SU1118512A1 - Method of electrochemical machining in external magnetic field by dielectric stencil - Google Patents

Method of electrochemical machining in external magnetic field by dielectric stencil Download PDF

Info

Publication number
SU1118512A1
SU1118512A1 SU813367733A SU3367733A SU1118512A1 SU 1118512 A1 SU1118512 A1 SU 1118512A1 SU 813367733 A SU813367733 A SU 813367733A SU 3367733 A SU3367733 A SU 3367733A SU 1118512 A1 SU1118512 A1 SU 1118512A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
stencil
magnetic field
etching
processing
external magnetic
Prior art date
Application number
SU813367733A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Александр Александрович Корчагин
Дмитрий Владимирович Румянцев
Александр Арсеньевич Феоктистов
Original Assignee
Предприятие П/Я В-8710
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я В-8710 filed Critical Предприятие П/Я В-8710
Priority to SU813367733A priority Critical patent/SU1118512A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU1118512A1 publication Critical patent/SU1118512A1/en

Links

Abstract

СПОСОБ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ВО ВНЕШНЕМ МАГНИТНОМ ПОЛЕ ,ПОДИЭЛЕКТРИЧЕСКОМУ ТРАФАРЕТУ из эластичного материала.с ферромагнитным наполнителем, отличающийс  тем, что, с целью повышени  точности обработки путем уменьшени  растравливани  пол трафаретом. величину напр женности магнитного пол  с градиентом к поверхности детали увеличивают от величины, минимально необходимой дл  надежного прилегани  трафарета при осуществлении обработки, до величины, обеспечивающей максимум функционала 1Ж) где V глубина травлени , мм; do- диаметр растравливани , мм; 8 - магнитна  индукци , Тл; f - текущее рем электрохимической обработки, с; Т - общее врем  обработки, с. S 00 01 юMETHOD OF ELECTROCHEMICAL TREATMENT IN EXTERNAL MAGNETIC FIELD, PODELECTRIC Stencil of elastic material with ferromagnetic filler, characterized in that, in order to improve processing accuracy by reducing etching the floor with a stencil. the magnitude of the magnetic field strength with a gradient to the surface of the part is increased from the value minimally necessary for a stencil to fit reliably when processing is carried out to a value ensuring the maximum of the functional 1) where V is the depth of etching, mm; do- diameter of etching, mm; 8 - magnetic induction, T; f is the current rem of the electrochemical treatment, s; T - total processing time, s. S 00 01 th

Description

Изобретение относитс  к электроXHMHijpcKoft обработке по трафарету и может быть использовано в различных отрасл х машиностроени . Известен способ электрохимической обработки во внешнем магнитном поле, по диэлектрическому трафарету из эластичнохо материала с ферромагнитным наполнителем 1 . Однако данный способ не позвол ет избавитьс  от токов рассеивани  по боковой поверхности обрабатываемого отверсти , что приводит к растравливанию боковой поверхности отверсти , искажению его формы. При анодном растворении отверсти  по , трафарету образуетс  бокова  ленточ ка анодного растворени , поверхност которой перпендикул рна поверхности детали до ЭХО, обусловленна  отсутствием защиты от.растворени  при съеме определенного припуска. Повышение неоднородности электрического пол  из-за этого в межэлектродном пространстве приводит к подтравлива нию под трафаретом. Это расшир ет границу обработки даже при плотном прижиме трафарета к аноду. Причем при увеличении припуска под раствор . ние величина растравливани  увеличи ваетс , а производительность падает Поэтому при обработке большого числа часто расположенных отверстий бо ковое растравливание часто во многом Iопредел ет общую точность, котора  существенно ухудшаетс , особенно пр получении отверстий малого .диаметра Цель изобретени  - .ение точ ности, электрохимического формообразовани  путем уменьшени  растравливани  отверстий по диаметру в процессе основного съема. Поставленна : цель достигаетс  тем, что согласно способу электрохимической обработки во внешнем маг нитном поле по диэлектрическому тра фарету из эластичного материала с феромагнитным накопителем, величину напр женности магнитного пол  с градиентом к поверхности детали уве личивают от величины, минимально не обходимой дл  надежного прилеганию трафарета при осуществлении обработ ки, до величины, обеспечивающей мак симум функционала где Ь - глубина травлени , мм; с1д - диаметр растравливани , мм; В - магнитна  индукци , Тл; f - текущее врем  электрохимической обработки, cf Т - общее врем  обработки, с, Этим достигаетс  уменьшение токов рассеивани , так как часть электрической энергии затрачиваетс  на раскрутку электролита в результате магнитогидродинамического взаимодействи  перпендикул рного к .границе зоны растворени , определ емой трафаретом , электрического пол  и перекрестного с ним внешнего магнитного пол . Это также способствует улучшению удалени  продуктов растворени  и повышению производительности процесса особенно при обработке отвбрстий малого диаметра. (0,5-1 мм . Приложение максимально возможной напр женности в начале обработки, увеличивает величину бокового растравливани , что ухудшает точность обработки;Таким образом, обработка отверстий по трафатеру с ферромагнитным наполнителем во внешнем магнитном поле в режиме перехода от минимально необходимой напр женности магнитного ПОЛЯ к. максимальной напр женности позвол ет существенно повысить точность обработки за счет стабилизации размеров и формы отверстий , На фиг,1 изображена электрохимическа   чейка; на фиг.2 - формообразование отверсти  с наложением магнитного пол  и без него. Провод т, электрохимическую обработку тонкостенного листа Х18Н10Т в электрохимической  чейке (фиг.1), состо щей из коллектора сбора и распределени  электролита 1, катода инструмента 2 с отверсти ми подачи и отсоса электролита, диэлектрического трафарета 3 с отверсти ми по заданному профилю, выполненного из винипроза ГОСТ 3399-52 с покрытием эпоксидной смолой .ЭД-5 с наполните- ., лем (50% ферропорошка) МРТУ 14-74-58. В качестве токоподвод щего анода 4 выбран сердечник (Ст. 3) электромагнита 5. При включении внешнего магнитного пол  у поверхности образца б создают магнитное поле вдоль оси электрохимической  чейки с градиентом , направленным к аноду, создающее равномерно распределенную нагрузку по всей поверхности трафарета и гарантирующее плотное прижатие ди-. электрического трафарета к обрабатываемой детали. На фиг,2 представлен характер формообразовани  отверсти  без наложени  и с наложением магнитного пол  (соответственно лева  и права  половины -отверсти ) в. зоне ЭХО величиной 0,3 Тл. Магнитное поле накладывали перпендикул рно поверхности обработки. При этом по вл юща с  радиальна  составл юща  вектора плотности тока заставл ет электролит вращатьс  вокруг оси отверсти . Это существенно вли ет на характер формообразовани  отверсти  в процессе углублени  его днаг в начальной фаThe invention relates to electro-HMHijpcKoft stencil processing and can be used in various fields of engineering. The known method of electrochemical processing in an external magnetic field, according to a dielectric stencil of elastic material with a ferromagnetic filler 1. However, this method does not allow the scattering currents to be eliminated along the side surface of the hole being machined, which leads to etching the side surface of the hole, distorting its shape. When the anodic dissolution of the hole in the stencil is formed, the lateral strip of anodic dissolution, the surface of which is perpendicular to the surface of the part before the ECM, due to the lack of protection against dissolution when removing a certain allowance. An increase in the inhomogeneity of the electric field due to this in the interelectrode space leads to undercutting under the stencil. This expands the processing boundary even when the stencil is tightly pressed to the anode. And with an increase in allowance for the solution. The increase in the size of the etching increases, and the productivity drops. Therefore, when processing a large number of frequently located holes, side etching often determines the overall accuracy, which significantly deteriorates, especially when making small holes. The aim of the invention is to improve the accuracy of electrochemical shaping. reduction of hole etching in diameter during the main removal process. Set: the goal is achieved by the fact that, according to the method of electrochemical processing in an external magnetic field on a dielectric plate made of an elastic material with a ferromagnetic storage ring, the magnitude of the magnetic field strength with a gradient to the surface of the part is increased from the minimum required for the stencil processing, to a value that provides the maximum of the functional where b is the etching depth, mm; s1d - diameter of etching, mm; B is magnetic induction, T; f is the current time of electrochemical processing, cf T is the total processing time, s. This achieves a reduction in dissipation currents, since part of the electrical energy is spent on the unwinding of the electrolyte as a result of the magnetohydrodynamic interaction perpendicular to the dissolution zone defined by the stencil, the electric field and cross with him external magnetic field. It also contributes to improved removal of dissolution products and improved process performance, especially when processing small diameter. (0.5-1 mm. The application of the maximum possible intensity at the beginning of processing increases the amount of side etching, which degrades the accuracy of processing; Thus, the processing of holes in a trap with a ferromagnetic filler in an external magnetic field in the transition mode from the minimum required magnetic FIELD k. Maximum intensity allows to significantly improve the processing accuracy by stabilizing the size and shape of the holes, FIG. 1 shows an electrochemical cell; FIG. 2 is shaped An orifice with and without a magnetic field is placed in an electrochemical treatment of a thin-walled X18H10T sheet in an electrochemical cell (Fig. 1) consisting of an electrolyte collection and distribution manifold 1, a tool 2 cathode with supply holes and electrolyte suction, a dielectric pattern 3 with holes according to a given profile made of viniproz GOST 3399-52 coated with epoxy resin. ED-5 with filler., Lem (50% ferropowder) MRTU 14-74-58. As the current-carrying anode 4, a core (Art. 3) of the electromagnet 5 is selected. When the external magnetic field is turned on, the sample surface b creates a magnetic field along the axis of the electrochemical cell with a gradient directed to the anode, creating a uniformly distributed load over the entire surface of the stencil and ensuring a tight pressing di-. electric stencil to the workpiece. Fig. 2 shows the character of the shaping of the hole without overlapping and with the imposition of a magnetic field (left and half-hole, respectively) c. the echo area of 0.3 T. The magnetic field was applied perpendicular to the treatment surface. In this case, the radial component of the current density vector causes the electrolyte to rotate around the axis of the hole. This significantly affects the nature of the formation of the hole in the process of deepening its bottom in the initial phase.

Claims (1)

СПОСОБ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ВО ВНЕШНЕМ МАГНИТНОМ ПОЛЕ ,ПО ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОМУ ТРАФАРЕТУ из эластичного материала.с ферромагнитным наполнителем, отличающийся тем, что, с целью повышения точности обработки путем уменьшения растравливания под трафаретом, величину напряженности магнитного поля с градиентом к поверхности детали увеличивают от величины, минимально необходимой для надежного прилегания трафарета при осуществлении обработки, до величины, обеспечивающей максимум функционала где К - глубина травления, мм;METHOD OF ELECTROCHEMICAL TREATMENT IN AN EXTERNAL MAGNETIC FIELD, BY A DIELECTRIC STENCIL made of an elastic material with a ferromagnetic filler, characterized in that, in order to increase the accuracy of processing by reducing etching under the stencil, the magnitude of the magnetic field strength is increased from the minimum to increase the value with a gradient to the surface for reliable fit of the stencil during processing, to a value that provides a maximum of functionality where K is the etching depth, mm; с!0- диаметр растравливания, мм;from! 0 - etching diameter, mm; 8 - магнитная индукция, Тл;8 - magnetic induction, T; f - текущее время'электрохимической обработки, с; Q f - current time'electrochemical processing, s; Q Т - общее время обработки, с. ST is the total processing time, s. S SU Л118512 фиг.1SU L118512 figure 1
SU813367733A 1981-12-23 1981-12-23 Method of electrochemical machining in external magnetic field by dielectric stencil SU1118512A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813367733A SU1118512A1 (en) 1981-12-23 1981-12-23 Method of electrochemical machining in external magnetic field by dielectric stencil

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813367733A SU1118512A1 (en) 1981-12-23 1981-12-23 Method of electrochemical machining in external magnetic field by dielectric stencil

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1118512A1 true SU1118512A1 (en) 1984-10-15

Family

ID=20987347

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU813367733A SU1118512A1 (en) 1981-12-23 1981-12-23 Method of electrochemical machining in external magnetic field by dielectric stencil

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1118512A1 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Патент JP 56-10128, кл.В 23 Р 1/04, 1978 (протсзтип). *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2590927A (en) Electrolytic method of removing burrs
CA1158197A (en) Method and apparatus for electrochemically finishing airfoil edges
SU1118512A1 (en) Method of electrochemical machining in external magnetic field by dielectric stencil
JPS57203781A (en) Plasma working device
CN108971674B (en) Device for electrolytically machining micro groove and electrolytic machining method
JPH0570986A (en) Electrolytic copper plating method and electrolytic copper plating device
DK462383A (en) PROCEDURE FOR ELECTROPLETING
CZ167197A3 (en) Process for producing oxide layer protecting against corrosion and wear, with locally reduced thickness of such layer on metallic surface of a component
US3749653A (en) Process of electrolytic etching
JPS55152200A (en) Electroplating
US3513282A (en) Electrode for spark erosion apparatus
SE0102994D0 (en) Ways to etch copper on card and device and electrolyte for carrying out the method
SU1484517A1 (en) Method of spark-erosion alloying
JPS56119792A (en) Electroplating method
JPS5586119A (en) Ion irradiation
SU1484503A1 (en) Method of dimensional electro-chemical working
SU745638A1 (en) Method of securing non-rigid parts during dimensional electrochemical working
SU778981A1 (en) Electrochemical treatment method
SU708942A1 (en) Impulsive ion accelerator
JPS57101700A (en) Treating method for cylinder surface in cylinder block made of al alloy
JPS56152969A (en) Ion etching apparatus
SU866658A1 (en) Magnetic core manufacturing method
JPS61156625A (en) Ion processor
JPS5677398A (en) Processing method for magnetic alloy
JPS5843480B2 (en) Electrolytic etching method