequency silicon by thermal decomposition of silicon tetraiodide

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU792855100A Addition SU870808A2 (en) 1979-12-20 1979-12-20 Power cylinder
SU813286674A Addition SU973957A2 (en) 1981-05-06 1981-05-06 Power cylinder

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU127025A1 true SU127025A1 (en) 1959-11-30

Family

ID=48398288

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU626292A SU127025A1 (en) 1959-04-20 1959-04-20 Apparatus for producing high frequency silicon by thermal decomposition of silicon tetraiodide

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU127025A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011059354A1 (en) * 2009-11-11 2011-05-19 Shishov Sergey Vladimirovich Method for producing silicon

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011059354A1 (en) * 2009-11-11 2011-05-19 Shishov Sergey Vladimirovich Method for producing silicon

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3219788A (en) Apparatus for the production of high-purity semiconductor materials
US3030189A (en) Methods of producing substances of highest purity, particularly electric semiconductors
US3008887A (en) Purification process
SU127025A1 (en) Apparatus for producing high frequency silicon by thermal decomposition of silicon tetraiodide
US3121062A (en) Vapor phase crystallization
US2851342A (en) Preparation of single crystals of silicon
DE1292640B (en) Device for depositing high-purity silicon from a high-purity reaction gas containing a silicon compound
US3119778A (en) Method and apparatus for crystal growth
US1814073A (en) Purification of calcium
CN112408338B (en) Method and device for purifying crude tellurium
Kracek The melting point of tellurium
US3179593A (en) Method for producing monocrystalline semiconductor material
GB1284068A (en) Improvements in or relating to the drawing of crystalline bodies
US2789153A (en) Furnace for producing single crystals for transistors
US3260573A (en) Zone melting gallium in a recycling arsenic atmosphere
Alexander et al. 520. The halides of columbium (Niobium) and tantalum. Part II. The vapour pressure of tantalum pentaiodide
US3046100A (en) Zone melting of semiconductive material
DE2115391A1 (en)
GB878763A (en) Improvements in and relating to a process and apparatus for the production of highly-pure silicon
SU116849A1 (en) The method of obtaining pure silicon and device for its implementation
DE1233370B (en) Process for the production of high purity silicon
US2030396A (en) Rectifier and the like
SU534423A1 (en) Method of making glass capillaries
US3150965A (en) Method of producing gallium
GB761050A (en) Improvements in or relating to methods and means for producing phosphors