SU116849A1 - Способ получени чистого кремни и устройство дл его осуществлени - Google Patents
Способ получени чистого кремни и устройство дл его осуществлениInfo
- Publication number
- SU116849A1 SU116849A1 SU598015A SU598015A SU116849A1 SU 116849 A1 SU116849 A1 SU 116849A1 SU 598015 A SU598015 A SU 598015A SU 598015 A SU598015 A SU 598015A SU 116849 A1 SU116849 A1 SU 116849A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- silicon
- dissociation
- seed
- quartz
- implementation
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
Известен способ получени чистого кремни -нутем термической диссоциации четырехиодистого кремни на поверхности кремниевого нагревател : - ..,- ,.
Описываемый способ позвол ет получить более длинныекремниевые стержни е меньшим содержанием примесей.
С этой целью диссоциацию четырехиодистого кремни осуществл ют на расплавленной вершине кремниевой затравки.
Дл осуществлени способа предлагаетс устройство, особенность которого заключаетс в том, что рабоча камера дл диссоциации выполнена в виде кварцевой трубы, в которую снизу вставлен кварцевый шток с запа нным внутрь железным сердечником, поддерживающий кремниевую затравку, нагреваемую генератором токов высокой частоты, и опускающийс но мере роста образующегос слитка.
На чертеже изображена схема устройства.
Рабоча камера 1 устройства представл ет собою кварцевую трубу, имеющую ввод дл поступлени в нее четырехиодистого кремни и смотровое стекло 2 из оптического кварца.
В нижней части камеры / имеетс отверстие, закрывающеес пришлифованной пробкой. Через это отверстие в камеру вставл етс кварцевый шток 3 с запа нным внутри него железным сердечником 4.
Обогрев ампулы 5 с четырехиодистым кремнием до темиературы пор дка 150° осуществл етс печью 6 сопротивлени . Камера / сообщаегс е ампулой 7, помещенной в сосуд 8. Дюара с жидким азотом. В ампулу 7 вставлена трубка 9, присоединенна к форвакуумному насосу. Внутри камеры / находитс горизонтально расположенный отражатель W. Позицией П обозначен посто нный магнит, а позицией 12-индуктор.
Вначале аппаратура вакуумируетс , затем разогреваетс ампула 5 с четырехиодистым кремнием до его плавлепи и включаетс высокочастотный нагрев кремниевой затравки. Пары четырехиодистого кремни поступают на расплавленную вершину затравки, где происходит диссо№ 116849
циаци его на кремний и йод. Пары йода отвод тс в ампулу 7. По мере роста образующегос слитка 13 кремни кварцевый шток 3, поддерживающий кремниевую затравку, опускаетс .
Полученный слиток кремни может быть переработан на монокристалл путем бестигельной зонной плавки, а также известным методом выт гивани .
При скорости подачи паров четырехиодистого кремни около 80 на кремниевую затравку с площадью расплава 1,5 слг скорость разложени четырехиодистого кремни составл ет 2,7 г/час. Степень разложени -67 %.
При увеличении скорости подачи паров четырехиодистого кремни степень разложени уменьшаетс , а скорость его увеличиваетс .
Получение длинных стержней кремни способствует удалению примеси при кристаллизации, причем устран етс контакт кремни с кварцем , вл ющийс причиной диффузии примесей из футеровки в кремний.
Предмет изобретени
Claims (2)
1.Способ получени чистого кремни путем термической диссоциации четырехиодистого кремни на поверхности кремниевого нагревател , отличающийс тем, что, с целью Снижени содержани примесей и получени длинных кремниевых стержней, диссоциаци четырехиодистого кремни осуществл етс на расплавленной вершине кремниевой затравки .
2.Устройство дл осуществлени способа по п. 1, о т л и ч а ю щ е е с тем, что рабоча камера дл диссоциации выполнена в виде кварцевой трубы, в которую снизу вставлен кварцевый щток с запа нным внутрь железным сердечником, поддерживающий кремниевую затравку, нагреваемую генератором токов высокой частоты, и опускающийс вниз по мере роста образующегос слитка.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU598015A SU116849A1 (ru) | 1958-04-22 | 1958-04-22 | Способ получени чистого кремни и устройство дл его осуществлени |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU598015A SU116849A1 (ru) | 1958-04-22 | 1958-04-22 | Способ получени чистого кремни и устройство дл его осуществлени |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU116849A1 true SU116849A1 (ru) | 1958-11-30 |
Family
ID=48389045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU598015A SU116849A1 (ru) | 1958-04-22 | 1958-04-22 | Способ получени чистого кремни и устройство дл его осуществлени |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU116849A1 (ru) |
-
1958
- 1958-04-22 SU SU598015A patent/SU116849A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3265469A (en) | Crystal growing apparatus | |
US4203951A (en) | Apparatus for growing single crystals from melt with additional feeding of comminuted charge | |
US2683676A (en) | Production of germanium rods having longitudinal crystal boundaries | |
US3173765A (en) | Method of making crystalline silicon semiconductor material | |
US4097329A (en) | Process for the production of monocrystalline silicon rods | |
US3353914A (en) | Method of seed-pulling beta silicon carbide crystals from a melt containing silver and the product thereof | |
WO1991002832A1 (en) | Method for directional solidification of single crystals | |
JPS6465086A (en) | Apparatus and process for producing single crystal rod | |
US3351433A (en) | Method of producing monocrystalline semiconductor rods | |
SU116849A1 (ru) | Способ получени чистого кремни и устройство дл его осуществлени | |
GB870408A (en) | Treatment of silicon | |
EP0417948A2 (en) | Method and apparatus for pulling up silicon single crystal | |
US3261722A (en) | Process for preparing semiconductor ingots within a depression | |
GB803830A (en) | Semiconductor comprising silicon and method of making it | |
US3936346A (en) | Crystal growth combining float zone technique with the water cooled RF container method | |
US3179593A (en) | Method for producing monocrystalline semiconductor material | |
JP3832536B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法および引上げ機 | |
Kadeckova et al. | Stabilization of floating liquid zone in preparation of Fe-Si alloy single crystals | |
US3046100A (en) | Zone melting of semiconductive material | |
GB1414202A (en) | Method of manufacturing monocrystalline semiconductor bodies | |
US2789153A (en) | Furnace for producing single crystals for transistors | |
US3929556A (en) | Nucleating growth of lead-tin-telluride single crystal with an oriented barium fluoride substrate | |
US3690848A (en) | Necked housing in float zone refining | |
US3044967A (en) | Production of pure semi-conductor material | |
JPS55113695A (en) | Single crystal growing device |