Изобретение относитс к области регулировани процесса очистки растворител (шихты) от примесей, исполь . зуемого в процессе полимеризации диеновых мономеров, путем ректификации и может быть использовано в, промышленности синтетического каучука. -Известен способ регулировани процесса очистки растворител от примесей путем ректификации регулированием расходов пара в кип тильник ректи .фикационной колонны, флегмы и кубовых остатков 1. . Недостатком этого способа вл етс то, что он не обеспечивает ограни чени расхода пара в кип тильник колонны . Наиболее близким по технической сущности и базовым объектом к предла гаемому вл етс способ регулировани процесса очистки растворител производства синтетического каучука от примесей в ректификационной колон не путем регулировани расходов пар-а в кип тильник ректификационной колон ры и кубовых остатков, байпасировани части потока дистилл та, введе ни в него литийполистйрила и стабилизации цвета смешанного потока из 1енением расхода байпасируемой части . потока дистилл та или литийполистйри ла 2 .; Недостатком известного способа в л етс повышенные расходы пара в кип тильник колонны в св зи с тем, что он ограничен предельно допустимой ве личиной расхода флегмы, Цель изобретени - снижение расхо да пара в. кип тильник колонны. Поставленна цель достигаетс тем что согласно способу регулировани процесса очистки растворител произ:водства синтетического каучука от примесей в ректификационной колонне цутем регулировани расходов пара в кип тильник ректификационной колон ны и кубовых остатков байпасировани части потока дистилл та, введени в него литийполистйрила и стабилизации цвета с; 4ешанного потока изменением расхода байпасируемой части дистилл та или литийполистйрила, дополнитель; но стабилизируют расход флегмы и измен ют расход растворител , подаваемого в ректификационную колонну, в зависимости от расхода байпасируемой части потока дистилл та или расхода литийполистйрила. При этом расход (вывод) кубовьк остатков измен ют в зависимости от концентрации растворител , а расход пара в кип тильник колонны измен ют в зависимости от уровн жидкой фазы в колонне,. При снижении расход растворител на колонну ниже заданного предельного значени . Целесообразно допустить большую концентрацию примесей в дисилл те путем, например, увеличени аданного расхода литийполистйрила. Такой прием снижает расход пара в ип тильник колонны, поскольку расход флегмы практически стабилизируетс на минимально приемлемом уровне в услови х поддержани заданной стенки очистки растворител от примесей. На чертеже представлена блок-схема системы управл ени , реализующей предлагаемый способ. На блок-схеме показаны ректификационна колонна 1, датчик 2 расхода неосушеннрго растворител , регул тор 3 и клапан 4 расхода растворител , кип тильник 5, датчик б расхода па- . ра, регул тор 7 и.клапан 8 расхода пара, трубопровод 9 кубовых остатков, датчик 10 расхода кубовых остатков, регул тор 11 и клапан 12 расхода кубовых остатков, датчик 13 концентрации растворител , регул тор 14 концентрации растворител , датчик 15 уровн жидкой фазы в колонне, регул рор 16 уровн , холодильник 17, трубопровод 18 дистилл та, .датчик 19 расхода флегмы, регул тор 20 и клапан 21 расхода флегмы, трубопровод 22 байпасируемой части дистилл та,трубопровод 23 литийполистйрила,-датчик 24 расхода байпасируемого потока дистилл та , датчик 25 расхода литийполистйрила , регул тор 26 и клапан 27 расхода байпасируемого потока дистилл та , регул тор 28 и клапан 29 расхода литийполистрила, датчик 30 цвета потока,регул тор 31 цвета потока и регул тор 32. Система управлени работает следук цим образом. Растворитель подаетс на ректификационную колонну 1 и расход его контролируемый датчиком 2, стабилизируетс регул тором 3, воздействующим на клапан 4. Расход пара, подаваемого в кип тильник 5, контролируетс датчиком 6 и стабилизируетс регул тором 7, воздействукхцим на клапан 8. Из куба КОЛОННЫ по трубопроводу 9 вывод тс кубовые остатки, расход которых , контролируемый датчиком 10, стаб:ализируетс регул тором 11, воздейств укндим на клапан 12. На трубопроводе 9 установлен датчик 13, контролирующий концентрацию растворител в кубовых остатках и пода;аций информацию на регул тор 14, стабилизирующий эту величину изменением расхода пара, т.е. изменением задани регул тору 7. Припревышении концентрации растворител в кубовых остатках заданного значени расход пара увеличивают и наоборот. При этом регул тор 14 измен ет задание регул тору 11. На колонне 1 установлен датчик 15, контролирующий уровень жидкой фазы в колонне и подакщий информацию на регул тор 16, стабилизирук ций эту величину изменением расхода кубовых ос татков, т.е. изменением задани гул тору 11. При превышении уровн жидкой фазы заданного значени расхо Ky6oibbix остатков увеличивают и наобо рот. При этом регул тор 16 измен ет задание регул тору 7. На выходе колонные парова фаза поступает в холодильник 17, из которого дистилл т по трубопроводу 18 идет на полимеризацию или дополнительную азеотропную осушку. Из этого трубопровода часть дистилл та байпасируе с и используетс в качестве флегмы, расход которой, контролируемый датчиком 19, стабилизируетс регул тором 20, воздействукщим на клапа:н 21. Друга (небольша ) часть дис тилл та из трубопровода 18 байпасируетс по трубопроводу 22, в который по трубопроводу 23 ввод т литийполис тирил. Расходы этой части дистилл та и литийполистирила контролируемые соответственно, датчиками 24 и 25, стабилизируетс регул торами 26 и 28 воздействующими на клапана 27 и 29. За точкой ввода литийполистирила на трубопроводе 22 установлен датчик 30, например фотоКолориметр, контролирующий цвет смешанного байпасируемого потока и подающий информацию на регул тор 31, стабилизирующий цвет , этого потока изменением расхода байпа;сируемого потока или литейполистирила , т..е. изменением задани регул тору 26 или 28. Информаци о расходе от датчика 24 или 25 поступает на регул тор 32, который измен ет .расход растворител , подаваемого на колонну. При превышении раСсхода байпасируемого потока (литийполистирила) заданного значени расход растворител на колонну 1 увеличивают (уменьшают) h наоборот. I При снижении нагрузки на колонну ниже заданного предельного значени целесообразно допустить большую концентрацию примесей в дистилл те. Дл этого можно, например, уменьшить заданную величину байпасируемого потока дистилл та. Использование предлагаемого спосо-. ба приводит к Уменьшению расхода пара в кип тильник колонны в св зи с тем, что расход флегмы, определ ющий этот расход, стабилизируетс на минимально допустимом значении при обеспечении заданной концентрации примесей в дистилл те.The invention relates to the field of regulation of the process of purification of the solvent (mixture) from impurities, using of diene monomers, which is polymerised during the polymerization process, by rectification and can be used in the synthetic rubber industry. - A known method of regulating the process of purification of the solvent from impurities by rectification by regulating the costs of steam in the boiler of the rectification column, phlegm and bottoms 1.. The disadvantage of this method is that it does not restrict the consumption of steam in the boiler of the column. The closest in technical essence and basic object to the proposed method is the method of regulating the process of purification of the solvent of synthetic rubber production from impurities in the distillation column not by controlling the costs of steam and distillation column and bottoms residues, bypassing part of the distillate stream, nor in it lithium polystyrene and color stabilization of the mixed flow from the flow rate of the bypass part. flow distillate or lithium polystyrene 2; The disadvantage of the known method is the increased steam consumption in the boiler of the column due to the fact that it is limited by the maximum allowable amount of reflux. The purpose of the invention is to reduce the steam consumption rate. boiler column. The goal is achieved by the fact that according to the method of regulating the process of purification of the solvent production of synthetic rubber from impurities in the distillation column, the flow of steam in the distillation distillation column and the bottoms of the bypass part of the distillate stream, the introduction of lithium polystyrene and color stabilization with; 4 flow by changing the flow rate of the bypassed part of the distillate or lithium polystyrene, additional; However, they stabilize the reflux flow rate and change the flow rate of the solvent fed to the distillation column, depending on the flow rate of the bypass portion of the distillate stream or the flow rate of lithium polystyryl. In this case, the consumption (output) of the bottom of the residue varies depending on the concentration of the solvent, and the steam consumption in the boiler of the column varies depending on the level of the liquid phase in the column. By reducing the solvent consumption per column below a predetermined limit value. It is advisable to prevent a large concentration of impurities in the disilte by, for example, increasing the consumption of lithium polystyrene. This method reduces steam consumption in the column, as the reflux rate is practically stabilized at the minimum acceptable level in terms of maintaining the desired wall of solvent cleaning from impurities. The drawing shows a block diagram of a control system implementing the proposed method. The block diagram shows distillation column 1, sensor 2 for un-dried solvent consumption, regulator 3 and valve 4 for solvent consumption, boiler 5, sensor b for consumption pa-. pa, regulator 7 and. valve 8 steam consumption, pipeline 9 bottoms, sensor 10 consumption of bottoms, regulator 11 and valve 12 consumption of bottoms, sensor 13 of solvent concentration, regulator 14 of solvent concentration, sensor 15 column, regulator 16 level, refrigerator 17, distillate pipe 18, reflux flow sensor 19, regulator 20 and reflux flow valve 21, pipe 22 of the distillate bypass part, lithipolystyryl pipeline 23, sensor 24 of the distillate bypass flow, flow sensor 25 l tiypolistyrila, the controller 26 and the flow rate baypasiruemogo distillate valve 27, regulator 28 and flow control valve 29 litiypolistrila, color flow sensor 30, the controller 31 and color flow regulator 32. The control system operates sleduk CIM manner. The solvent is supplied to the distillation column 1 and its flow rate controlled by sensor 2 is stabilized by regulator 3 acting on valve 4. The flow of steam supplied to the boiler 5 is controlled by sensor 6 and stabilized by regulator 7 acting on valve 8. From the COLUMN cube Pipeline 9 carries bottoms, whose flow rate, controlled by sensor 10, is stable: is controlled by regulator 11 and affects valve 12. Pipe 9 has a sensor 13 that controls the concentration of solvent in bottoms information on regulator 14, which stabilizes this value by changing steam consumption, i.e. by changing the task to the controller 7. When the solvent concentration in the bottom residues of the given value is exceeded, the steam consumption increases and vice versa. In this case, the controller 14 changes the task to the controller 11. Sensor 1 has a sensor 15 that controls the level of the liquid phase in the column and provides information to the controller 16, stabilizing this value by changing the flow rate of bottoms, i.e. by changing the setpoint to the thrustor 11. When the level of the liquid phase exceeds a given value, the flow rate of Ky6oibbix residues increases and vice versa. In this case, the regulator 16 changes the task to the regulator 7. At the outlet, the column vapor phase enters the refrigerator 17, from which the distillate through line 18 goes to polymerization or additional azeotropic drying. From this pipeline, part of the distillate is bypassed with and used as reflux, the flow of which, controlled by sensor 19, is stabilized by a regulator 20 acting on the valve: n 21. Another (small) part of the distillate from pipeline 18 is bypassed by pipeline 22, which via line 23 introduces lithium polysyl. The flow rates of this part of distillate and lithium polystyryl, monitored by sensors 24 and 25, respectively, are stabilized by regulators 26 and 28 acting on valves 27 and 29. A sensor 30 is installed at the point of lithium polystyrene injection, for example, a photo colorimeter that controls the color of the mixed bypass flow and supplies information on the regulator 31, which stabilizes the color, of this flow by changing the flow rate of the bypass, the flow or the polystyryl, i.e. changing the setting of controller 26 or 28. The flow information from sensor 24 or 25 goes to controller 32, which changes the flow of solvent supplied to the column. When the excess flow of the bypass stream (lithium polystyryl) exceeds the specified value, the solvent consumption per column 1 increases (decreases) h, vice versa. I When reducing the load on the column below a predetermined limit value, it is advisable to allow a large concentration of impurities in the distillate. For this, it is possible, for example, to reduce the specified amount of the distillate bypass stream. The use of the proposed method. This leads to a decrease in the steam consumption in the boiling column of the column due to the fact that the reflux flow rate, which determines this flow rate, is stabilized at the minimum allowable value while ensuring a given concentration of impurities in the distillate.