SE501722C2 - Ytemitterande laseranordning med vertikal kavitet - Google Patents

Ytemitterande laseranordning med vertikal kavitet

Info

Publication number
SE501722C2
SE501722C2 SE9302950A SE9302950A SE501722C2 SE 501722 C2 SE501722 C2 SE 501722C2 SE 9302950 A SE9302950 A SE 9302950A SE 9302950 A SE9302950 A SE 9302950A SE 501722 C2 SE501722 C2 SE 501722C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
active
areas
optical
contact
laser
Prior art date
Application number
SE9302950A
Other languages
English (en)
Other versions
SE9302950D0 (sv
SE9302950L (sv
Inventor
Olle Nilsson
Original Assignee
Ellemtel Utvecklings Ab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ellemtel Utvecklings Ab filed Critical Ellemtel Utvecklings Ab
Priority to SE9302950A priority Critical patent/SE501722C2/sv
Publication of SE9302950D0 publication Critical patent/SE9302950D0/sv
Priority to JP7508625A priority patent/JPH09502571A/ja
Priority to EP94926435A priority patent/EP0717883B1/en
Priority to CA002169442A priority patent/CA2169442A1/en
Priority to DE69407603T priority patent/DE69407603T2/de
Priority to PCT/SE1994/000803 priority patent/WO1995007566A1/en
Publication of SE9302950L publication Critical patent/SE9302950L/sv
Publication of SE501722C2 publication Critical patent/SE501722C2/sv
Priority to US08/775,886 priority patent/US5781575A/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/18Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
    • H01S5/183Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
    • H01S5/18383Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] with periodic active regions at nodes or maxima of light intensity
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/44Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
    • H01L33/46Reflective coating, e.g. dielectric Bragg reflector
    • H01L33/465Reflective coating, e.g. dielectric Bragg reflector with a resonant cavity structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S2301/00Functional characteristics
    • H01S2301/16Semiconductor lasers with special structural design to influence the modes, e.g. specific multimode
    • H01S2301/163Single longitudinal mode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/18Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
    • H01S5/183Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
    • H01S5/18341Intra-cavity contacts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/18Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
    • H01S5/183Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
    • H01S5/18361Structure of the reflectors, e.g. hybrid mirrors
    • H01S5/18369Structure of the reflectors, e.g. hybrid mirrors based on dielectric materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/30Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
    • H01S5/305Structure or shape of the active region; Materials used for the active region characterised by the doping materials used in the laser structure
    • H01S5/3095Tunnel junction

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

15 20 25 30 35 501 722 2 En s k stor optisk kavitetslaser är känd exempelvis genom US-A-4 602 370. Denna anordning har ett flertal aktiva lager i den optiska kaviteten. Dessa aktiva lager är emellertid ej seriekopplade elektriskt och de optiska förlusterna blir stora. Dessa uppstår eftersom kontaktskik- ten befinner sig i områden med lika hög elektrisk fältstyr- ka som det aktiva skiktet.
I "Integrated Multilayer GaAs Lasers Separated by Tunnel Junctions" av J P van der Ziel och W T Tsang, Appl Phys Lett 41(6), 15 September 1982, är tre s k dubbelhetero- struktur GaAs-laserdioder seriekopplade genom backspända tunnelövergångar. Denna anordning beskriver emellertid ej någon ytemitterande laseranordníng och bildar ej heller någon vertikal optisk kavitet genom att den ej omfattar några dielektriska spegelanordningar. Genom att de aktiva lagren i en dylik anordning är anordnade på förhållandevis stort avstånd från varandra, vilket i sig är nödvändigt i detta fall, blir de olika optiska utsignalerna ifrån de olika lasrarna inkoherenta genom att lasrarna ej är kopplade till varandra.
Generellt gäller för alla vertikala ytemitterande lasrar, d v s lasrar med vertikal kavitet, att de elektriska spegelförlusterna, d v s p g a resistans i speglarna, är av stor betydelse och att det är ytterligt svårt att få tillräckligt hög impedans över det aktiva området. Detta är problematiskt eftersom hög impedans över det aktiva området kan vara av stor fördel vid en rad tillämpningar.
Speglarna i dylika anordningar har väsentligen två skilda funktioner, nämligen dels att utöva en ren spegelfunktion vilket ställer krav på materialet såsom att det skall ha goda optiska egenskaper, bl a låga optiska förluster o s v samt dels att leda ström fram till det andra aktiva området. Den sistnämnda funktionen förutsätter goda 10 15 20 25 30 35 5.01 722 3 ledningsegenskaper, lämpligen högdopade och med låg resistans. Kraven som ställes för de olika funktionerna är motstridiga och oförenliga vilket.leder till kompromisslös- ningar vilka ger upphov till stora spänningsfall i speglar- nä.
I den samtidigt av samma< sökanden inlämnade svenska patentansökan "Laseranordning med i en optisk kavitet seriekopplade laserstrukturer" beskrives en laseranordning som omfattar åtminstone två i en och samma optiska kavitet anordnade laserstrukturer vilka är elektriskt seriekoppla- de. Laserstrukturerna är i detta fall väsentligen paral- lellt anordnade i förhållande till varandra.
Vidare beskrives i en annan likaledes samtidigt inlämnad svensk patentansökan, av samma sökanden, "Optisk för- stärkningsanordning" en förstärkningsanordning som utnytt- jar seriekopplade laserstrukturer eller seriekopplade aktiva områden exempelvis i en vertikal kavitet.
Normalt innehåller s k diodlasrar ett, eller ibland flera, elektriskt parallelkopplade aktiva områden. Därvid genere- rar varje elektron som injiceras vid det aktiva området en foton. Se Fig. 1 som illustrerar en vanlig, konventionell laser med matningsströmmen 4I.
REDOGÖRELSE FÖR UPPFINNINGEN: Föreliggande uppfinning har som mål att ange en ytemitte- rande laseranordning såsom inledningsvis angivits genom vilken de resistiva, elektriska förluster som introduceras genom de dielektriska spegelanordningarna reduceras, d v s spänningsfallet över speglarna. Uppfinningen avser därige- nom bl.a. minska den relativa betydelsen av de elektriska spegelförlusterna. Ett ytterligare mål med uppfinningen är att reducera tröskelströmmen för en given effekt. Det är 10 15 20 25 30 35 501 722 4 också ett mål med uppfinningen att kunna höja den elektris- ka matningsimpedansen och samtidigt sänka tröskelströmmen.
Vidare är det ett generellt mål med uppfinningen att kunna anpassa impedansen uppåt. Ett ytterligare mål med upp- finningen är att ange en anordning vilken ger en god och även bättre förstärkning utan att därför spänningsfallet över speglarna ökar. Ett ytterligare mål med uppfinningen är att ange en anordning vilken är förhållandevis enkel och billig att framställa såväl som enkel att använda och som har ett stort användningsområde, d V s som är tillämpbar inom en rad olika områden, exempelvis inom optisk trans- missionsteknologi, optisk förbindelseteknologi, exempelvis mellan två halvledarchip ("0ptical Interconnect"), m m.
Dessa såväl som andra mål uppnås genom en anordning med de i patentkravet 1 angivna kännetecknen.
Föredragna utföringsformer anges genom de i underkraven angivna kännetecknen.
Enligt en föredragen utföringsform är uppfinningen så utformad att aktiva områden såväl som mellan dessa anordna- de kontaktområden eller skikt är parallella med de av det optiska fältet bildade stående vågplanen eller vågfronter- na, d v s vinkelräta mot vågornas utbredningsriktning.
Speciellt. är de aktiva områdena så arrangerade att. de ligger i horisontella plan svarande mot maximalt elektro- optiskt fält och de elektriska kontaktområdena eller kontaktskikten är arrangerade i horisontalplan svarande mot minima i det optiska elektriska fältet. De elektriska spegelanordningarna omfattar speciellt första och andra dielektriska Bragganordningar. Av dessa dielektriska Bragganordningar är den första anordnad upptill där den väsentligen avgränsar den vertikala kaviteten och även är något transparent. Den andra Bragganordningen är anordnad nedtill och enligt ett fördelaktigt utförande maximalt 10 15 20 25 30 35 501 722 5 reflekterande. De första respektive andra Bragganord- ningarna omges av topp- respektive bottenkontaktlager varvid toppkontaktlagret är väsentligen transparent. Enligt ett speciellt utförande omfattar laseranordningen fyra aktiva områden eller lager. Enligt ett speciellt utförande kan vidare de aktiva områdena eller lagren ha s k kvant- brunnstruktur. Vidare kan de elektriska kontaktområdena eller lagren speciellt vara av tunneldiodtyp med tunna, högdopade skikt. Anordningen bildar speciellt en lasera- nordning och emitterar laserljus. Enligt ett alternativt utförande emitterar anordningen ljus av LED-karaktär, d v s vid strömmar under tröskelströmmen.
FIGURBESKRIVNING: Uppfinningen kommer i det följande att närmare beskrivas icke på något vis i begränsande syfte, under hänvisning till bifogade figurer, där Fig. 2 schematiskt illustrerar en vertikalkavitetsla- ser av ytemitterande slag, Fig. 2a illustrerar ett aktivt område enligt Fig. 2, Fig. 2b illustrerar ett kontaktområde eller kontakt- lager enligt Fig. 2, Fig. 3 illustrerar en anordning enligt uppfinningen med kurva över den optiska intensiteten, Fig. 4 schematiskt illustrerar ett exempel på en anordning enligt uppfinningen.
FÖREDRAGNA UTFÖRINGSFORMER: I Fig. 2 illustreras en anordning 10 där en optisk, vertikal kavitet bildas av en första respektive en andra dielektrisk Braggspegelanordning la, lb. Den första Braggspegelanordningen la är anordnad upptill i den vertikala anordningen och är lämpligen något transparent. 10 15 20 25 30 35 501 722 6 Ovanpå denna första spegelanordning är anordnat ett toppkontaktlager 2a. Detta är' i det visade utförandet genomskinligt eller transparent. I det illustrerade utföringsexemplet är den undre Braggspegelanordningen lb så reflekterande som möjligt och under denna är ett bottenkon- taktlager 2b anordnat. Mellan de båda Braggspegelanord- ningarna la, lb är fyra aktiva områden eller lager 3a, 3b, 3c, 3d anordnade mellan vilka är anordnade kontaktområden eller kontaktlager 4a, 4b, 4c. De aktiva områdena eller lagren 3a, 3b, 3c, 3d illustreras tydligare i Fig. 2a. I detta fall är det aktiva området svagt n-dopat (n-). Andra alternativ är givetvis möjliga, exempelvis skulle det kunna vara svagt p-dopat (p-), men detta är i sig känd teknik. De aktiva områdena eller lagren 3a, 3b, 3c, 3d kan enligt ett speciellt utförande vara av kvantbrunnstruktur. Kontak- tområdena eller kontaktlagren 4a, 4b, 4c illustreras tydligare i Fig. lb. Kontaktlagren 4a, 4b, 4c kan enligt ett speciellt utförande vara av tunneldiodtyp med tunna högdopade skikt vilket framgår av figuren. I det illustre- rade exemplet visas hur ljuset emitteras. Detta kan vara av laser eller LED~karaktär, d v s svarande mot över eller under tröskelströmnivå. I Fig. 3 är anordningen enligt Fig. 2 illustrerad med en kurva över den optiska intensiteten och det framgår att varje kontaktlager eller kontaktområde 4a, 4b, 4c är beläget i ett plan motsvarande minimum i optisk intensitet IW,medan varje aktivt område 3a, 3b, 3c, 3d är beläget i områden motsvarande maximum i optisk intensitet IWP Exempelvis genom en elektrisk matningssignal Im introduceras ett optiskt stående vågmönster, d v s när I överstiger tröskelströmmen uppstår ett optiskt stående vågmönster med fyra (fyra eftersom utföringsexemplet omfattar fyra aktiva områden) intensitetstoppar. Det stående vågmönstret avklingar i Braggspegelanordningarna la, lb. De optiska förlusterna reduceras genom att maximum endast inträffar just i det aktiva områden. Med fyra aktiva områden 3a, 3b, 3c, 3d fås fyra spänningsfall på exempelvis lO 15 20 25 30 35 501 722 7 vardera 1 V. (1 V anger självfallet endast ett exempel i illustrativt syfte). Detta ger ett totalt spänningsfall på 4 V. Med fyra aktiva områden 3a, 3b, 3c, 3d blir för- stärkningen starkare utan att för den skull spänningsfallet över speglarna blir större vilket spänningsfall i själva verket är ett parasitspänningsfall (jfr. Fig. 1). I det illustrerade exemplet emitteras ljus uppåt (Fig. 2). Enligt alternativa utföranden skulle detta givetvis kunna vara såväl uppåt som nedåt eller i båda riktningarna (Fig. 3) varvid anordningen anpassas därtill i övrigt. Genom uppfin- ningen kan den relativa betydelsen av spegelförlusterna reduceras samtidigt som man kan få ner strömmen för en given effekt, d v s man ökar impedansen. Därigenom blir det lättare att anpassa till ledningar vilka exempelvis normalt har impedansen 50 ohm. Stora svårigheter har förelegat med att göra transmissionsledningar som avviker med stora faktorer ifrån 50 ohm, jämför koaxialkablar respektive u- strip-ledningar. Genom uppfinningen blir det möjligt att variera (öka) impedansen över de aktiva områdena, ex- empelvis med en faktor 16 samtidigt som tröskelströmmen är sänkt. med i storleksordningen för en givet effekt, en faktor 4. (Detta anger givetvis endast exempel på fakto- rer), svarande mot just fyra aktiva områden.
Enligt uppfinningen blir det nyttiga spänningsfallet, d v s spänningsfallet över de aktiva områdena (motsvarande den effekt som omvandlas till optisk effekt) fyra gånger större då anordningen omfattar fyra aktiva områden, generaliserat n gånger större om anordningen har n aktiva områden, jämför fallet illustrerat i Fig. 1. Dessutom ger n (i det visade utföringsexemplet är n=4) upphov till en större förstärk- ning varför en mindre reflektans i speglarna kan accepteras varigenom lägre krav ställes på dessa såsom att det blir möjligt att göra dessaa tunnare o s v. lO 15 20 25 501 722 8 I Fig. 4 illustreras ett exempel på en anordning enligt uppfinningen med cylindriskt tvärsnitt. Enligt ett utför- ingsexempel skulle den första Braggspegelanordningen kunna ha en tjocklek på ca 2-10 um och den andra Braggspegela- nordningen en tjocklek på ca 3-10 pm. Med fyra elektriskt seriekopplade områden bildande ett totalt aktivt område 3A skulle detta enligt det visade utföringsexemplet exempelvis kunna ha en tjocklek på 0,75 ,u.m. Diametern D hos den cylindriska anordningen skulle exempelvis kunna uppgå till 4 um. Detta anger givetvis endast exempel och en lång rad andra möjligheter föreligger naturligtvis.
Exempel på material är GaAlAs (speciellt för kortare våglängder såsom Å=O,8 u) och InGaAsP för längre våglängder (exempelvis Ä=l,3-1,6 u). Självfallet är en rad andra material användbara.
Uppfinningen skall givetvis ej begränsas till visade utföringsexempel utan kan varieras på en rad sätt inom ramen för patentkraven. Även om ett utföringsexempel med fyra aktiva lager eller områden har illustrerats är det givetvis möjligt att ha såväl färre som fler aktiva områden. Vidare kan de aktiva lagren respektive de elekt- riska kontaktområdena vara av konventionell karaktär, spegelanordningarna kan vara utformade på en rad olika sätt mm.

Claims (18)

10 15 20 25 30 35 501 722 9 Patentkrav
1. Ytemitterande laseranordning (10; 20) med åtminstone två aktiva (3a, 3b, 3c, 3c, ...) områden i en och samma optiska kavitet, där den optiska kaviteten är vertikal och i vertikal led väsentligen inneslutes eller begränsas av två dielektriska spegel-anordningar (la, lb; 1a', lb'), k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att de aktiva områdena (3a, 3b, 3c, 3d) är elektriskt seriekopplade.
2. Anordning enligt patentkrav 1, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att den är så utformad att ett vertikalt optiskt stående-vågmönster alstras i den optiska kaviteten.
3. Anordning enligt patentkrav 2, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att laseranordningen pumpas elektriskt genom en ström (I) som går vertikalt genom laseranordningen via en topp- och bottenkontakt.
4. Anordning enligt något av patentkraven 1-3, k ä n - n e t e c k n a d d ä 1: a v, att elektriska kontakt- områden (4a, 4b, 4c) är anordnade mellan de aktiva områdena (3a, 3b, 3c, 3d).
5. Anordning enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att de aktiva områdena (3a, 3b, 3c, 3d) och. kontaktområdena (4a, 4b, 4c) är vinkelräta mot utbredningsriktningen för de stående vågorna. 10 15 20 25 30 35 '501 722 10
6. Anordning enligt något av patentkraven 2-5, k ä n n e t e c k n a d d ä r a V, att de aktiva områdena (a, 3b, 3c, 3d) är arrangerade så att de ligger i horison- tella plan svarande mot maximalt elektro-optiskt fält.
7. Anordning enligt något av patentkraven 2-6, k ä n n e t e c k n a d d ä kontaktområden (4a, 4b, 4c) är arrangerade i horisontalplan svarande mot minima i det optiska elektriska fältet.
8. Anordning enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att de dielektriska spegelanordningarna (la, lb; 1a', lb') omfattar första och andra dielektriska Bragganordningar.
9. Anordning (10; 20) enligt patentkrav 8, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att den första Bragg- anordningen (la; la') är anordnad upptill och att den är något transparent.
10. Anordning (20) enligt något av patentkraven 8 eller 9, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att såväl den första som den andra Bragganordningen (la', lb') är något transparenta.
11. ll. Anordning (10) enligt patentkrav 8 eller 9, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att den andra Bragg- anordningen (lb) är anordnad nedtill och maximalt reflekte- rande.
12. Anordning enligt något av patentkraven 8-ll, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att den första respek- tive andra Bragganordningen (la, lb; la', lb') är omgivna av topp- respektive bottenkontaktlager varvid åtminstone toppkontaktlagret (2a; 2a') är väsentligen transparent. lO 15 20 501 722 ll
13. . Anordning enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att den omfattar fyra aktiva lager (3a, 3b, 3c, 3d).
14. Anordning enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att de aktiva områdena eller lagren (3a, 3b, 3c, 3d) har kvantbrunnsstruktur.
15. Anordning enligt något av föregående patentkrav, att de elektriska kontaktlagren (4a, 4b, 4c)är av tunneldiodtyp med tunna, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, högdopade skikt.
16. Anordning enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att den bildar en díodlaseranordníng.
17. Anordning (l0; 20) enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v, att den emitterar laserljus.
18. Anordning (10; 20) enligt något av patentkraven l-15, k ä n n e t e c k n a d d ä r a V, att den emitte- rar ljus av LED-karaktär.
SE9302950A 1993-09-10 1993-09-10 Ytemitterande laseranordning med vertikal kavitet SE501722C2 (sv)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE9302950A SE501722C2 (sv) 1993-09-10 1993-09-10 Ytemitterande laseranordning med vertikal kavitet
JP7508625A JPH09502571A (ja) 1993-09-10 1994-09-01 垂直キャビティを有する表面発光レーザー素子
EP94926435A EP0717883B1 (en) 1993-09-10 1994-09-01 Surface emitting laser device with a vertical cavity
CA002169442A CA2169442A1 (en) 1993-09-10 1994-09-01 Surface emitting laser device with a vertical cavity
DE69407603T DE69407603T2 (de) 1993-09-10 1994-09-01 Oberflächenemittierende laservorrichtung mit einem vertikalen resonator
PCT/SE1994/000803 WO1995007566A1 (en) 1993-09-10 1994-09-01 Surface emitting laser device with a vertical cavity
US08/775,886 US5781575A (en) 1993-09-10 1997-01-02 Surface emitting laser device with a vertical cavity

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE9302950A SE501722C2 (sv) 1993-09-10 1993-09-10 Ytemitterande laseranordning med vertikal kavitet

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE9302950D0 SE9302950D0 (sv) 1993-09-10
SE9302950L SE9302950L (sv) 1995-03-11
SE501722C2 true SE501722C2 (sv) 1995-05-02

Family

ID=20391056

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE9302950A SE501722C2 (sv) 1993-09-10 1993-09-10 Ytemitterande laseranordning med vertikal kavitet

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5781575A (sv)
EP (1) EP0717883B1 (sv)
JP (1) JPH09502571A (sv)
CA (1) CA2169442A1 (sv)
DE (1) DE69407603T2 (sv)
SE (1) SE501722C2 (sv)
WO (1) WO1995007566A1 (sv)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6243407B1 (en) 1997-03-21 2001-06-05 Novalux, Inc. High power laser devices
FR2761537B1 (fr) * 1997-04-01 1999-06-11 Thomson Csf Laser comprenant un empilement de diodes laser epitaxiees compris entre deux miroirs de bragg
WO1999039405A2 (de) * 1998-01-30 1999-08-05 Osram Opto Semiconductors Gmbh & Co. Ohg Halbleiterlaser-chip
DE19954093A1 (de) * 1999-11-10 2001-05-23 Infineon Technologies Ag Anordnung für Hochleistungslaser
US6816525B2 (en) 2000-09-22 2004-11-09 Andreas Stintz Quantum dot lasers
US7065124B2 (en) * 2000-11-28 2006-06-20 Finlsar Corporation Electron affinity engineered VCSELs
US6905900B1 (en) * 2000-11-28 2005-06-14 Finisar Corporation Versatile method and system for single mode VCSELs
US6782021B2 (en) * 2001-03-02 2004-08-24 Xiaodong Huang Quantum dot vertical cavity surface emitting laser
DE10147353C2 (de) * 2001-09-26 2003-12-18 Infineon Technologies Ag Halbleiterlaser mit mindestens zwei optisch aktiven Bereichen
US6965626B2 (en) * 2002-09-03 2005-11-15 Finisar Corporation Single mode VCSEL
DE10251824A1 (de) * 2002-11-01 2004-05-19 Technische Universität Dresden Optoelektronisches Bauelement zur Erzeugung kohärenter Strahlung im Terahertz-Frequenzbereich
US6813293B2 (en) * 2002-11-21 2004-11-02 Finisar Corporation Long wavelength VCSEL with tunnel junction, and implant
US20040222363A1 (en) * 2003-05-07 2004-11-11 Honeywell International Inc. Connectorized optical component misalignment detection system
US20040247250A1 (en) * 2003-06-03 2004-12-09 Honeywell International Inc. Integrated sleeve pluggable package
US7298942B2 (en) 2003-06-06 2007-11-20 Finisar Corporation Pluggable optical optic system having a lens fiber stop
US7433381B2 (en) 2003-06-25 2008-10-07 Finisar Corporation InP based long wavelength VCSEL
US7054345B2 (en) 2003-06-27 2006-05-30 Finisar Corporation Enhanced lateral oxidation
US7075962B2 (en) * 2003-06-27 2006-07-11 Finisar Corporation VCSEL having thermal management
US7277461B2 (en) * 2003-06-27 2007-10-02 Finisar Corporation Dielectric VCSEL gain guide
US20060056762A1 (en) * 2003-07-02 2006-03-16 Honeywell International Inc. Lens optical coupler
US7210857B2 (en) * 2003-07-16 2007-05-01 Finisar Corporation Optical coupling system
US20050013542A1 (en) * 2003-07-16 2005-01-20 Honeywell International Inc. Coupler having reduction of reflections to light source
US20050013539A1 (en) * 2003-07-17 2005-01-20 Honeywell International Inc. Optical coupling system
US6887801B2 (en) * 2003-07-18 2005-05-03 Finisar Corporation Edge bead control method and apparatus
US7282732B2 (en) * 2003-10-24 2007-10-16 Stc. Unm Quantum dot structures
US7031363B2 (en) * 2003-10-29 2006-04-18 Finisar Corporation Long wavelength VCSEL device processing
US20070130153A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Palm, Inc. Techniques to communicate and process location information from communications networks on a mobile computing device
DE102006010728A1 (de) * 2005-12-05 2007-06-06 Osram Opto Semiconductors Gmbh Halbleiterbauelement und Laservorrichtung
WO2017151846A1 (en) * 2016-03-04 2017-09-08 Princeton Optronics, Inc. High-speed vcsel device
US20210194216A1 (en) * 2019-12-24 2021-06-24 Array Photonics, Inc. Stacked semiconductor lasers with controlled spectral emission

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4316156A (en) * 1979-07-12 1982-02-16 Xerox Corporation Optical repeater integrated lasers
JPS59104189A (ja) * 1982-12-07 1984-06-15 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> 半導体レ−ザ
US4602370A (en) * 1983-05-12 1986-07-22 At&T Bell Laboratories Large optical cavity laser having a plurality of active layers
US4719630A (en) * 1986-03-24 1988-01-12 Xerox Corporation Phased array semiconductor lasers with uniform and stable supermode
US4817103A (en) * 1986-10-06 1989-03-28 University Of Illinois Semiconductor light emitting device with stacked active regions
JPS6395682A (ja) * 1986-10-09 1988-04-26 Mitsubishi Electric Corp 端面発光素子
DE8806828U1 (de) * 1988-05-25 1988-09-01 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Lichtverteiler für eine Röntgendiagnostikeinrichtung
JPH02144983A (ja) * 1988-11-25 1990-06-04 Agency Of Ind Science & Technol 複数の活性層を有する半導体レーザ装置
US4916712A (en) * 1989-07-27 1990-04-10 Mcdonnell Douglas Corporation Optically pumped slab laser
JPH03124067A (ja) * 1989-10-07 1991-05-27 Showa Shell Sekiyu Kk 光起電力装置およびその製造方法
US5115442A (en) * 1990-04-13 1992-05-19 At&T Bell Laboratories Top-emitting surface emitting laser structures
US5052016A (en) * 1990-05-18 1991-09-24 University Of New Mexico Resonant-periodic-gain distributed-feedback surface-emitting semiconductor laser
US5182757A (en) * 1990-09-12 1993-01-26 Seiko Epson Corporation Surface emission type semiconductor laser
US5212706A (en) * 1991-12-03 1993-05-18 University Of Connecticut Laser diode assembly with tunnel junctions and providing multiple beams

Also Published As

Publication number Publication date
DE69407603T2 (de) 1998-04-09
SE9302950D0 (sv) 1993-09-10
SE9302950L (sv) 1995-03-11
EP0717883B1 (en) 1997-12-29
CA2169442A1 (en) 1995-03-16
WO1995007566A1 (en) 1995-03-16
JPH09502571A (ja) 1997-03-11
DE69407603D1 (de) 1998-02-05
EP0717883A1 (en) 1996-06-26
US5781575A (en) 1998-07-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE501722C2 (sv) Ytemitterande laseranordning med vertikal kavitet
DE69827902T2 (de) Optische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
US4870652A (en) Monolithic high density arrays of independently addressable semiconductor laser sources
US5568498A (en) Laser device with laser structures connected in series in an optical cavity
DE69927447T2 (de) Vorrichtung mit einer optischen Funktion und speziellen Verbindungselektroden
US6936486B2 (en) Low voltage multi-junction vertical cavity surface emitting laser
US6570905B1 (en) Vertical cavity surface emitting laser with reduced parasitic capacitance
JP4643776B2 (ja) Vcselおよびvcselアレイ
CN110970797B (zh) 高速高带宽垂直腔表面发射激光器
US10256604B2 (en) Electrically pumped photonic crystal nanolaser
US5373174A (en) Semiconductor light-emitting device
US20090080480A1 (en) Laser-induced optical wiring apparatus
US9048629B2 (en) Semiconductor device having a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) and a protection diode integrated therein and having reduced capacitance to allow the VCSEL to achieve high operating speeds
JP6926541B2 (ja) 半導体レーザ
US6680964B2 (en) Moisture passivated planar index-guided VCSEL
SE501723C2 (sv) Optisk förstärkningsanordning samt användning av anordningen
US5200605A (en) Optically functional device with integral resistance layer
US7120182B2 (en) Densely-packed light emitters with layered semiconductor structure and methods of making the light emitters
JP2953177B2 (ja) マルチビーム半導体レーザ及びその製造方法
EP0499659A1 (de) Oberflächenemittierende Halbleiterlaserarraystruktur mit vertikalem Resonator ohne Substrat
KR100428253B1 (ko) 표면 방출형 반도체 레이저 어레이 및 그의 제조방법
JPS62265786A (ja) 半導体レ−ザ

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed