SA118390415B1 - مضيء خط ليزر لإجراء تسلسل عالي الإنتاجية - Google Patents
مضيء خط ليزر لإجراء تسلسل عالي الإنتاجية Download PDFInfo
- Publication number
- SA118390415B1 SA118390415B1 SA118390415A SA118390415A SA118390415B1 SA 118390415 B1 SA118390415 B1 SA 118390415B1 SA 118390415 A SA118390415 A SA 118390415A SA 118390415 A SA118390415 A SA 118390415A SA 118390415 B1 SA118390415 B1 SA 118390415B1
- Authority
- SA
- Saudi Arabia
- Prior art keywords
- light beam
- line
- light
- light source
- sample
- Prior art date
Links
- 238000012165 high-throughput sequencing Methods 0.000 title description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 48
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 163
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 27
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims description 15
- 238000012163 sequencing technique Methods 0.000 claims description 13
- 241000581364 Clinitrachus argentatus Species 0.000 claims description 7
- 108020004414 DNA Proteins 0.000 claims description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 5
- 230000004224 protection Effects 0.000 claims description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 2
- CBQYNPHHHJTCJS-UHFFFAOYSA-N Alline Chemical compound C1=CC=C2C3(O)CCN(C)C3NC2=C1 CBQYNPHHHJTCJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 241000252073 Anguilliformes Species 0.000 claims 1
- 241000046053 Betta Species 0.000 claims 1
- 101100127891 Caenorhabditis elegans let-4 gene Proteins 0.000 claims 1
- 102000053602 DNA Human genes 0.000 claims 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 claims 1
- 241000976924 Inca Species 0.000 claims 1
- 102100038123 Teneurin-4 Human genes 0.000 claims 1
- 101710122302 Teneurin-4 Proteins 0.000 claims 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 claims 1
- 238000005430 electron energy loss spectroscopy Methods 0.000 claims 1
- 238000000675 plasmon resonance energy transfer Methods 0.000 claims 1
- 201000008827 tuberculosis Diseases 0.000 claims 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 64
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 30
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 29
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 24
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 19
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 17
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 16
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 15
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 14
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 14
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 14
- 230000006870 function Effects 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 239000012472 biological sample Substances 0.000 description 10
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 9
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 7
- 230000002068 genetic effect Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 6
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 5
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 4
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 150000007523 nucleic acids Chemical group 0.000 description 3
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 3
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 3
- 238000001712 DNA sequencing Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 2
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 2
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 2
- 238000012014 optical coherence tomography Methods 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 239000000700 radioactive tracer Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000003325 tomography Methods 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- 108091032973 (ribonucleotides)n+m Proteins 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- 239000004267 EU approved acidity regulator Substances 0.000 description 1
- 241000611421 Elia Species 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 241001435619 Lile Species 0.000 description 1
- 241000234435 Lilium Species 0.000 description 1
- 108091028043 Nucleic acid sequence Proteins 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 208000004880 Polyuria Diseases 0.000 description 1
- 241000452413 Sabra Species 0.000 description 1
- 101150107869 Sarg gene Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 210000004087 cornea Anatomy 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000008451 emotion Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 238000013441 quality evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2383—Parallel arrangements
- H01S3/2391—Parallel arrangements emitting at different wavelengths
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
- C12M1/00—Apparatus for enzymology or microbiology
- C12M1/34—Measuring or testing with condition measuring or sensing means, e.g. colony counters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12Q—MEASURING OR TESTING PROCESSES INVOLVING ENZYMES, NUCLEIC ACIDS OR MICROORGANISMS; COMPOSITIONS OR TEST PAPERS THEREFOR; PROCESSES OF PREPARING SUCH COMPOSITIONS; CONDITION-RESPONSIVE CONTROL IN MICROBIOLOGICAL OR ENZYMOLOGICAL PROCESSES
- C12Q1/00—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions
- C12Q1/68—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions involving nucleic acids
- C12Q1/6809—Methods for determination or identification of nucleic acids involving differential detection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12Q—MEASURING OR TESTING PROCESSES INVOLVING ENZYMES, NUCLEIC ACIDS OR MICROORGANISMS; COMPOSITIONS OR TEST PAPERS THEREFOR; PROCESSES OF PREPARING SUCH COMPOSITIONS; CONDITION-RESPONSIVE CONTROL IN MICROBIOLOGICAL OR ENZYMOLOGICAL PROCESSES
- C12Q1/00—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions
- C12Q1/68—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions involving nucleic acids
- C12Q1/6869—Methods for sequencing
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V13/00—Producing particular characteristics or distribution of the light emitted by means of a combination of elements specified in two or more of main groups F21V1/00 - F21V11/00
- F21V13/02—Combinations of only two kinds of elements
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V19/00—Fastening of light sources or lamp holders
- F21V19/02—Fastening of light sources or lamp holders with provision for adjustment, e.g. for focusing
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V31/00—Gas-tight or water-tight arrangements
- F21V31/04—Provision of filling media
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
- G01N21/0332—Cuvette constructions with temperature control
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/39—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using tunable lasers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
- G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
- G01N21/6456—Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/06—Means for illuminating specimens
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/06—Means for illuminating specimens
- G02B21/08—Condensers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/33—Immersion oils, or microscope systems or objectives for use with immersion fluids
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/39—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using tunable lasers
- G01N2021/392—Measuring reradiation, e.g. fluorescence, backscatter
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
- G01N2021/6417—Spectrofluorimetric devices
- G01N2021/6419—Excitation at two or more wavelengths
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
- G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
- G01N2021/6463—Optics
- G01N2021/6478—Special lenses
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Zoology (AREA)
- Immunology (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Proteomics, Peptides & Aminoacids (AREA)
- Biotechnology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Genetics & Genomics (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
يتعلق الاختراع الحالي بأنظمة تصوير Imaging systems تتضمن عدسة شيئية objective lens (142) ووحدة توليد خط line generation module (LGM). قد تركز العدسة الشيئية (142) شعاع ضوئي light beam أول منبعث من وحدة توليد الخط وشعاع ضوئي ثاني منبعث من وحدة توليد الخط عند نقطة اتصال focal point خارجية لعينة من أجل ضبط عرض الخط. يمكن زيادة عرض الخط لخفض كثافة الطاقة الإجمالية لشعاع ضوئي على سطح العينة بحيث تكون كثافة الطاقة power density للشعاع الضوئي على سطح العينة أقل من الحد الأقصى لتشبع ضوئي photosaturation لصبغة على العينة. شكل1أ
Description
مضيء خط ليزر لإجراء تسلسل عالي الإنتاجية LASER LINE ILLUMINATOR FOR HIGH THROUGHPUT SEQUENCING الوصف الكامل
خلفية الاختراع
تستند عناصر حماية هذا الطلب إلى البراءة المؤقتة من الولايات المتحدة رقم 468¢883/62 الذي
تم إيداعه في 8 مارس 2017 بعنوان 'مضيء خط ليزر Laser Line Illuminator لإجراء تسلسل
عالي Cali) والذي تم تضمينه هنا بالرجوع في مجمله. يستفيد الطلب الحالي أيضا من رقم
طلب براءة الاختراع الهولندية ن2018855 الذي تم إيداعه في 5 مايو 2017 تحت عنوان
'مضيء خط ليزر لإجراء تسلسل Me الإنتاجية".
تميل أدوات التحليل البصري البيولوجية «Biological optical analysis instruments مثل أجهزة
إجراء التسلسل الجيني «genetic sequencers أن تشمل مكونات متعددة قابلة للتكوين» لكل منها
درجات متعددة من الحرية. قد أدى زيادة تعقيد الأدوات البيولوجية للتحليل البصري تلك إلى زيادة 0 التصنيع وحسابات التشغيل. عموماء؛ هذه الأنواع من الأدوات تستفيد من المحاذاة الدقيقة للعديد من
المكونات البصرية الداخلية «internal optical components في بعض أجهزة إجراء التسلسل
الجيني؛ على سبيل المثال؛ يتم محاذاة المكونات الداخلية عموما ضمن التحمل الدقيق. تنطوي
العديد من تقنيات تصنيع هذه الأدوات على تثبيت جميع المكونات على لوحة الدقة precision
eplate من ثم تكوين ومحاذاة كل مكون. قد تتغير محاذاة المكونات أثناء الشحن أو الاستخدام. 5 على سبيل (JU تغييرات درجة الحرارة قد تغير من المحاذاة. إعادة محاذاة كل مكون يتطلب
الوقت والمهارة. في بعض الأمثلة؛ قد يكون هناك أكثر من 30 درجة كاملة من all المتاحة في
جميع المكونات وبتفاعلوا مع بعضهم البعض. عدد كبير من درجات الحرية تعقد المحاذاة والتكوين
وتضيف الوقت والنفقات لتشغيل النظام. يمكن تبسيط عملية التصنيع وتلفيق لأجهزة إجراء التسلسل
الضوئية Optical sequencers عن طريق خفض درجات الحرية المتاحة عبر جميع مكونات النظام 0 من خلال بنية نموذجية.
يمكن لأجهزة إجراء التسلسل الضوئية استخدام إضاءة خط الليزر Taser line للكشف وإجراء تسلسل
للعينة البيولوجية biological sample على سبيل المثال؛ إضاءة خط الليزر عالي الانتاجية قد
تمكن من المسح scanning باستخدام مستشعر sensor تكامل تأخير زمني | time delay
(TDI) integration للكشف عن انبعاثات فلورية fluorescence emissions من عينة خلية التدفق sample floweell يمكن استخدام الانبعاثات المكتشفة لتحديد وإجراء تسلسل المكونات الجينية genetic components للعينة البيولوجية. مع ذلك؛ في سرعات المسح العالي و/أو قوى إنتاج اللبزر laser output powers قد تتأثر وظائف التشبع الضوئي photo-saturation للفلوروفورات fluorophores 5 و/أو تببيض الصورة للفلوروفورات» و/أو الأضرار الناجمة عن الصورة للعينة. يمكن أيضا أن يسبب الليزر عالي الطاقة High power lasers ضرراً للعدسة الشيئية cobjective lens
La في ذلك لاصقة الترابط cbonding adhesive والطلاء والزجاج. تتعلق البراءة الأمريكية 20140204389 1 بجهاز تصوير شعاعي طبقي optical tomograph وطريقة تصوير شعاعي طبقي optical tomographic method وبصفة خاصة تتعلق بتقنية 0 تصوير شعاعي طبقي Allg optical tomographic technique تستعرض توزيع اتجاه التصوير الشعاعي الضوئي optical tomographic direction لعنصر قيد الاختبار. التصوير الشعاعي الطبقي الضوئي المتسق (OCT) Optical coherence tomography الذي يُشكل صور توضح شكل محيطي وشكل داخلي لجسم تم قياسه باستخدام أشعة ضوء من ليزر وأخرى تجذب الانتباه. حيث لا يكون للتصوير الشعاعي الطبقي الضوئي المتسق أي خطورة على جسم الإنسان بخلاف التصوير الشعاعي (CT) coherence tomography بأشعة ك,؛ من المتوقع بصورة خاصة تطور التطبيق والاستخدام بالمجال الطبي والبيولوجي. على سبيل المثال؛ بمجال طب العيون» تم
الوصول إلى الوسيلة التي تُشكل صور لقاع العين» القرنية وأخرى. تتعلق البراءة الأمريكية 20160000535 1 بجهاز لتحديد طوبوغرافية سطح ذو هيكل ثلاثي الأبعاد. قد يتضمن الجهاز مسبار probe ووحدة إضاءة illumination unit مهيأة لإخراج مجموعة 0 من أشعة الضوء Light beams بالعديد من التجسيدات؛ يتضمن الجهاز تجمعية تركيز بؤري light focusing assembly egal قد تستقبل تجمعية التركيز البؤري للضوء وتركز كل مجموعة من أشعة الضوء على نقطة بؤرية خارجية external focal point محددة. قد يتم تهيئة تجمعية التركيز البؤري للضوء لتقوم بتراكب المجموعة من أشعة الضوء بداخل تجمعية تغيير التركيز البؤري focus changing assembly يتم تحريك النقاط البؤرية الخارجية بطول اتجاه بث أشعة 5 الضوء. قد يتضمن الجهاز مكشاف به مصفوفة من عناصر استشعار sensing elements مهيأة لقياس خصائص كل من المجموعة من أشعة الضوء المرتدة من البقع الضوثئية illuminated spots
ومُعالج processor مقترن بالمكشاف ومهياً لتوليد بيانات دالة على طوبوغرافية الهيكل اعتماداً على
الخصائص التي تم قياسها.
الوصف العام للاختراع
تصف التطبيقات المختلفة للتكنولوجيات التي تم الكشف عنها هناء أنظمة التصوير imaging
systems 5 بما في ذلك العدسة الشيئية ووحدة توليد الخط cline generation module بحيث يتم
تكوين نظام التصوير imaging system لضبط عرض الخطوط المنبعثة من وحدة توليد الخط على
سطح العينة البيولوجية.
في أحد الأمثلة؛ يتضمن نظام التصوير: وحدة توليد الخط والعدسة الشيئية. تشمل وحدة توليد الخط
مصدر الضوء الأول المنبعث منه الشعاع الضوئي light beam الأول في الطول الموجي wavelength 0 الأول ؛ مصدر الضوء الثاني المنبعث منه الشعاع الضوئي الثاني في الطول الموجي
الثاني؛ وواحد أو أكثر من خطوط تشكيل البصريات line forming optics لتشكيل الشعاع الضوئي
المنبعث من مصدر الضوء الأول في الخط والشعاع الضوئي المنبعثين من مصدر الضوء الثاني
في الخط. في هذا المثال؛ يتم تكوين الهدف لتركيز الشعاع الضوئي الأول والشعاع الضوئي الثاني
في نقطة بؤرية focal point خارجية لعينة لهيكل أخذ العينات .sampling structure الشعاع الضوئي الأول والشعاع الضوئي الثاني في النقطة البؤرية الخارجية لعينة لهيكل أخذ العينات.
في مثال واحد؛ يتضمن هيكل أخذ العينات: ركيزة substrate لوحة غلاف cover plate وممر
سائل liquid passage بين لوحة الغلاف والركيزة. في هذا (JU يتضمن الممر السائل سطح
داخلي علوي وسطح داخلي سفلي؛ وتقع العينة على السطح الداخلي العلوي أو في السطح الداخلي
السفلي للممر السائل. قد تكون النقطة البؤرية أسفل السطح الداخلي السفلي للممر السائل لزيادة 0 عرض خط الشعاع الضوئي الأول وعرض خط الشعاع الضوئي الثاني على السطح الداخلي
العلوي لهيكل أخذ العينات. بدلا من ذلك؛ يمكن أن تكون النقطة البؤرية فوق السطح الداخلي
السفلي للممر السائل لزيادة عرض الشعاع الضوئي الأول وعرض خط الشعاع الضوئي الثاني
على السطح الداخلي العلوي لهيكل أخذ العينات.
في بعض التطبيقات؛ يتم مزج هيكل أخذ العينات بشكل منفصل مع نظام التصوير. في تطبيق معين؛ يكون هيكل أخذ العينات هو خلية التدفق.
في تطبيقات معينة؛ تكون النقطة البؤرية بين حوالي 50 ميكرومتر وحوالي 150 ميكرومتر تحت
السطح الداخلي السفلي لهيكل أخذ العينات. بدلا من ذلك؛ تكون النقطة البؤرية بين حوالي 50
ميكرومتر وحوالي 150 ميكرومتر فوق السطح الداخلي السفلي لهيكل أخذ العينات.
في إحدى التطبيقات يتضمن نظام التصوير مستشعر تكامل تأخير زمني للكشف عن انبعاثات
فلورية من العينة. في تطبيقات معينة؛ يكون لمستشعرات sensors تكامل التأخير الزمني حجم بكسل بين حوالي 5 ميكرومتر وحوالي 15 ميكرومتر؛ وعرض المستشعر بين حوالي 0.4 مم
وحوالي 0.8 مم؛ وطول المستشعر بين حوالي 16 مم وحوالي 48 مم.
في أحد التطبيقات» عرض خط الشعاع الضوئي الأول وعرض خط الشعاع الضوئي الثاني بين
حوالي 10 ميكرومتر وحوالي 30 ميكرومتر. في تطبيق آخرء طول خط الشعاع الضوئي الأول
وطول خط الشعاع الضوئي الثاني بين حوالي 1 مم وحوالي 1.5 مم.
0 في أحد التطبيقات؛ يتضمن واحد أو SST من بصريات اتساع الخط line widening optics في الاتساع عدسة التباين defocus lens أو المنشور prism أو الناشر ©©010005. في تطبيق معين»؛ واحد أو أكثر من بصريات اتساع الخط تشمل عدسة بوال Powell lens التي تم وضعها بعد عدسة التباين في المسار البصري optical path من مصادر الضوء إلى العدسة الشيئية. في بعض التطبيقات؛ يزداد عرض خط الشعاع الضوئي الأول لخفض كثافة الطاقة power
density 5 الإجمالية للشعاع الضوئي الأول على سطح العينة بحيث تكون كثافة طاقة الشعاع الضوئي الأول على سطح العينة تحت الحد الأقصى للتشبع الضوئي photosaturation للصبغة الأولى على العينة؛ ويتم زيادة عرض خط الشعاع الضوئي الثاني لخفض ككثافة الطاقة الإجمالية للشعاع الضوئي الثاني على سطح العينة بحيث تكون كثافة الطاقة من الشعاع الضوئي الثاني على سطح العينة أقل من الحد الأقصى للتشبع الضوئي للصبغة الثانية على Aad)
0 في بعض التطبيقات؛ يتضمن نظام التصوير المرحلة 7 لتوضيح الهدف لضبط عرض خط الشعاع الضوئي الأول وضبط عرض خط الشعاع الضوئي الثاني. في مزيد من التطبيقات؛ يشتمل نظام التصوير على المعالج processor ووسط لقراءة كمبيوتر غير عابر non-transitory computer readable medium مع تعليمات كمبيوتر قابلة للتنفيذ متضمنة فيه؛ تم تكوين تعليمات الكمبيوتر القابلة للتنفيذ لتسبب النظام إلى: تحديد نوعية إشارة من مستشعر تكامل تأخير زمني؛ وتوضيح
5 الهدف في محور 7 لضبط نقطة بؤرية وتحسين نوعية الإشارة من مستشعر تكامل تأخير زمني. في مثال آخرء يتضمن نظام إجراء تسلسل الحمض النووي على: وحدة توليد خط وعدسة شيئية.
في هذا (Jha) قد تشمل وحدة توليد الخط على: عدد وافر من مصادر الضوء؛ كل مصدر ضوء ينبعث منه شعاع ضوئي؛ واحد أو أكثر من خطوط تشكيل البصريات لتشكيل كل شعاع ضوئي؛ والعدسة الشيئية أو واحد أو أكثر من خطوط تشكيل البصريات لزيادة عرض كل خط على السطح الأول أو الثاني من خلية التدفق.
في تطبيق على هذا (Jal) تكون العدسة الشيئية لتركيز كل شعاع ضوئي على النقطة البؤرية الخارجية للسطح الداخلي من خلية التدفق؛ وذلك لزيادة عرض كل خط في السطح الأول أو السطح الثاني من خلية التدفق. قد تكون النقطة البؤرية بين حوالي 50 ميكرومتر وحوالي 150 ميكرومتر تحت السطح الداخلي السفلي من خلية التدفق أو بين حوالي 50 ميكرومتر وحوالي 150 ميكرومتر فوق السطح الداخلي العلوي من خلية التدفق.
0 في بعض التطبيقات؛ تم تصميم العدسة الشيئية لنظام التصوير لتكون متقارية بشكل بسيط للتركيز على ضوءٍ الليزر المصقفول collimated laser light لمسافة تتراوح بين حوالي 50 وحوالي 150 ميكرومتر تحت سطح التصوير .imaged surface في بعض التطبيقات؛ توفر وحدة توليد الخط إضاءة خط موحد uniform line بنسبة العرض إلى الارتفاع المطلوية باستخدام عدسة بوال أو بصربات أخرى لتشكيل الشعاع. يمكن تكوين النظام
5 لضبط النقطة البؤرية المحدودة الانعكاسية diffractive limited focal point بصريا على السطح الشيئي (على سبيل (JU أسطح خلية التدفق (floweell surfaces من خلال ضبط النقطة البؤرية فوق أو أسفل أسطح خلية التدفق؛ يمكن زيادة عرض سقوط الشعاع على أسطح خلية التدفق؛ ويمكن خفض طاقة كثافة الليزر laser power intensity في العينة وخلية التدفق. يمكن السيطرة على كثافة الطاقة أدناه أو بالقرب من التصوير الضوئي للكشف عن العينة الوراثية
genetic sample 0 (على سبيل المثال» الحمض النووي» الحمض النووي الريبوزي متعم cribonucleic أو الكشف عن عينة أخرى)؛ في حين تستمر بتحمل تكامل مستشعر تكامل تأخير زمني على الضوضاء والسرعة. في بعض التطبيقات؛ تجميع مكونات وحدات النظام التحليل البصري modular optical analytic system في التجمعات الفرعية التركيبية «modular sub-assemblies ومن ثم تثبيت التجمعات الفرعية التركيبية على لوحة الدقة أو بنية مستقرة أخرى قد تقلل نسبياً من
5 الحربة وتبسيط نظام الصيانة عموما. على سبيل المثال» في إحدى التطبيقات؛ يمكن أن يشتمل نظام التحليل البصري المعياري على
مجموعات من المكونات المجمعة في أريع تجمعات فرعية تركيبية. قد تشمل التجمع الفرعي التركيبي الأول عدد وافر من الليزر وبصريات الليزر laser optics المقابلة المجمعة معا في وحدة توليد الخط. يمكن أن يشتمل التجميع الفرعي التركيبي الثاني على العدسات؛ والضبط؛» وتصفية البصريات المجمعة في وحدة الاتنبعاثات البصرية .(EOM) emission optics module قد يشمل التجميع الفرعي التركيبي الثالث مستشعرات الكاميرا camera sensors الميكانيكا الضوئية optomechanics المقابلة المجمعة في وحدة الكاميرا (CAM) camera module يمكن أن يشمل التجميع الفرعي التركيبي الرابع مستشعرات تتبع التركيز focus tracking sensors والبصريات المجمعة في وحدة تتبع التركيز .(FTM) focus tracking module في بعض التطبيقات؛ قد تتجمع مكونات النظام في تجميعات فرعية تركيبية مختلفة. يمكن تجميع المكونات في عدد أقل أو أكبر 0 من التجميعات الفرعية تبعا للتطبيقات المحددة وخيارات التصميم. قد تكون كل وحدة تجميع فرعية مركبة مسبقا من خلال دمج المكونات الفردية على لوحة التركيب mounting plate أو المغلف ومحاذاة وتهيئة المكونات داخل وحدات التجميع الفرعي على dng التحديد للتحملات المحددة سلفا. قد تكون كل وحدات التجميع الفرعية مصنعة لتقليل درجات الحرية؛ بحيث يمكن نقل المكونات الرئيسية فقط في اتجاه واحد أو SST أو التدوير؛ للتمكين من محاذاة الدقة. 5 في بعض التطبيقات؛ وحدة توليد الخط يمكن تكوينها مسبقا على مقعد تجميع assembly bench وحدة توليد الخط المصمم بواجهة وبصريات دقيقة. يمكن أن يشمل المقعد التجميعي لوحدة توليد خط العدسة الشيئية التجميعية cassembly objective lens أداة تعريف الشعاع «beam profiler أهداف المحاذاة»؛ المخفف cattenuator لوحة الدقة ومراحل الترجمة. قد تتجمع مجال رؤية العدسة الشيئية؛ والبعد البؤري focal length ومسافة العمل التي تكون أكبر من وحدة الانبعاثات البصرية 0 على نظام البصريات التركيبي optics system <07ل000٠؛ لتمكين المحاذاة الأولية لوحدات الليزر laser modules والبصريات الداخلية لوحدة توليد الخط. قد تكون أداة تعريف الشعاع هي مستشعر تصوير imaging sensor ثنائي الأبعاد للكشف عن شدة الشعاع والإبلاغ عنه في مختلف المواقع المستهدفة locations :18:86. يمكن أن تشمل محاذاة الشعاع تحسين موقع الشعاع؛ وكثافته؛ وتوجيه اتجاهه في هذه المواقع المستهدفة من خلال التلاعب بمختلف البصريات الداخلية و/ أو 5 المرايا داخل وحدة توليد الخط. قد يكون التلاعب في مختلف المكونات البصرية الداخلية وتقييم الليزر باستخدام أداة تعريف الشعاع؛ عملية تلقائية أو عملية ogy
قد يتضمن النظام أيضا لوحة تركيب دقيقة precision mounting plate قد تكون لوحة التركيب الدقيقة مصنعة مع أسطح المحاذاة alignment surfaces مثل تركيب دبابيس؛ الأخاديد cgrooves الفتحات؛ الحلقات؛ العلامات؛ المغناطيس»؛ معلومات الأسطح؛ كرات الأدوات؛ أو غيرها من الأسطح المصممة لقبول وتركيب كل الوحدات المجمعة سابقة التجهيز واختبارها في الموقع المطلوب. قد تشتمل لوحة التركيب الدقيقة على بنية مسطحة oflat structures أو بنية غير مسطحة cnon-flat structures أو بنية صلبة؛ أو بنية مجوفة chollow structures أو بنية Lilies أو متشابكة؛ أو أنواع أخرى من بنيات التركيب الصلبة mounting structures لعل كما هو معروف في الفن. في بعض الأمثلة؛ تتضمن أو تقترن لوحة التركيب الدقيقة في تكوينها بحركة تجميع للحفاظ على سطح تركيب مستوٍ level mounting surface وتخفيف الاهتزاز. قد تشمل
0 المرحلة تجميع المحركات actuators للتحكم في سطح تحكم control surface واحد أو ST من الأهداف البصرية لتوفير تقييم لمحاذاة التجميعات الفرعية التركيبية Jie) وحدة الانبعاثات البصرية ووحدة الكاميرا)» على سبيل المثال»؛ لإعادة تركيب واحد أو أكثر من المكونات البصربة أو المستشعرات ضمن التحمل المحدد سلفا. يمكن لهذه الأجهزة تحريك خطوط الإضاءة illumination lines بدقة في مجال الرؤية من نظام التصوير الضوئي؛ في الحركات المتدرجة أو المستمرة.
5 قد يتضمن تجميع نظام التحليل الضوئي التركيبي تركيب كل وحدات التجميع الفرحي على لوحة التركيب الدقيقة وإجراء محاذاة نهائية باستخدام واحد أو أكثر من تعديلات التحكم. في بعض الأمثلة. يمكن تخفيض نظام التحليل الضوئي مع أكثر من 30 درجة من الحرية عبر كل من مكوناته إلى نظام وحدات التحليل الضوئي مع أقل من 10 درجة من الحرية عبر كل من مكوناته؛ حيث يتم تجميع المكونات في مرحلة ما قبل تكوين الوحدات الفرعية. يمكن اختيار هذه الدرجات
0 المتبقية من الحرية لتحسين التحمل بين عناصر المحاذاة دون تنفيذ عمليات محاذاة alignment processes نشطة أو متكررة. في بعض التطبيقات؛ يمكن تشغيل واحد أو أكثر من تعديلات التحكم داخل واحد أو HIST من وحدات التجميعات الفرعية باستخدام واحد أو أكثر من المحركات المقابلة التي تم تركيبها في التجميعات الفرعية. يمكن تكوين المستشعرات و/أو كاشفات detectors داخل واحد أو أكثر من التجميعات الفرعية
5 التركيبية (مثل وحدة الكاميرا أو وحدة تتبع التركيز) لنقل البيانات إلى جهاز كمبيوتر» يتضمن هذا الكمبيوتر تعليمات مخزنة ALE للقراءة. قد يتم تكوين البرنامج لمراقبة أداء النظام (JB على
سبيل JU من خلال كشف وتحليل تركيز الأشعة؛ والشدة؛ والشكل. في بعض الأمثلة؛ قد
يتضمن النظام هدفاً بصرياً Liga لعرض أنماط محددة للمحاذاة وأداء كل تجميع فرعي تركيبي. قد
تشير البرنامج بعد ذلك عبر واجهة مستخدمة بيانية عند تشغيل التجميع الفرعي التركيبي المعين
دون المستوى الأمثل والتوصية بتعديل حلقة مفتوحة أو تنفيذ مسار عمل حلقة مغلقة لتصحيح
المشكلة. على سبيل المثال؛ قد يتم تكوين البرنامج لنقل الإشارات إلى المحركات لإعادة وضع
مكونات المحددة ضمن التحمل المحدد سلفاً؛ أو قد يوصي ببساطة بتبادل التجميع الفرعي التركيبي
الأقل أداء. قد يتم تشغيل البرنامج محلياً أو عن بعد عبر واجهة الشبكة؛ مما يتيح تشخيص وضبط
النظام عن بعد system 16010160.
ستظهر مميزات وجوانب أخرى من التكنولوجيا الموضحة بالوصف التفصيلي التالي؛ التي تم 0 رصدها بالاقتران مع الرسومات المصاحبة؛ والتي توضح؛ على سبيل المثال؛ السمات وفقا لأمثلة
التكنولوجيا الموضحة. وليس المقصود من الملخص أن يحد من نطاق أي اختراعات موصوفة هناء
والتي تحددها عناصر الحماية وما يعادلها.
من المفيد أن تكون جميع مجموعات المفاهيم السابقة الذكر (شريطة أن تكون هذه المفاهيم غير
متناسقة) جزءا من الموضوع الابتكاري الموضح هنا. على day الخصوص؛ فإن جميع مجموعات 5 المواضيع المطالب بحمايتها التي تظهر في نهاية هذا الكشف تعتبر جزءاً من الموضوع الابتكاري
الموضح هنا.
شرح مختصر للرسومات
يتم وصف التكنولوجيا المبينة هناء وفقا لواحد أو HAST من التطبيقات؛ بالتفصيل مع الإشارة إلى
الأشكال التالية. يتم توفير هذه الأشكال لتسهيل فهم القارئ للتكنولوجيا وتوضيحها؛ وليس المقصود Lesa 0 أن تكون شاملة أو تقيد من الكشف عن الأشكال المحددة. الواقع أن الرسومات الواردة في
الأشكال تقدم لأغراض التوضيح فقطء وتصور مجرد تطبيقات نموذجية أو أمثلة للتكنولوجيا
الموضحة. وعلاوة على ذلك؛ تجدر الإشارة إلى أنه من أجل التوضيح وسهولة التصويرء لم يتم
استخلاص العناصر الواردة في الأشكال.
الشكل 1أ يوضح مخطط كتلي عام لمثال نظام مسح للصور image scanning system مع 5 الأنظمة والأساليب التي تم توضيحها هنا والتي يمكن تنفيذها.
الشكل ol هو مخطط لمظهر عرضي يوضح مثالا لنظام تحليل بصري نموذجي وفقا للتطبيقات
الموضحة.
الشكل 1ج هو مخطط لمظهر عرضي يوضح مثال للوحة تركيب دقيقة وفقا للتطبيقات الموضحة.
الشكل 1د يوضح مخططا كتلي من نظام تحليل بصري تركيبي مع التطبيقات الموضحة.
الشكل 1ه يوضح مثال مظهر منظوري لنظام تحليل ضوئي تركيبي؛ بما يتفق مع عمليات
التطبيق الموضحة هنا.
الشكل gl يوضح مخططا جماعيا لنظام محاذاة alignment system وحدة توليد الخط؛ بما يتماشى
مع التطبيقات الموضحة هنا.
الشكل 51 يوضح مظهر منظوري لنظام محاذاة وحدة توليد Lay chal) يتفق مع التطبيقات
الموضحة هنا. 0 الشكل 1ح مظهر علوي سفلي لنظام تحليل ضوئي تركيبي بما يتماشى مع التطبيقات الموضحة
هنا.
الشكل Lal يوضح مظهر جانبي لنظام تحليل ضوئي تركيبي بما يتماشى مع التطبيقات الموضحة
هنا.
الشكل 1 يوضح مخططا مغلقا لوحدة توليد الخط؛ء وعدسة الشيئية؛ وخلية تدفق؛ Lay يتماشى مع 5 التطبيقات الموضحة هنا.
الشكل 1ك يوضح مخططا مغلقا لنظام وحدة توليد الخط ووحدة انبعاثات البصرية يتم استخدامها
لعدم تركيز نمط خط الليزر على خلية تدفق لتجنب تشبع الصورة وتبييض الصور؛ بما يتماشى مع
التطبيقات الموضحة هنا.
الشكل 2 يوضح مظهر لمخطط عرضي ils لوحدة الانبعاث البصرية وفقا للتطبيقات الموضحة هنا.
الشكل 2ب هو مخطط علوي سفلي لوحدة انبعاثات بصرية وفقا للتطبيقات الموضحة هنا.
الشكل 13 هو مظهر مخطط خلفي يوضح وحدة تتبع تركيز وفقا للتطبيقات الموضحة هنا.
الشكل 3ب هو مظهر لمخطط جانبي يوضح وحدة تتبع تركيز وفقا للتطبيقات الموضحة هنا.
الشكل 3ج هو مخطط مظهر علوي سفلي يوضح وحدة تتبع تركيز وفقا للتطبيقات الموضحة هنا. 5 الشكل 1 هو مخطط مظهر جانبي يوضح مثالا نموذجيا لنظام التحليل البصري وفقا للتطبيقات
الموضحة هنا.
الشكل 4ب هو مخطط كتلي يوضح تشكيل نموذجي لتجميع فرعي لعدسة أنبوبية tube lens لوحدة انبعاثات بصربة؛ وفقا للتطبيقات الموضحة هنا. الشكل 4ج هو مخطط كتلي يوضح مثالا AT لتكوين تجميع فرعي لعدسة الأنبوبية لوحدة انبعاثات بصربة؛ وفقا للتطبيقات الموضحة هنا. الشكل 5 هو مخطط مظهر جانبي يوضح وحدة تتبع التركيز و وحدة الانبعاثات البصرية مع التطبيقات الموضحة هنا. الشكل 5ب هو مخطط مظهر علوي سفلي يوضح مثالا لوحدة تتبع التركيز ووحدة lla) بصرية وفقا للتطبيقات الموضحة هنا. الشكل 6. هو مخطط مظهر جانبي يوضح وحدة توليد الخط ووحدة انبعاثات بصرية وفقا 0 للتطبيقات الموضحة هنا. الشكل 7. هو مخطط مظهر علوي سفلي يوضح وحدة توليد الخط ووحدة انبعاثات بصرية وفقا للتطبيقات الموضحة هنا. الشكل 8. هو مخطط يوضح مثالا على عملية تركيب وتكوين نظام تحليل بصري تركيبي وفقا للتطبيقات الموضحة هنا. 5 الشكل 9. هو مثال لمحرك الكومبيوتر computing engine الذي يمكن استخدامه كسمات تطبيق مختلفة لتنفيذ التكنولوجيا الموضحة. ينبغي أن نفهم أن التكنولوجيا الموضحة هنا يمكن أن تطبق بالتعديل والتحويل؛ وأن تقتصر التكنولوجيا الموضحة على عناصر الحماية ومكافئات منها. 0 الوصف التفصيلي: كما هو مستخدم هناء يقصد بمصطلح " المستوى xy منطقة ثنائية الأبعاد تحددها محاور الخط المستقيم y gx (وفقا لنظام الإحداثيات الديكارتي (Cartesian coordinate system عندما تستخدم في إشارة إلى كاشف detector والهدف الملاحظ من قبل الكاشف؛ يمكن تحديد المنطقة كذلك باعتبارها متعامدة مع اتجاه المراقبة بين الكاشف والهدف الذين يتم الكشف عنهم. عند استخدامه 5 للإشارة إلى خط الماسح الضوئي cline scanner يشير مصطلح "تجاه 7" إلى اتجاه المسح. كما هو مستخدم هناء يقصد بمصطلح "اتجاه 2" أو " محور > " تحديد اتجاه أو محور متعامد مع
منطقة الهدف المراقبة بواسطة كاشف. على سبيل المثال» يمكن تحديد اتجاه تركيز النظام البصري على طول المحور 2. بعض التطبيقات الموضحة هنا توفر النظام البصري التركيبي؛ مثل الذي يمكن استخدامه لتحليل العينات البيولوجية .biological samples تتيح التطبيقات الأخرى الموضحة هنا طرقا لتجميع وتركيب الأنظمة البصرية modular optical systemsdanS All لتحليل العينات البيولوجية. قد يكون أحد هذه الأنظمة البصرية؛ أو قد يكون جزءا من أجهزة إجراء التسلسل الجيني. يمكن استخدام أجهزة sha) تسلسل الحمض النووي؛ الحمض النووي الرببوزي؛ أو العينات البيولوجية أخرى. تعمل بعض أدوات إجراء التسلسل الجيني من خلال التركيز على مصادر الضوء المتماسكة أو غير المتماسكة التي تعمل في أطوال موجية wavelengths مختلفة من خلال البصريات الداخلية وعلى 0 العينة. تتألق القاعدة الزوجية الموجودة في العينة ثم يتم عودة الضوء خلال بصريات Heal إجراء التسلسل وعلى جهاز الاستشعار البصري coptical sensor والذي يمكنه بعد ذلك الكشف عن أنواع القاعدة الزوجية الحالية. تعتمد هذه الأنواع من الأجهزة على المحاذاة الدقيقة وضبط البصريات الداخلية lly تكون حساسة للاتحراف أو عدم محاذاة المكونات الناجمة عن التأثيرات الحرارية على سبيل المثال؛ hall) الناتجة عن مصادر squall والالكترونيات)؛ وكذلك الأثار الميكانيكية مثل الاهتزازات أو الاتصال العرضي من المستخدمين. تتناول عمليات الكشف الحالية هذه (SLAY وتكاليف التركيب والصيانة المرتبطة بهاء من خلال منهج معياري. قد تكون مجموعة من الوظائف البصرية ذات الصلة تم إعدادها مسبقاء وتم اختبارهاء ومحاذاتها كوحدات تجميعات فرعية. يمكن معالجة كل تجميع فرعي تركيبي بعد ذلك كوحدة قابلة للاستبدال الحقلي field (FRU) replaceable unit يمكن تركيبها ومحاذاتها مع التجميعات الفرعية التركيبية GAY) في 0 النظام عن طريق تركيب التجميع الفرعي على لوحة محاذاة دقيقة precision alignment plate بعض التطبيقات الموضحة توفر نظاما يتضمن عدد وافر من التجميعات الفرعية التركيبية و لوحة التركيب الدقيقة أو تتضمن كل تجميع فرعي تركيبي عدد وافر من المكونات البصرية المحاذية للمغلف. يمكن أن يشمل المغلف عدد وافر من بنيات التركيب الدقيقة precision mounting estructures ويمكن أن يقترن كل تجميع فرعي تركيبي بشكل ميكانيكي بلوحة التركيب الدقيقة؛ 5 بحيث تريط كل بنية التركيب الدقيقة من التجميع الفرعي التركيبي المباشر مع بنية التركيب الدقيقة المقابلة الموجودة على لوحة التركيب الدقيقة أو التجميع الفرعي التركيبي المجاور. في بعض
الأمثلة؛ تشتمل وحدة توليد الخط على مصدر الضوء الأول الذي يعمل عند الطول الموجي الأول؛ ومصدر الضوء الثاني الذي يعمل في الطول الموجي الثاني» وتشكل عدسة تشكيل الشعاع beam shaping lens على زاوية محددة سابقا لكل مصدر ضوئي. على سبيل المثال؛ قد يكون الطول الموجي الأول هو طول موجي أخضرء وقد يكون الطول الموجي الثاني هو طول age أحمر. قد تكون عدسة تشكيل الشعاع هي عدسة بوال. في بعض التطبيقات؛ قد تشتمل وحدة البصريات الضوئية على عدسة شيئية مقترنة بصريا بوحدة توليد الضوء؛ وعدسة أنبوبية مقترنة بصريا بالعدسة الشيئية. تركز العدسة الشيئية على خلية التدفق الموضوعة على مسافة محددة سابقا من خلية التدفق. قد يتضح الهدف على طول المحور الطولي dlongitudinal axis وقد تشمل العدسة الأنبوبية مكون عدسة lens component الذي يكون أيضا 0 على طول المحور الطولي داخل عدسة duel) لضمان التصوير الدقيق. على سبيل المثال؛ قد يتحرك مكون العدسة للتعويض عن الانحراف الكروي spherical aberration الناجم عن التعبير عن الهدف لصورة سطح واحد أو أكثر من خلية التدفق. في بعض AY) يمكن أن تشتمل خلية التدفق على لوحة غطاء شفافة «translucent cover plate وركيزة؛ ووسائل محصورة بين بعضها «and وقد توجد عينة بيولوجية على السطح الداخلي للوحة 5 الغطاء الشفافة أو السطح الداخلي للركيزة. على سبيل المثال؛ قد تشمل العينة البيولوجية الحمض الرربوزي النووي المنزوع الأكسجين ٠ الحمض النووي الريبوزي »٠ أو مادة جينية genomic material أخرى قد يتم إجراء تسلسل لها. قد تشتمل وحدة تتبع التركيز على مصدر ضوء تتبع التركيز البؤري focus tracking light ومستشعر تتبع التركيز tracking sensor 0005)؛ بحيث يمكن لمصدر الضوء أن يولد شعاع ضوئيء Jing الشعاع الضوئي من خلال تعدد المكونات البصرية بحيث تنتهي أشعة الضوء عند تتبع التركيز البؤري لجهاز الاستشعار. يمكن أن يقترن مستشعر تتبع التركيز على نحو تعاوني بمعالج ووسط لقراءة كمبيوتر غير عابر مع تعليمات يمكن قراءتها آليا. قد تؤدي الإرشادات التي يمكن قراءتها آلياء عند تنفيذهاء إلى تلقي المعالج إشارة ناتجة من مستشعر تتبع التركيز البؤري وتحليل الإشارة الناتجة لتحديد مجموعة من خصائص الأشعة الضوئية. في بعض ALY) تؤدي 5 الإرشادات التي يمكن قراءتها آلياء عند تنفيذهاء إلى زيادة توليد المعالج لإشارة التقييم التي تشير إلى ضرورة sale) تشكيل واحد أو أكثر من المكونات البصرية لتحسين مجموعة خصائص الأشعة
الضوئية. قد تكون واحد أو أكثر من وحدات التجميع الفرعية هي وحدات قابلة للاستبدال في الحقل. يمكن أن تشتمل بنيات التركيب الدقيقة على فتحة أو مسند أو علامة Cosi أو دبوس أو تجويف راحة recessed cavity أو بنيات تركيب ميكانيكية mechanical mounting structures أخرى كما هو معروف في الفن أو أي مزيج منها.
في بعض الأمثلة؛ تتضمن وحدة الكاميرا عدد وافر من المستشعرات البصرية coptical sensors وتحتوي وحدة توليد الضوء على عدد ily من مصادر cop حيث يمكن أن يكون كل مستشعر بصري optical sensor موجه لاستقبال وكشف الشعاع الضوئي من مصدر الضوء المقابل. قبل وصف مختلف تطبيقات الأنظمة والأساليب التي تم الكشف عنها هناء من المفيد وصف بيئة نموذجية يمكن بها تنفيذ الأنظمة والأساليب. من الأمثلة على ذلك بيئة النظام البصري؛ مثل تلك
0 الموضحة في الشكل 1أ. قد يشتمل النظام البصري النموذجي على جهاز للحصول على صورة للمنطقة أو إنتاجها. المثال الموضح في الشكل 1 يظهر مثال تكوين التصوير لتنفيذ تصميم الإضاءة الخلفية. كما يتضح من مثال الشكل 1أ؛ فإن عينات المواد تقع على بنية العينة أو الحاوية 110 (على سبيل المثال؛ خليه التدفق كما هو مبين هنا) ؛ والتي توضع في مرحلة العينة 170 تحت العدسة
5 الشيئية 142. المصدر الضوئي 160 والبصريات المرتبطة مباشره بشعاع الضوء؛ مثل ضوء الليزر» إلى موقع العينة المختارة على حاوية Lisl) 110. يتم فلورة العينات وجمع الضوء الناتج بواسطة العدسة الشيئية 142 ويتم توجيهها إلى كاشف صور 140 photo detector للكشف عن الفلورة. يتم نقل مرحلة العينة 70 Sample stage] بالنسبة إلى العدسة الشيئية 142 لوضع موقع العينة المقابل على حاوية العينة 110 في مركز التنسيق من العدسة الشيئية 142. يمكن تحقيق
0 حركة مرحلة العينة 170 بالنسبة إلى العدسة الشيئية 142 عن طريق نقل مرحلة العينة نفسهاء العدسة الشيئية؛ والمرحلة البصرية بأكملهاء أو أي مزيج من ما سبق. قد تشمل التطبيقات الأخرى أيضا نقل نظام التصوير بأكمله عبر عينة ثابتة. وحدة تسليم السوائل Fluid delivery module أو الجهاز 100 توجه تدفق المواد الكاشفة reagents (على سبيل «JUN نيوكليوتيدات فلورية nucleotides 00018650601» المواد المنظمة للحموضة
buffers 25 الإنزيمات cenzymes المواد الكاشفة للانقسام «cleavage reagents إلخ) إلى (ومن خلال) حاوية العينة 110 وصمام النفايات 120 waste valve في تطبيقات معينة؛ 110 يمكن
أن تنفذ باعتبارها خلية التدفق التي تشمل مجموعات من تسلسلات الحمض النووي في عدد وافر من مواقع العينة على حاوية العينة 110. يمكن أن تكون العينات التي سيتم إجراء تسلسل لها معلقة على ركيزة من خلية التدفق؛ جنباً إلى جنب مع مكونات اختيارية أخرى. يشمل النظام أيضا مشغل محطة الحرارة 30 temperature station actuator] والسخان/ المبرد 135 الذي يمكن أن ينظم بشكل اختياري درجة حرارة الظروف من السوائل داخل gla العينة 0. يمكن تضمين نظام الكاميرا 140 لرصد وتتبع تسلسل حاوية العينة 110. يمكن تنفيذ نظام الكاميرا 140( على سبيل المثال» ككاميرا جهاز موصول بشاحن charge-coupled device (6©0)؛ والتي يمكن أن تتفاعل مع مرشحات filters مختلفة داخل التجميع الفرعي المبادل filter switching assembly 145 zd yal) العدسة الشيئية 142؛ وتركيز الليزر/ تجميع ليزر 0 التركيز focusing laser assembly 150. نظام الكاميرا 140 لا يقتصر على كاميرا جهاز موصول بشاحن وغيرها من الكاميرات وتكنولوجيات كاشف الصور التي يمكن استخدامها. يمكن تضمين مصدر الضوء 160 (على سبيل المثال؛ ليزر الاثارة excitation laser داخل التجمع الذي يتألف اختياريا من الليزر المتعدد) أو غيره من المصادر الضوئية لتسليط الضوء على تفاعلات التسلسل الفلورية fluorescent sequencing reactions داخل العينات عن طريق الإضاءة 5 من خلال واجهة الألياف البصرية fiber optic interface (التي يمكن أن تشمل اختياريا واحد أو أكثر من عدسات sale] التصوير re-imaging lenses وتركيبات الألياف البصرية fiber optic mounting الخ). يكون المصباح منخفض الواط 165 Low watt lamp وليزر التركيز focusing laser 150 ومزدوج اللون العكسي reverse dichroic موجودين أيضا في المثال المبين. في بعض تطبيقات ليزر التركيز 150 قد يتم الإيقاف أثناء التصوير. في تطبيقات أخرى؛ يمكن 0 لتكوين التركيز البديل أن يشمل كاميرا تركيز ثائية (غير موضحة)؛ والتي يمكن أن تكون الكاشف الرياعي quadrant detector وهو كاشف الموقع الحساس «(PSD) Position Sensitive Detector أو الكاشف المماثل لقياس موقع الشعاع المتناثرة scattered beam المنعكس من السطح المتزامن مع جمع البيانات. على الرغم من أنه تم شرحه على أنه جهاز الإضاءة الخلفية؛ قد تشمل الأمثلة الأخرى ضوءٍ من اليزر أو غير من المصادر الضوئية التي يتم توجيهها من خلال العدسة الشيئية 142 في العينات على حاوية العينة 110. يمكن تحميل حاوية العينة 110 في نهاية المطاف في مرحلة العينة 170
لتوفير حركة ومحاذاة حاوية العينة 110 بالنسبة إلى العدسة الشيئية 142. يمكن أن يكون لمرحلة العينة مشغل واحد أو أكثر للسماح لها بالانتقال في أي من الأبعاد الثلاثة. على سبيل JU) من حيث نظام الإحداثيات الكارتيزية؛ يمكن توفير المشغلات للسماح للمرحلة بالتحرك في الاتجاهات و 7 و 2 بالنسبة إلى العدسة الشيئية. هذا يمكن أن يسمح لواحد أو أكثر من مواقع العينة على حاوية العينة 110 أن توضع في المحاذاة البصرية optical alignment مع العدسة الشيئية 142. يتم عرض مكون تركيز (المحور 6000000801175 focus (z-axis) (2 في هذا المثال ليتم تضمينه للتحكم في موضع المكونات البصرية بالنسبة لحاوية العينة 110 في اتجاه التركيز (يشار إليه عادة بالمحور > أو اتجاه ). يمكن أن يشمل عنصر التركيز Focus component175 واحد أو أكثر من المشغلات الفعلية المقترنة بالمرحلة الضوئية أو مرحلة العينة؛ أو كليهماء لنقل عينة الحاوية 0 110 في مرحلة العينة 170 بالنسبة إلى المكونات البصرية (مثلا؛ العدسة الشيئية 142) لتوفير التركيز المناسب لعملية التصوير. على سبيل المثال؛ قد يكون المشغل مقترنا فعلى بالمرحلة الخاصة به؛ مثلا بواسطة المرفق الميكانيكي أو المغناطيسي أو الموائع أو غير ذلك من الملحقات أو الاتصال بشكل مباشر أو غير مباشر بالمرحلة أو معها. يمكن تكوين واحد أو أكثر من المشغلات لتحريك المرحلة في الاتجاه 2 مع الحفاظ على مرحلة العينة في نفس المستوى (على سبيل المثال؛ الحفاظ على المستوي أو الموقع الأفقي؛ العمودي على المحور البصري optical (axis يمكن أيضا تكوين واحد أو أكثر من المشغلات لإمالة المرحلة. يمكن القيام cell على سبيل (JB) بحيث يمكن تسوية حاوية العينة 110 بشكل ديناميكي لحساب أي ميل في الأسطح الخاصة بها. يشير تركيز النظام عموما إلى المحاذاة بين السطح البؤري focal plane للعدسة الشيئية والعينة 0 التي سيتم تحديدها في موقع العينة المختار. مع ذلك؛ يمكن أن يشير التركيز أيضا إلى التعديلات على النظام للحصول على السمة المطلوية لتمثيل العينة مثل؛ على سبيل المثال؛ المستوى المطلوب من الحدة أو التباين للحصول على صورة من عينة الاختبار. نظرا لأن العمق القابل للاستخدام في مجال المستوي البؤري للعدسة الشيئية قد يكون صغير (في بعض الأحيان بالترتيب الذي يبلغ 1 ميكرومتر أو أقل)» عنصر التركيز 175 يتبع عن كثب السطح الذي يتم تصويره. لأن حاوية العينة ليست مسطحة Lela كما تم تثبيتها في الأداة؛ قد يتم إعداد مكون التركيز 175 لمتابعة هذا التشكيل الجانبي أثناء التنقل في اتجاه المسح (يشار اليه هنا بالمحور ().
يمكن توجيه الضوءٍ المنبعث من عينة الاختبار في موقع العينة التي يتم تصويرها إلى واحد أو أكثر من الكاشفات 140. يمكن أن تشمل الكاشفات؛ على سبيل المثال كاميرا جهاز موصولة بشاحن. يمكن إدراج الفتحة ووضعها للسماح فقط الضوء المنبعث من منطقة التركيز focus area أن يمر إلى الكاشف. ويمكن إدراج الفتحة لتحسين جوده الصورة عن طريق تصفية مكونات الضوء التي تنبع من المناطق التي تقع خارج مجال التركيز. يمكن تضمين مرشحات الانبعاثئات Emission filters تجميع تبديل المرشضح 145 Allg filter switching assembly يمكن اختيارها لتسجيل موجه الاتبعاثات emission wavelength المحددة وقطع أي ضوءٍ الليزر ضال stray .laser light في تطبيقات مختلفة؛ يمكن أن تتضمن عينة الحاوية 110 واحد أو أكثر من الركائز substrates 0 التي يتم توفير العينات عليها. على سبيل المثال» في حالة وجود نظام لتحليل عدد كبير من تسلسلات الأحماض النووية المختلفة؛ يمكن أن تتضمن عينة الحاوية 110 واحد أو أكثر من الفرعيات التي تكون الأحماض النووية التي سيتم إجراء تسلسل لها مرتبطة أو مرفقة أو متصلة. في التطبيقات المختلفة؛ يمكن أن تشمل الركيزة أي ركيزة أو مصفوفة خاملة يمكن ريط الأحماض النووية بهاء مثل الأسطح الزجاجية «glass surfaces والأسطح البلاستيكية «plastic surfaces 5 والمطاط. والديكستران dextran وأسطح البوليستيرين «polystyrene وأسطح البولي بروبيلين polypropylene وهلام البولي أكربلاميد «polyacrylamide gels والأسطح da lll ورقائق السيليكون wafers 8111600. في بعض التطبيقات» تكون الركيزة التحتية داخل قنة أو منطقة أخرى في مجموعة من المواقع التي تتشكل في مصفوفة أو مجموعة عبر عينة الحاوية 110. على الرغم من عدم التوضيح؛ يمكن توفير جهاز تحكم controller للسيطرة على تشغيل نظام 0 المسح. يمكن تطبيق جهاز التحكم للسيطرة على جوانب عمليه النظام مثل؛ على سبيل المثال» التركيز» وحركه المرحلة؛ وعمليات التصوير. في تطبيقات مختلفة؛ يمكن تطبيق جهاز التحكم باستخدام الاجهزة؛ الخوارزميات algorithms (على سبيل المثال؛ التعليمات التنفيذية للجهاز) ؛ أو مزيج من ما سبق. على سبيل المثال؛ في بعض التطبيقات يمكن أن يتضمن جهاز التحكم وحدات dallas مركزية (central processing units (CPUs أو معالج واحد أو أكثر مع الذاكرة المقترنة. كمثال آخرء يمكن لجهاز التحكم أن يضم أجهزه أو دوائر أخرى للتحكم في العملية؛ Jie معالج الحاسوب والحاسوب غير العارض الذي يمكن قراءته بواسطة التعليمات المقروءة آليا. على سبيل
المتال» يمكن أن تتضمن هذه الدوائر واحد أو أكثر من الإجراءات التالية: مصفوفة البوابة القابلة للبرمجة o(field programmable gate array (FPGA وتطبيق الدائرة المتكاملة المحددة ¢(application specific integrated circuit (ASIC والجهاز المنطقي القابل للبرمجة (programmable logic device (PLD ¢ ومعقد جهاز برمجه المنطق complex programmable «(logic device (CPLD 5 ومصفوفة منطق القابلة للبرمجة «(programmable logic array (PLA منطق صفيفة قابلة للبرمجة (programmable array logic (PAL أو غيرها من أجهزة المعالجة processing devices المماثلة أو الدوائر. كمثال آخر؛ يمكن لوحده التحكم أن تتألف من مجموعة من هذه الدوائر مع واحد أو أكثر من المعالجات processors على الرغم من أنه يمكن وصف الأنظمة والأساليب هنا من وقت لأخر في سياق نظام هذا (Jal 0 فهذا مثال واحد فقط يمكن تطبيق هذه الأنظمة والأساليب عليه. بعد قراءة هذا الوصف؛ سوف يفهم شخص متمرس في الفن كيف يمكن تنفيذ الأنظمة والأساليب الموصوفة هنا مع هذه الماسحات scanners وغيرهاء والمجاهر microscopes وأنظمة التصوير الأخرى. توفر تطبيقات التكنولوجيا المفصح عنها هنا أنظمة وأساليب التحليل البصري التركيبي. الشكل 1ب هو عرض مخطط منظوري يوضح مثال على نظام التحليل البصري التركيبي 180. قد يتضمن النظام 180 العديد من التجميعات الفرعية التركيبية. على سبيل (JU في بعض التطبيقات؛ يشتمل النظام 180 على أريع وحدات تجميع فرعي تركيبي: الوحدة التركيبية لإنشاء الخط 182؛ ووحدة تتبع التركيز 184» ووحدة تركيبية للكاميرا 186؛ ووحدة تركيبية للانبعاثات الضوئية 188. كما هو مستخدم في هذه الوثيقة في سياق الوحدة التركيبية لإنشاء الخط» وحدة تتبع التركيز» وحدة تركيبية للإنبعاثتات الضوئية؛ أو وحدة تركيبية للكاميرا» تشير الوحدة إلى وحدة الأجهزة hardware Ae) unit 0 سبيل المثال؛ التجميع الفرعي التركيبي). في بعض التطبيقات؛ قد تتضمن وحدة توليد الخط 182 واحد أو أكثر من مصادر الضوء. في بعض التطبيقات؛ قد تحتوي مصادر الضوءٍ واحد أو أكثر على مصادر الضوء المتناسقة؛ Jie الصمامات الثنائية لليزر laser diodes في بعض الأمثلة؛ قد تتضمن sang توليد الخط 182 مصدر ضوئي أول تم تكوينه لينبعث منه ضوءٍ في أطوال Linge حمراء»؛ ومصدر ضوئي ثاني تم 5 تكوبنه لينبعث die ضوء في أطوال موجية خضراء. يمكن وحدة توليد الخط 182 أن تشمل أيضا المكونات البصرية؛ مثل الأسطح المركزة focusing surfaces والعدسات؛ والأسطح العاكسة
«reflective surfaces أو المرايا. قد يتم وضع المكونات البصرية داخل sang توليد الخط 182 لتوجيه وتركيز الضوءٍ المنبعث من مصدر الضوء واحد أو أكثر إلى التجميع الفرعي التركيبي المجاور. قد يتم أيضا تكوين واحد أو أكثر من المكونات البصرية لوحدة توليد الخط 182 لتشكيل الضوءٍ المنبعث من مصدر ضوء واحد أو أكثر إلى التركيبات المطلوبة. على سبيل المثال» في بعض التطبيقات؛ قد تشكل المكونات البصرية الضوءٍ في أنماط الخط (على سبيل «JU عن طريق استخدام واحد أو أكثر من العدسات بوال؛ أو غيرها من عدسات تشكيل الشعماع beam shaping lenses المكونات الثنائية أو مكونات النثر ٠ (scattering components واحدة أو SET من المكونات البصرية قد تكون موجودة في واحد أو أكثر من التجميعات الفرحية التركيبية الأخرى. واحدة أو أكثر من التجميعات الفرعية التركيبية قد تتضمن أيضا واحد أو أكثر من المكونات 0 الفرعية القابلة للاستبدال في الحقل. على سبيل (Jl) قد تتضمن الوحدة التركيبية 182 واحد أو أكثر من وحدات الليزر Taser modules التي يمكن إزالتها بشكل فردي من وحدة توليد الخط 182 واستبدالها. في بعض الأمثلة؛ قد يكون التجميع الفرعي التركيبي المجاور (بالاقتران مع وحدة توليد الخط 5a (182 وحدة توليد الخط 188. يمكن إخراج الضوءٍ من مصدر واحد أو أكثر من المصادر 5 الضوئية وحدة توليد الخط 182 خارج وحدة توليد الخط 182 وإلى وحدة الانبعاثات البصرية 188 من خلال واجهة الصد interface baffle الملحقة بوحدة توليد الخط 182 و/أو وحدة الانبعاثات البصرية 188. على سبيل المثال؛ قد تكون واجهة الصد هي الفتحة التي تتشكل لتمكن spall من المرور من خلال مركزهاء في حين أن يتم تعتيم التدخل من مصادر الضوء الخارجي. قد تشمل وحدة توليد الخط 182 أيضا cian وعدسة أنبوبية؛ ومكونات بصرية أخرى مكونة للتشكيل؛ 0 ومباشرة؛ و/أو تركيز ضوءٍ فلوري SU fluorescent light من قبل واحد أو أكثر من المصادر الضوئية وحدة توليد الخط 182. الضوء الذي يمر عبر وحدة الاتبعاثات البصرية 188 قد يكون موجها إلى واحدة من التجمعات Lue il التركيبية الأخرى المجاورة» على سبيل المثال» وحدة الكاميرا 186« من خلال منفذ الواجهة interface port قد تشمل وحدة الكاميرا 186 واحد أو أكثر من مستشعرات الضوء light sensors 5 في بعض التطبيقات؛ قد يتم تكوين مستشعر الضوءٍ الأول للكشف عن الضوءٍ من مصدر spall الأول لوحدة توليد الخط 182 (على سبيل المثال؛ في الطول الموجي الأحمر)؛ ويمكن تكوين
مستشعر الضوءٍ الثاني للكشف عن ضوءٍ من مصدر الضوء الثاني لوحدة الكاميرا 186 lic) الطول الموجي الأخضر). يمكن وضع الأمثلة؛ مستشعر الضوء من وحدة الكاميرا 186 داخل المغلف في تكوين مثل للكشف عن ضوء اثنين من عوارض الضوء الساقط incident light beams بحيث أشعة الضوء الساقط قد تكون متباعدة من قبل مسافة محددة مسبقا le) سبيل المثال ؛ بين 1 مم و 10 مم) على أساس اثنين من المستشعرات. في بعض الأمثلة؛ قد يكون مستشعر الضوء الأول ومستشعر الضوءٍ الثاني متباعدين بمعزل عن بعضهما البعض بما بين 3 مم و 8 مم. قد يكون للمستشعرات الضوئية سطح كاشف detection surface بحجم كاف يسمح بانجراف الشعاع cbeam drift على سبيل (JU بسبب التأثيرات الحرارية أو الزحف الميكاتيكي mechanical م©©. يمكن إبلاغ البيانات الناتجة من مستشعرات الضوء من وحدة الكاميرا 186 إلى معالج 0 الكومبيوتر. قد يقوم معالج الكومبيوتر بعد ذلك بتنفيذ تعليمات برنامج الكومبيوتر لتحليل البيانات والتقرير أو عرض خصائص الشعاع (على سبيل JU) التركيز» الشكل؛ الكثافة؛ الطاقة؛ السطوع؛ الموضع) إلى واجهة مستخدم رسومية6171) Ss «(graphical user interface التحكم تلقائيا في المشغلات وإخراج الليزر لتحسين شعاع الليزر. يمكن تحسين شكل الشعاع والموقع من خلال البصريات الداخلية للنظام 180 (على سبيل JU إمالة المراياء وعدسات التعبير
«articulating lenses 5 الخ). قد تقترن وحدة تتبع التركيز 184 أيضا إلى وحدة الانبعاثات البصرية 188 من خلال منفذ واجهة. قد تتضمن وحدة تتبع التركيز 184 أدوات للكشف عن وتحليل المحاذاة والتركيز لجميع المكونات البصرية في النظام 180. على سبيل المثال؛ قد يتضمن وحدة تتبع التركيز 184 مصدرا Wigan Sle) ليزر)؛ وبصريات»؛ ومستشعرا ضوئي؛ Jie الكاميرا الرقمية digital camera الرقاقة سي أم أوه سي .OMOS قد يتم تكوين الليزر لإرسال مصدر الضوءِ وقد يتم تكوين البصريات لتوجيه الضوء من خلال المكونات البصرية في النظام 180 ويمكن تكوين مستشعر الضوءٍ للكشف عن spall الذي يتم نقله من خلال المكونات البصرية في النظام 180 وبيانات الإخراج إلى معالج كمبيوتر. قد يقوم معالج الكمبيوتر بعد ذلك بتنفيذ تعليمات برامج الكمبيوتر لتحليل البيانات والتقرير أو عرض خصائص شعاع الليزر (على سبيل المثال؛ التركيز؛ الكثافة؛ الطاقة؛ السطوع؛ الموضع) 5 إلى واجهة المستخدم الرسومي؛ و/أو التحكم التلقائي للمشغلات وإخراج الليزر لتحسين شعاع الليزر. في بعض AEN قد تشمل وحدة تتبع التركيز 184 نظام تبريد «cooling system مثل
نظام التبريد الجوي أو السائل كما هو معروف في الفن.
في بعض التطبيقات؛ قد تشمل وحدة توليد الخط 182 التي تعمل في الطاقة العالية لاستيعاب
أيضا سرعات المسح الأسرع (على سبيل المثال؛ الليزر في وحدة توليد الخط 182 يمكن أن يعمل
في خمس مرات أكبر لمخرجات الطاقة (power output بالمثل؛ فإن المصدر الضوئي لوحدة الليزر module 1288 قد يعمل بقوة إنتاجية أعلى و/أو قد يشمل أيضا مستشعر ضوئي عالي
الاستبانة لتحقيق دقة تركيز مقياس نانومتر لاستيعاب سرعات المسح الأسرع. يمكن تعزيز نظام
التبريد 184 لاستيعاب الناتج الحراري الإضافي من الليزر الأعلى طاقة باستخدام تقنيات التبريد
المعروفة في الفن.
في أحد الأمثلة؛ كل التجميع الفرعي التركيبي قد يقترن ميكانيكيا مع واحد أو أكثر من التجميعات
0 الفرعية الأخرى» و/أو إلى لوحة التركيب الدقيقة190. في بعض التطبيقات؛ لوحة التركيب الدقيقة190 قد نقترن ميكانيكيا مع مرحلة التجميع 192. قد تشمل مرحلة التجميع 192 مخمدات الحركة emotion dampers والمشغلات لتفعيل واحد أو أكثر من المكونات داخل واحد أو أكثر من التجميعات الفرعية التركيبية؛ وأنظمة canal) و/أو غيرها من الإلكترونيات أو المكونات الميكانيكية mechanical components كما هو معروف في الفن.
5 قد تكون التجميعات الفرعية التركيبية مسبقة الصنع أو المكونة؛ لمحاذاة داخليا. في بعض التطبيقات؛ قد تكون وحدة التحكم مقترنة بشكل إلكتروني بمرحلة التجميع 192 والمقترنة بشكل متصل مع واجهة المستخدم لتمكين المحاذاة التلقائية أو اليدوية البعيدة لواحدة أو أكثر بعد أن يتم اقترانها بلوحة التركيب الدقيقة 190. كل تجميع فرعي تركيبي قد يكون وحدة حقل قابل للاستبدال» بحيث يمكن إزالته من لوحة التركيب الدقيقة 190 واستبداله بتجميع فرعي آخر مكافئ وظيفيا دون
0 الإخلال بمحاذاة أو تكوين آخر للتجميعات الفرعية التركيبية في النظام. كل وحدة تم محاذاتها سابقا والمؤهلة مسبقا قبل الاندماج في النظام 180. على سبيل المثال؛ تجميع وتكوين sang توليد الخط 182 قد تشمل الاقتران الميكانيكي مع واحد أو أكثر من لليزر أو الصمامات الليزرية laser diodes في المغلف؛ وتركيب إلكترونيات التحكم control electronics لتشغيل الليزر أو الصمامات الثنائية لليزر. يمكن بعد ذلك تحميل وحدة توليد الخط 182 بأكملها
5 على سرير اختبار وتشغيلها لمحاذاة صمامات الليزر داخل الحاوية» فضلا عن أي بصربات أو مكونات أخرى. قد يتضمن مغلف وحدة توليد الخط البنية التركيبية الخارجية مثل الدبابيس التركيب
mounting pins أو البيانات أو الشقوق أو علامات cogil) أو الفتحات أو الارتفاعات المتطاولة أو النتوءات protrusions أو البادئات الأخرى المكونة لمحاذاة الجهاز الخاص بوحدة توليد الخط 2 إلى سرير الاختبار وكذلك النظام 180. ayaa أن يتم تكوين واختبار وحدة توليد الخط 2. فإنه قد يتم تثبيتها في النظام 180( أو يتم حزمها أو تخزينها أو شحنها كوحدة حقل قابل للاستبدال.
التجمعات الفرعية الأخرى؛ مثل وحدة تتبع التركيز 184( وحدة الكاميرا 186( أو وحدة الانبعاثات البصرية 188؛ قد يكون تم تجميعها؛ وتكوينها؛ واختبارها بالمثل قبل التثبيت على النظام 180. قد يتم تجميع كل وحدة فرعية تركيبية باستخدام أساليب اقتران ميكانيكية للحد من تنقل المكونات الداخلية داخل التجميع الفرعي كما هو مطلوب. على سبيل المثال؛ قد تكون المكونات مؤمنة في 0 مكان مع المشابك fasteners أو اللحامات لإيقاف التتقل بمجرد أن يتم محاذاة المكون مع المكونات الأخرى أو الحاوية الخاصة بالتجميع الفرعي التركيبي. قد تقترن بعض المكونات؛ حسب الرغبة؛ بالمفاصل المفصلية articulating joints أو يتم السماح لها بالتنقل داخل الحاوية بحيث يمكن تعديل اتجاهها النسبي بعد تركيبها على لوحة التركيب الدقيقة 190. على سبيل المثال؛ قد يتم التحكم في كل المواضع النسبية للتجميع الفرعي التركيبي باستخدام التحمل الميكانيكي mechanical tolerances 5 المحدد مسبقا Die) عن طريق محاذاة المسند لتلقي الشقوق في التجميع الفرعي التركيبي المجاور أو في لوحة التركيب الدقيقة 190) مثل تمكين المحاذاة البصرية العامة للنظام 180 مع عدد محدود من الدرجات القابلة لتعديل الحرية (على سبيل المثال» أقل من 10
درجات الحرية العامة في بعض التطبيقات). الشكل 1ج هو منظور تخطيطي يشرح مثال للوحة التركيب الدقيقة 190. قد يتم تصنيع لوحة 0 التركيب الدقيقة 190 من الوزن الخفيف»؛ الجامد؛ والمواد الحرارية المتسامحة heat tolerant materials في بعض التطبيقات؛ لوحة التركيب الدقيقة190 قد تكون مصنعة من المعدن (على سبيل المثال» ألومنيوم (aluminum أو السيراميك؛ أو غيرهم من المواد الجامدة كما هو معروف في الفن. لوحة التركيب الدقيقة190 قد تشمل بنيات المحاذاة الدقيقة precision alignment Al) structures تم تكوينها للاقتران الميكانيكي المقابل البنيات المحاذاة الدقيقة المدرجة على 5 التسييج أو العلب من واحد أو SST من التجميعات الفرعية التركيبية. على سبيل المثال؛ قد تتضمن بنيات المحاذاة الدقيقة دبابيس التركيب؛ والبيانات؛ وعلامات التبويب؛ والفتحات؛ والشقوق؛
والنتوءات؛ والمغناطيس؛ والتلال؛ والمسافات البادئة؛ و/أو بنيات التركيب الدقيقة الأخرى المصممة لمحاذاة السطح الأول (Jie) على لوحة التركيب الدقيقة 190) مع السطح الثاني (على سبيل المثال» السطح الخارجي للمغلف أو المسكن للتجميع الفرعي التركيبي. بالإشارة إلى الشكل 1ج؛ مثال للوحة التركيب الدقيقة190 قد تشمل تعددية بنيات التركيب الدقيقة لوحدة توليد الخط 194 المكونة لقبول وللاقتران الميكانيكي مع بنيات التركيب الدقيقة المقابلة التي تقع على السطح الخارجي لوحدة توليد الخط 182. بالمثل» فإن لوحة التركيب الدقيقة190 قد تشمل تعددية بنيات التركيب الدقيقة على وحدة الانبعاثات البصرية 196 التي تم تكوينها لقبول وللاقتران الميكانيكي مع بنيات التركيب الدقيقة التي تقع على السطح الخارجي من وحدة الانبعاثات البصرية 188. من خلال تحديد موقع وحدة توليد الخط 182 ووحدة الانبعاثات البصرية 188 على لوحة التركيب 0 الدقيقة190 باستخدام بنيات التركيب الدقيقة؛ وحدة توليد الخط 182 وحدة الانبعاثات البصرية 8 سيتم محاذاتها مع بعضها البعض. تقع بنيات التركيب الدقيقة على مغلفات من التجميعات due jill التركيبية الأخرى (على سبيل المثال» وحدة تتبع التركيز 184 ووحدة الكاميرا 186) قد يتم الاقتران الميكانيكي مع بنيات التركيب الدقيقة الخاصة الموجودة على وحدة توليد الخط 182 أو وحدة الانبعاثات البصرية 188( أو على dag التركيب الدقيقة 190. 5 الشكل 1د يوضح مخطط كتلي نموذجي لوحدات نظام التحليل البصري. في بعض التطبيقات؛ قد تتضمن وحدات نظام التحليل البصري وحدة توليد الخط 1182 مع اثنين من مصادر الضوء؛ 0 و 1660( التي تم استبعادها هنا. قد تكون مصادر الضوء 1650 و 1660 عبارة عن صمامات ثنائية الليزر أو ثنائيات الصمامات الصلبة التي يتم ضخها بالليزر diode pumped solid state lasers أو مصادر ضوء أخرى كما هو معروف في الفن؛ والتي تنتج أشعة ليزر ذات 0 أطوال موجية مختلفة (على سبيل المثال؛ الضوءٍ الأحمر أو الأخضر). يمكن توجيه الأشعة الضوئية الناتجة من مصادر الليزر 1650 و 1660 من خلال عدسة أو عدسات لتشكيل الأشعة 4. وفي بعض التطبيقات؛ يمكن استخدام عدسة تشكيل ضوء واحدة لتشكيل الاشعة الضوئية الناتجة من كلا مصادر الضوء. في تطبيقات أخرى؛ يمكن استعمال عدسة تشكيل الأشعة المنفصلة لكل شعاع ضوئي. في بعض الأمثلة؛ عدسة تشكيل الشعاع هي عدسة بوال؛ بحيث يتم 5 تشكيل شعاع ضوئي في أنماط الخط. قد تشمل وحدة توليد الخط 1182 أيضا المرايا 1002 و 1004. ويمكن أن ينعكس شعاع الضوءٍ
الناتج عن مصدر الضوءٍ 1650 على المرآة 1002 بحيث يتم توجيهها من خلال فتحة أو مرآة شبه عاكسة للمرآة 1004 وإلى وحدة الانبعاثات البصرية 1188 من خلال منفذ واجهة مفرد. بالمثل؛ قد ينعكس شعاع ضوئي ناتج عن مصدر الضوء 1660 عن shall 1003 ومرآة 1004 ليتم توجيهها إلى وحدة الانبعاثات البصرية 1188 من خلال منفذ وسيط. في بعض الأمثلة؛ يمكن دمج مجموعة إضافية من المرايا التوضيحية المجاورة للمرآة 1004 لتوفير أسطح ضبط tuning 5 إضافية؛ على سبيل (JA كما هو موضح في الشكل 1ح. يمكن الجمع بين الأشعة الضوئية باستخدام المرآة المزدوجة اللون 1004. يمكن توجيه كل الأشعة الضوئية من خلال بصريات تشكيل الخط Jie عدسة بوال. يمكن تكوين كل من المرايا 1002 و 4 لتوضيح استخدام عناصر التحكم اليدوية أو الآلية لمحاذاة الأشعة الضوئية من مصادر 0 الضوء 1650 و 1660. قد تمر الأشعة الضوتئية من خلال غلق العنصر 1006. وقد تشمل وحدة الانبعاثات البصرية 1188 الهدف 1404 و المرحلة 2-1024 الذي يحرك الهدف 1404 طوليا أقرب إلى أو أبعد من الهدف 1192. على سبيل JU قد يشمل الهدف 1192 طبقة سائلة 550 liquid layer] ولوحة التغطية الشفافة 1504( (Sag أن تقع العينة البيولوجية على السطح الداخلي للوحة التغطية الشفافة وكذلك السطح الداخلي للمادة المتفاعلة تقع تحت طبقة 5 السائل. يمكن أن تحرك المرحلة 2 عندئذ الهدف من أجل تركيز الأشعة الضوئية على السطح الداخلي لخلية التدفق (على سبيل المثال؛ التركيز على العينة البيولوجية). قد تكون العينة البيولوجية هي الحمض النووي؛ الحمض النووي الرببوزي» بروتينات»؛ أو مواد بيولوجية biological materials أخرى تستجيب للتسلسل البصري كما هو معروف في الفن. في بعض التطبيقات؛ قد يتم تكوين الهدف لتركيز الأشعة الضوئية في نقطة بؤرية خارج خلية التدفق؛ مثل زيادة عرض الخط من الأشعة الضوئية على أسطح خلية التدفق. قد تشمل وحدة الانبعاثات البصرية 1188 أيضا مرآة عاكسة 1020 للضوء المباشر من خلال الهدف 1404( مع السماح للضوء المعكوس من الهدف 1192 بالمرور. في بعض عمليات التطبيق؛ قد تشمل وحدة الانبعاشات البصرية 1188 عدسة أنبوبية 1406 وعدسة تصحيحية corrective lens 0 يمكن تصويب العدسة التصحيحية 1450 طوليا إما بالقرب من إلى أو 5 بعيدا عن الهدف 1404 باستخدام المرحلة-1022 2 لضمان التصوير الدقيق؛ على سبيل المثال لتصحيح الانحراف الكروي الناجم عن elias الهدف 1404؛ و / أو من التصوير من خلال مادة
متفاعلة أكثر سمكا. قد يمر الضوء المنقول من خلال عدسة تصحيحية 1450 والعدسة الأنبوبية 6 من خلال عنصر الترشيح 1012 As filter element وحدة الكاميرا 1186. قد تشمل وحدة الكاميرا 1186 واحد أو أكثر من المستشعرات البصرية 1050 للكشف عن الضوء المنبعث من العينة البيولوجية بالاستجابة لسقوط الأشعة الضوئية.
في بعض الأمثلة؛ قد تشمل وحدة الانبعاثات البصرية 1188 أيضا مرآة شبه عاكسة 1018 لتعكس شعاع ضوئي تتبع التركيز المنبعث من وحدة تتبع التركيز 1184 على الهدف 1192؛ ثم تعكس الضوءٍ المنعكس من الهدف 1192 مرة أخرى إلى وحدة تتبع التركيز 1184. قد تشمل وحدة تتبع التركيز 1184 مستشعر بصري تتبع التركيز للكشف عن خصائص شعاع ضوئي لتتبع التركيز التي تعود وتولد إشارة ردود الفعل feedback signal لتقييم تركيز الهدف 1404 على
0 الهدف 1192. تم تكوين وحدة توليد الخط 1182 لتوليد إضاءة خط موحد من خلال عدسة شيئية. على سبيل (JU) قد تكون العدسة الشيئية موجودة على sang الانبعاثات البصرية 1188( أو على نظام المحاذاة sass) alignment system توليد الخط المستخدمة لمحاذاة المكونات الداخلية لوحدة توليد الخط عندما يتم تجميعها أو الحفاظ عليها كوحدة توليد الخط (على سبيل المثال؛ فصلها ماديا من
5 وحدت النظام التحليلي البصري). قد تستخدم وحدة توليد الخط واحد أو أكثر من العدسات بوال لنشر و/أو تشكيل شعاع الليزر من مصادر ضوء الليزر واحد أو بالقرب من موقع واحد. يمكن استخدام البصريات الأخرى لتشكيل الأشعة للسيطرة على اتساقها وزيادة التحمل مثل النشاط التوسعي للشعاع؛ والمخفف؛ وعدسات التتابع relay lenses الواحدة؛ والعدسات الاسطوانية cylindrical lenses والمرايا التي تعمل باليد؛ والعناصر الاتنعكاسية «diffractive elements
0 ومكونات التشتت scattering components قد تتقاطع أشعة الليزر عند النقطة البؤرية الخلفية back focal point للعدسة الشيئية لتوفير قدر أفضل من التحمل على أسطح التدفق (على سبيل المثال» كما هو مبين في الشكل [ى). قد تقع العدسة بوال بالقرب من العدسة شيئية؛ أو بالقرب من عدسة التتابع relay lens زاوية انتشار fan angle شعاع الليزر الذي يدخل بصريات التصوير يمكن تعديلها لتتناسب مع منظور المجال لتصوير البصريات.
5 يمكن تعديل اتجاه وحجم و/أو استقطاب شعاع الليزر باستخدام العدسات والمرايا و/أو المستقطبات polarizers يمكن استخدام العدسات البصرية (على سبيل (JU أسطوانية؛ كروية؛ أو غير
كروية) لضبط تركيز الإضاءة بشكل فعال على الأسطح المزدوجة dual surfaces لهدف خلية التدفق. وحدات الضوء على 1182 قد تكون قابلة للاستبدال بشكل فردي لخدمة المجال. قد تشمل sang توليد الخط 1182 وحدات متعددة؛ وقد تم تصميم كل وحدة لأطوال موجية معينة/مختلفة والاستقطاب. يمكن استخدام وحدات شعاع ضوئية متعددة لزيادة طاقة الليزر وخيارات الطول الموجي. يمكن الجمع بين اثنين أو أكثر من أطوال الليزر مع ثنائي اللون والمستقطب. لتجنب تبييض الصور على المنطقة المجاورة أو تشبع الصورة من الاضاءة؛ يمكن تعديل ملامح خط الإضاءة illumination line لتكون ضمن التحمل السابق بنسبة التحمل داخل/منطقة التصوير الخارجي. من خلال توسيع أنماط خط الليزر في خلية التدفق و/أو المستشعرات؛ قد يتم استخدام سرعات المسح العالي وقوى الليزر (على سبيل المثال؛ يمكن زيادة الطاقة والإنتاجية أكثر من 0 أربعة أضعاف دون أن تعاني من تشبع الصورة أو تبييض gall أو إتلاف وحدات الليزر). في بعض الأمثلة؛ وكثافة قوة الليزر من أكثر من 20 كيلو واط/سم2 في خلية التدفق قد تفرط في تشبع الاضاءة في خلية التدفق. عندما يحدث هذاء فإن إشارة الانبعاث emission signal المكتشفة في المستشعرات لن تزداد خطيا مع زيادة قوة الإثارة من وحدات الليزر. يمكن أن تشمل طرق خطوط الإضاءة الموسعة باستخدام البصريات: إضافة عدسة تباين defocus dens 5 نظم المنشار الزجاجي prism array أو الناشر بعد أو قبل عدسة بوال. في بعض التطبيقات؛ قد تشمل هذه الأساليب أيضا الحد من حجم إضاءة شعاع الليزر و/أو الحد من العدسة الشيئية لتصميم الدمج اللانهائي. يوضح الشكل 1ك مخطط كتلي لنظام وحدة توليد الخط ووحدة الانبعاتات البصرية الذي يتم استخدامهم لتوسيع نمط خط الليزر على خلية التدفق لتجنب تشبع الصورة وتبييض الصور. يمكن sab) خط العرض الساقط لشعاع الليزر على خلية التدفق للحد من 0 سيطرة كثافة الإثارة وتجنب تشبع الصورة. يمكن زبادة عرض الخط؛ على سبيل المثال» من خلال دمج العدسة أو المنشار الزجاجي أو المصفوفة أو الناشر؛ إما أمام أو خلف عدسة بوال. في بعض التطبيقات؛ يمكن زيادة عرض الخط عن طريق إزالة تركيز العدسة الشيئية؛ كما هو موضح في الشكل 1ك (على سبيل المثال» تحريك العدسة الشيئية في المحور 7) لتركيز نمط الخط shy أسطح خلية التدفق. في بعض الأمثلة؛ قد يؤدي تباين نمط الخط إلى مسافة تتراوح بين حوالي 50 5 ميكرومتر وحوالي 150 ميكرومتر من سطح بعيد عن خلية التدفق إلى إحداث عرض خط أكبر من 10 ميكرومتر؛ ويقلل بشكل فعال من آثار التشبع الضوئي وتبييض pall
عند استخدام مستشعر تكامل تأخير زمني؛ يمكن موازنة المظهر الجانبي لشدة papal) من خط إلى أشعة مع إمكانية تحمل الإشارة إلى الضوضاء لمستشعر تكامل تأخير زمني. على سبيل المتال» عند عرض خطوط واسعة daa قد تكون نسبة الإشارة إلى الضوضاء متنخفضة جدا بحيث تكون فعالة.
يوضح الشكل 1و مخطط كتلي لنظام محاذاة sang توليد الخط. الشكل 31 يوضح منظر لنظام محاذاة وحدة توليد الخط. كما هو موضح؛ في بعض التطبيقات»؛ وحدة الليزر الخضراء قد تولد شعاع الليزر الأول الذي يعكس قبالة اثنين من Lhe بي زد تي PZT وبالمثل؛ فإن وحدة الليزر الحمراء قد تولد شعاع الليزر الثاني الذي يعكس أيضا قبالة اثنين من مرايا PZT ويتم الجمع مع شعاع الليزر الأول. قد تمر كل أشعة الليزر من خلال عدسة بوال لإنتاج نمط الخط؛ء ومن ثم من
0 خلال مصراع shutter البصريات وحدة الانبعاشات البصرية؛ والعدسة الشيئية. في بعض التطبيقات؛ قد يتم إزالة تركيز شعاع الليزر باستخدام عدسة التباين قبل تمرير الهدف من أجل زيادة عرض خط من أشعة الليزر. بدلا من ذلك؛ قد يتم إزالة تركيز شعاع الليزر عن Gob توضيح الهدف في المحور 7. من خلال تركيز شعاع الليزر في نقطة بؤرية وراء أسطح من خلية التدفق؛ قد يتم توسيع خطوط الليزر لتفريق الطاقة في العينة وتجنب تشبع الصورة؛ وتبييض 5 الصورء وأضرار الليزر بسرعة المسح عالية وقوى الليزر العالية. في بعض التطبيقات؛ يمكن زيادة أنماط الخط في العرض من أقل من 5 ميكرومتر إلى أكثر من 13 ميكرومتر. قد يتضمن نظام محاذاة وحدة توليد الخط أسطح تحكم لضبط أو معالجة المواقع النسبية للمرايا 2 و 1004؛ وكذلك العدسات؛ أو الليزر؛ أو المكونات الأخرى أو البصريات في وحدة توليد الخط. على سبيل المثال؛ (Sa إجراء تعديلات باستخدام المعالجة اليدوية لمقابض التحكم control knobs 0 أو البراغي screws أو المكونات الأخرى. في تطبيقات أخرى؛ واحد أو أكثر من العناصر البصرية يمكن تعديلها أو معالجتها تلقائيا. يمكن أن تشمل Brea) التحكم ١ لأالي Automatic control devices مرحلة الترجمة الآلية؛ وجهاز التشغيل cactuation device واحد أو أكثقر من مراحل بيزوء و / أو واحد أو أكثر من التبديل التلقائي ومرايا وعدسات التقلب. يمكن استخدام واجهة البرنامج للتحكم في جميع الأجهزة؛ ونظام الاختبار» والمعايرة؛ وإجراء الاختبار. يتضمن 5 نظام المحاذاة ملف تعريف الشعاع (على سبيل المثال؛ مستشعر التصوير ثنائي الأبعاد)» وعدسة التصوير (استبدال العدسة الشيئية بوحدة الانبعاثات البصرية)؛ والمخفف» و/أو أهداف المحاذاة.
يمكن استخدام deals البرنامج لإصدار تقارير لمراقبة الجودة وتقييم المنتجات. على سبيل المثال؛ يمكن أن تتضمن التقارير البيانات التي تم إنشاؤها بواسطة ملف تعريف الشعاع في ما يتعلق بكثافة الشعاع والملف التعريفي المتعلق بتكوين محاذاة للمكونات البصرية من وحدة توليد الخط. في بعض التطبيقات» طريقة محاذاة وحدة توليد الخط باستخدام نظام محاذاة وحدة توليد الخط قد تشمل تحديد مواقع التوافق alignment positions المعقولة والتحمل لبصريات التصويرء والمستشعرات؛ والميكانيكا بالنسبة لنظام محاذاة وحدة توليد الخط. يكون نظام محاذاة وحدة توليد الخط خارج النظام التحليلي البصري المرن. على هذا gall يمكن تجميع المكونات الداخلية لوحدة توليد الخط ومحاذاتها قبل التثبيت في نظام التحليلي البصري المرن. قد يتم أيضا محاذاة المكونات الداخلية لوحدة توليد الخط أثناء نشاط الصيانة.
0 في بعض التطبيقات؛ يمكن تحقيق التوافق بين المكونات البصرية وحدة توليد الخط باستخدام أجهزة التشغيل للتتبع التلقائي والضبط أثناء إجراء التسلسل أو بين دورات التسلسل/التشغيل. على سبيل المثال» يمكن أن تكون أجهزة التشغيل مرحلة بيزوء أو مشغل ميكانيكي «motorized actuator أو أجهزة مماثلة معروفة في الفن. يمكن أن تعوض أجهزة التشغيل أيضا عن الانجراف الناجم عن تغيرات درجة الحرارة؛ وكذلك اضمحلال المكونات البصرية بما في ذلك أشعة الليزر؛ والعدسات؛
5 والتركيبات mounts يمكن لكل مكون بصري أن يقترن ميكانيكيا مع حاوية أو إطار بصري optical frame باستخدام واجهة ميكانيكية mechanical interface مزودة بوصلات اتصال دقيقة precision contact pads أو دبابيس وتد dowel pins أو سدادات أو أسطح تركيب ميكانيكية mechanical mounting
surfaces دقيقة أخرى كما هو معروف في الفن.
0 الأشكال 2 و 2ب هي مخططات توضح بنيات التركيب الدقيقة على وحدة الانبعاثات البصرية 8. في العديد من التطبيقات؛ قد تشتمل وحدة الانبعاثات البصرية 188 على وحدة GUY) البصرية المغلفة 210. يمكن لوحدة الانبعاثات البصرية 188 أن تقترن ميكانيكيا وبصريا مع وحدة توليد الخط 182؛ ووحدة تتبع التركيز 184 ووحدة الكاميرا 186 Ao) سبيل المثال؛ تغليف وحدة الانبعاثات البصرية 188 قد يشتمل على فتحة واحدة أو أكثر مقابلة ومحاذية لفتحة تقع على
5 مغلف كل من التجميعات الفرعية التركيبية الأخرى لتمكين الضوء»؛ الناتج عن مصدر (مصادر) الضوء في وحدة توليد الخط 182 و / أو وحدة تتبع التركيز 184 للانتقال عبر الفتحة والبصريات
الداخلية لوحدة الانبعاشات البصرية 188. كما هو موضح في الشكل 2ب؛ قد تشمل وحدة الانبعاثات البصرية المغلفة 210 بنيات التركيب الدقيقة وحدة تتبع التركيز 212 التي تم Less للمحاذاة والاقتران الميكانيكي (على سبيل المثال؛ اتصال فيزيائي) مع بنيات التركيب الدقيقة المقابلة التي تقع على السطح الخارجي لمغلف وحدة تتبع التركيز 184. بالمثل» قد تشمل Sang 5 الانبعاثات البصرية المغلفة ل 210 بنيات التركيب الدقيقة وحدة الكاميرا 222 التي تم تكوينها للمحاذاة والاقتران الميكانيكي مع بنيات التركيب الدقيقة المقابلة التي تقع على السطح الخارجي لمغلف 220 من وحدة الكاميرا 186. توضح الأشكال 3( 3ب؛ و 3ج مخططات بنيات التركيب الدقيقة على وحدة تتبع التركيز 184. بالإشارة إلى الشكل 3أ؛ وحدة تتبع التركيز 184 قد تشمل مصدر الضوء والمستشعرات البصرية 0 الموضوعة داخل وحدة تتبع التركيز المغلفة 300. وحدة تتبع التركيز المغلفة 300 قد تشمل منافذ الواجهة interface ports للواجهات الإلكترونية 302 «electronic interfaces 5304 306 للسيطرة على مصدر الضوءٍ والمستشعرات البصرية. قد تشمل وحدة تتبع التركيز المغلفة 300 Lad بنيات التركيب الدقيقة 312 (على سبيل (JU) أقدام التركيب الدقيقة التي تم تكوينها للاقتران الميكانيكي مع التجاويف أو المواقع المحددة سلفاً على لوحة التركيب الدقيقة 190). قد تشمل وحدة تتبع التركيز المغلفة 300 كذلك بنيات التركيب الدقيقة 314 التي تم تكوينها للمحاذاة الاقتران الميكانيكي مع بنيات التركيب الدقيقة المقابلة 212 التي تقع على السطح الخارجي لوحدة الانبعاثات البصرية المغلف 210 قبل التجميع؛ يتم تكوين؛ ومحاذاة؛ واختبار كل وحدة تجميع فرعية؛ ومن ثم يتم تركيب كل واحدة منها إلى dag) التركيب الدقيقة190 للمساعدة في محاذاة النظام؛ قد يقلل من كمية المحاذاة ما بعد 0 اتثبيت المطلوبة لتلبية التحمل المطلوب. في مثال واحد؛ يمكن إجراء محاذاة ما بعد التركيب بين وحدة الانبعاثات البصرية 188 وكل من وحدات التجميع الفرعية الأخرى عن طريق ربط منافذ الوحدة التركيبية module ports المقابلة (مثل منفذ وحدة الاتبعاثات البصرية/وحدة تتبع التركيزء ومنفذ وحدة الانبعاثات البصرية/وحدة الكاميرا؛ ومنفذ بعثة وحدة الانبعائات البصرية/وحدة توليد الخط)؛ ومحاذاة التجميعات الفرعية لبعضها البعض بواسطة التعبير عن الموقع يدويا أو تلقائيا (في 5 المحور X أو Y أو 2) أو الزاوية (في الاتجاه X أو oY وتناوب كل وحدة تجميع فرعية. بعض درجات الحرية قد تكون محدودة من قبل بنيات محاذاة الدقة التي تم حددت الموقع مسبقا وتوجيه
تجميع الوحدات فيما يتعلق بلوحة التركيب الدقيقة190 والتجميعات الفرعية المرنة المجاورة. يمكن بعد ذلك ضبط ومحاذاة البصريات الداخلية للنظام 180 من خلال توضيح المكونات الداخلية للتجميعات الفرعية المرنة (على سبيل المثال» عن طريق إمالة أو تحريك في المرايا والعدسات X أو 7 أو 2).
الشكل 14 هو مخطط مظهر جانبي يوضح مثالا نموذجيا لنظام تحليلي بصري. كما هو موضح في الشكل 4أ؛ وحدة توليد الخط 182 و وحدة الانبعاثات البصرية 188 يمكن محاذاتها واقترانها ميكانيكيا مع لوحة التركيب الدقيقة190؛ بالإضافة إإلى بعضها البعض. قد تشمل بعثة وحدة الانبعاثات البصرية 188 الهدف 404 التي تمت محاذاتهاء عبر shall 408 مع عدسة أنبوبية 406 والتي بدورها تقترن بصريا مع وحدة توليد الخط 182 بحيث حزم الضوء التي تم إنشاؤها
0 بواسطة إرسال sang توليد الخط 182 من خلال واجهة الصد بين sang توليد الخط 182 ووحدة الانبعاثات البصرية 188( التي تمر من خلال الهدف 404؛ وتسقط على الهدف البصري. قد يمر إشعاع الضوء المستجيب من الهدف مرة أخرى من خلال الهدف 404 وفي العدسة الأنبوبية 406. قد تشمل العدسة الأنبوبية 406 عنصر عدسة 450 تم تكوينه للتعبير على طول محور 7 لتصحيح التحف منحرفة الكروية التي تم إدخالها بواسطة تصوير 404 الهدف من خلال السمك 5 المتنوع من ركيزة خلية التدفق floweell substrate أو غطاء الزجاج cover glass على سبيل المثال؛ الأشكال 4ب و4ج هي مخططات كتلية توضح تشكيلات مختلفة من العدسة الأنبوبية 6. كما هو مبين؛ فإن عنصر العدسة 450 يمكن أن يكون قريب أو بعيد عن الهدف 404 لضبط شكل الحزم والمسار. في بعض التطبيقات؛ يمكن أن تقترن وحدة الانبعاثات البصرية 188 ميكانيكيا بالمرحلة 2 على سبيل المثال؛ التي يتم التحكم بها بواسطة المحركات في مرحلة المحاذاة 192. في بعض الأمثلة؛ يمكن التعبير عن المرحلة 7 بواسطة ملف دقيق precision coil وتشغليها عن طريق آلية التركيز focusing mechanism التي قد تعدل وتحرك الهدف 404 للحفاظ على التركيز في خلية التدفق. على سبيل JU يمكن أن تكون الإشارة للتحكم لضبط التركيز ناتجة عن وحدة تتبع التركيز 4. يمكن للمحور 2 هذا أن يحاذي بصربات وحدة الانبعاثات cdo yal على سبيل المثال» من 5 خلال توضيح الهدف 404( العدسة الأنبوبية 406؛ و/أو عنصر العدسة 450. الأشكال 15 و 5ب هي مخططات توضح وحدة تتبع التركيز 184. قد تتداخل وحدة تتبع التركيز
4 مع وحدة الانبعاثات البصرية 188 من خلال منفذ واجهة وحدة تتبع التركيز/وحدة الانبعاثات البصرية. كما هو موضح في الشكل 5أ؛ الشعاع الضوئي الذي ينشاً في وحدة تتبع التركيز 184 وتمر من خلال بصريات وحدة الانبعاثات البصرية 188 قد تنعكس قبالة خلية التدفق 504. كما هو موضح هناء وحدة تتبع التركيز 184 قد يتم تكوينها لتغذية معالج الكمبيوتر من أجل السيطرة على المحاذاة وتحديد مواقع المكونات البصرية في جميع أنحاء النظام 180. على سبيل المثال؛ قد تستخدم وحدة تتبع التركيز 184 آلية التركيز باستخدام اثنين أو أكثر من الأشعة الضوئي المتوازية parallel light beams تمر عبر الهدف 404 وتنعكس قبالة خلية التدفق 504. حركة خلية التدفق بعيدا عن موقع التركيز الأمثل قد تتسبب في تغيير زاوية الأشعة المنعكسة reflected beams حيث أنها تخرج الهدف 404. يمكن قياس هذه الزاوية بمستشعر بصري يقع في وحدة تتبع
0 التركيز 184. في بعض الأمثلة؛ يمكن أن تكون مسافة مسار الضوءٍ بين سطح جهاز الاستشعار البصري والهدف 404 هي بين مسافة 300 مم و 700 مم. قد fai وحدة تتبع التركيز 184 حلقة التقييم باستعمال إشارة الناتج output signal من جهاز الاستشعار البصري للحفاظ على الفصل الجانبي المحدد مسبقا بين الأنماط أشعة البقعة لحزمتين متوازيتين أو أكثر من خلال ضبط موقع الهدف 404 باستخدام المرحلة 2 في وحدة الانبعاثتات البصرية.
5 بعض تطبيقات نظام 180 توفر طريقة تعويض لتصوير السطح أعلى وأسفل خلية التدفق 504. في بعض الأمثلة؛ خلية التدفق 504 قد تشمل غطاء زجاجي تم وضعه في طبقات على طبقة من السائل والركيزة. على سبيل المثال؛ قد يكون زجاج الغطاء بين حوالي 100 ميكرو متر وحوالي 0 ميكرو متر في السمك؛ وقد تكون الطبقة السائلة بين حوالي 50 ميكرو متر وحوالي 150 ميكرو متر في السمك؛ وقد تتراوح الركيزة بين 0.5 و 1.5 مم في السمك تقريبا. في أحد الأمثلة؛
0 يمكن إدخال عينة في السمك Aol وأسفل القناة السائلة liquid channel (على سبيل المثال» في الجزء العلوي من الركيزة؛ وأسفل غطاء الزجاج). لتحليل العينة؛ يمكن تعديل النقطة البؤرية لأشعة الضوء الساقطة في أعماق مختلفة من خلية التدفق 504 عن طريق تحريك المرحلة z (على سبيل المثال» للتركيز على yall العلوي من الركيزة أو أسفل غطاء الزجاج. حركة الهدف 404 لتغيير نقاط التنسيق لشعاع البؤّرة داخل خلية التدفق 504 قد تعرض تحف أو عيوب التصوير مثل
5 الاتحراف الكروي. لتصحيح هذه التحف أو العيوب؛ فإن عنصر العدسة 450 داخل العدسة الأنبوبية 406 يمكن تقله بالقرب أو بعيدا عن الهدف 404.
قد يتم تكوين وحدة تتبع التركيز 184 في بعض الأمثلة كوحدة قابلة للاستبدال الحقلي واحد مع عدم وجود مكونات داخلية قابلة للاستبدال. لزيادة طول العمر وموثوقية المكونات الداخلية وحدة
تتبع التركيز» مثل الليزرء قد يتم تخفيض انتاج الليزر (على سبيل المثال؛ أقل من 5 ميلي واط). توضح الأشكال 6 و7 هي مخططات وحدة توليد الخط 182 ووحدة الانبعاثات البصرية 188. كما هو مبين»؛ يمكن وحدة توليد الخط 182 التفاعل مع وحدة الانبعاثات البصرية 188 من خلال واجهة وحدة توليد الخط/وحدة الانبعاثات البصرية الصد 602. وحدة توليد الخط 182 هو مصدر الفوتون photon source للنظام 180. واحد أو أكثر من مصادر الضوءٍ (Ae) سبيل المثال؛ مصادر egal 650 و 660) يمكن وضعها داخل مغلف من وحدة توليد الخط 182. قد يتم توجيه الضوء المتولد من مصادر الضوءء 650 و 660 من خلال شعاع تشكيل العدسة 604 Als
0 المسار البصري للوحدة الانبعاتات البصرية 188 من خلال وحدة توليد الخط/وحدة الانبعاثات البصرية الصد 602. على سبيل المثال» مصدر spall 650 قد يكون الليزر الأخضر ومصدر الضوءء 660 قد يكون ليزر أحمر. قد تعمل أجهزة الليزر بأحمال عالية (على سبيل المثال؛ أكثر من 3 واط). يمكن تنفيذ واحد أو أكثر من أشعة تشكيل الشعاع 604 لتشكيل الأشعة الضوئية المولدة من مصادر الضوءٍ إلى الأشكال المطلوية (على سبيل المثال» خط).
5 قد تثير الفوتونات Photons الناتجة عن مصادر الضوء 650 و 660 Ae) سبيل المثال؛ فوتونات الطول الموجي PRY wavelength photons وفوتونات الطول الموجي | لأحمر) الفلوروفورات في الحمض (gal) النووي المنزوع الأكسجين الموجود على خلية التدفق 504 للتمكين من تحليل أزواج القاعدة الموجودة داخل الحمض الريبوزي النووي المنزوع الأكسجين. يستخدم إجراء التسلسل عالي السرعة المسح ذو السرعة العالية لتقديم جرعة فوتونية photon dose كافية لفوروفورات
0 الحمض الرببوزي النووي المنزوع الأكسجين؛ لتحفيز انبعاثات كافية من الفوتونات التفاعلية reactive photons من عينة الحمض الريبوزي النووي المنزوع الأكسجين ليتم الكشف عنها من قبل أجهزة استشعار الضوء في وحدة الكاميرا 186. عدسة تشكيل الشعاع 604 قد تكون عدسة بوال التي تنتشر ضوءٍ جاوس المنبعث من الليزر 650 و 660 في ملف موحد (في الاتجاه الطولي)؛ الذي يشبه خط. في بعض التطبيقات على سبيل
5 المثال؛ يمكن استعمال شعاع واحد يشكل عدسة 604 لأشعة ضوئية متعددة Ae) سبيل (Jd) الشعاع الضوئي الأحمر والأخضر) الذي قد يقع على الجزء الأمامي من عدسة تشكيل الشعاع
4 في زوايا مختلفة محددة سلفا (على سبيل المثال؛ زائد أو ناقص جزءِ من درجة) لتوليد خط منفصل من ضوء الليزر لكل شعاع الليزر واقع. يمكن فصل خطوط egal عن طريق مسافة محددة مسبقا للتمكين من الكشف الواضح عن الإشارات المنفصلة؛ المقابلة لكل شعاع ضوئي؛ من قبل المستشعرات البصرية متعددة في وحدة الكاميرا 186. على سبيل (JU قد يكون الشعاع الضوئي الأخضر في نهاية المطاف هو الذي يقع على أول المستشعرات البصرية في وحدة الكاميرا 186 والشعاع الضوئي الثاني قد يكون في نهاية المطاف هو الذي يقع على جهاز
الاستشعار البصري الثاني في وحدة الكاميرا 186. في بعض الأمثلة؛ قد تكون أشعة الضوء الأحمر والأخضر متزامنة/متداخلة لأنها تدخل عدسات تشكيل الشعاع 604 ومن ثم بدء الانتشار خارج أشكال الخط منها حيث أنها تصل الهدف 404. 0 موقع عدسة تشكيل الشعاع يمكن السيطرة عليها مع تحمل منخفض بالقرب أو على مقرية من مصادر الضوء 650 و 660 للتحكم في تباعد الأشعة وتحسين تشكيل الشعاع الضوئي؛ أي من خلال توفير شكل شعاع كافية (على سبيل المثال؛ طول الخط المسقط من قبل الشعاع الضوئي) في حين لا يزال تمكين شكل الشعاع الكامل للتمرير من خلال الهدف 404 دون أي ضوء. في بعض الأمثلة؛ المسافة بين عدسة تشكيل الشعاع 604 والهدف 404 هي أقل من حوالي 150
Abe 5 متر. في بعض التطبيقات؛ قد يشتمل النظام 180 كذلك على تجميع فرعي تركيبي له جيب لاستقبال الهدف البصري. قد يشمل الجسم الألمنيوم الذي يحتوي على صبغة ذات انعكاسية لا تزيد عن 0. قد يشمل الجسم منطقة خاملة inset region تقع على السطح العلوي وتحيط بالجيب. قد يتألف أيضا التجميع =A المرن من طبقة أرضية تشابكية شفافة transparent grating layer مثبتة في المنطقة الضمنية (Sarg وضعها فوق الهدف البصري وفصلها بعيدا عن الهدف البصري بفجوة هامشية fringe gap قد يتضمن الجسم جيبا لاستقبال الهدف البصري. قد يتضمن الجسم yy الانتشار diffusion well الذي يقع تحت الهدف البصري. بئر الانتشار قد يتلقى ضوء الإثارة excitation light الذي يمر من خلال الهدف البصري ٠. يمكن أن يشتمل بئر الانتشار على قاع البئر الذي يحتوي على الصبغة المعتمدة على المظهر الذي بشكل عاكس لا يزيد عن حوالي
5 6.0 يمكن أن تشمل (saa) التجميعات الفرعية التركيبية للنظام 180 أيضا كاشضف بصري optical
detection device الهدف 404 قد يبث con الإثارة نحو الهدف البصري وبتلقى انبعاثات فلورية من الهدف البصري. قد يتم تكوين المشغل لوضع الهدف 404 إلى منطقة ذات أهمية قريبة من الهدف البصري. قد ينفذ المعالج بعد ذلك تعليمات البرنامج للكشف عن انبعاثات فلورية من الهدف البصري في اتصال مع واحد على الأقل من المحاذاة البصرية ومعايرة الجهاز.
في بعض الأمثلة؛ الهدف 404 قد يوجه ضوء الإثارة على الهدف البصري. قد يستمد المعالج معلومات مرجعية من انبعاثات فلورية. قد يستخدم المعالج المعلومات المرجعية في اتصال مع أقل واحد من المحاذاة البصرية ومعايرة الجهاز. يمكن أن يكون الهدف البصري مثبتا بشكل دائم في موقع المعايرة بالقرب من الهدف 404. قد يكون موقع المعايرة calibration location منفصلا عن خلية التدفق 504. قد يمثل الجسم الصلب ركيزة تحتوي على مادة مضيفة صلبة solid host
material 0 مع مادة الفلورسنت fluorescing material المضمنة في المادة المضيفة. قد يمثل الجسم الصلب على الأقل واحد من الايبوكسي epoxy أو البوليمر الذي يرفق النقاط الكمومية quantum 5 التي تبعث التفلور في واحد أو أكثر من نطاق الانبعاثتات emission bands المحددة سلفا محل الاهتمام عند المشع بواسطة ضوء الإثارة. الشكل 8 هو مخطط يوضح مثال لعملية تركيب وتكوين نظام التحليل البصري التركيبي 800. قد
5 تشمل العملية 800 وضع عدد وافر من مصادر الضوءٍ وعدسة تشكيل الشعاع ضمن التجميع الفرعي الأول في الخطوة 805. على سبيل (JU) عدد من مصادر الضوء قد تشمل مصدر الضوء 650 ومصدر الضوءٍ 660. قد يكون التجميع الفرعي الأول وحدة توليد الخط التي قد يشمل مغلف وحدة توليد الخط الذي إليه يتم تركيب ومحاذاة مصادر الضوء. قد تكون عدسة تشكيل الشعاع هي عدسة بوال؛ التي شنت أيضا داخل مغلف وحدة توليد الخط ويتم تكوينه
20 لتشكيل أشعة الضوء التي تنتجها مصادر الضوء 650 و 660 في أنماط خط منفصل. قد تشمل العملية 800 أيضا وضع العدسة الأنبوبي والهدف ضمن التجميع الفرعي الثاني في الخطوة 815. على سبيل المثال؛ قد يكون التجميع الفرعي الثاني هو sang الانبعاثات البصرية؛ وقد يتضمن مغلف وحدة الانبعاثات البصرية الذي إليه يتم تركيب العدسة الشيئية والأنبوبية عليها ومحاذاتها.
5 يمكن أن تشمل العملية 800 أيضا وضع عدد كبير من المستشعرات البصرية ضمن التجميع الفرعي الثالث في الخطوة 825. على سبيل المثال؛ قد يكون التجميع الفرعي الثالث وحدة الكاميراء
ويمكن أن يتضمن مغلف وحدة الكاميرا الذي إليه يتم محاذاة المستشعرات البصرية وتركيبها. قد يكون هناك مستشعر بصري مقابل لكل مصدر ضوء من الخطوة 805. قد تشمل العملية 800 أيضا تحديد مصدر ضوءٍ تتبع التركيز وجهاز الاستشعار البصري ضمن التجميع الفرعي الرابع في الخطوة 835. على سبيل (JU) قد يكون التجميع الفرعي الرابع عبارة عن وحدة تتبع التركيز وقد يتضمن مغلف وحدة تتبع التركيز الذي إليه يتم تركيب مصدر ضوء التركيز البؤري وجهاز الاستشعار البصري. في بعض التطبيقات»؛ قد تشمل العملية 800 كذلك اختبار كل تجميع فرعي على حدة في الخطوة 5. على سبيل المثال؛ قد يتضمن الاختبار ضبط و / أو محاذاة المكونات الداخلية لكل تجميع فرعي إلى مغلف التجميع الفرعي بدقة. يمكن بعد ذلك أن يقترن كل تجميع فرعي ميكانيكيا بلوحة 0 التركيب الدقيقة في الخطوة 855. على سبيل (JU قد تكون لوحة التركيب الدقيقة هي لوحة التركيب الدقيقة190. يمكن بعد ذلك محاذاة النظام بأكمله وتعديله عن طريق تشغيل مصدر ضوءٍ تتبع التركيز في التجميع الفرعي الرابع والتقاط إشارة الإخراج من مستشعر بصري لتتبع التركيز من التجميع الفرعي الرابع للعثور على التركيز الأمثل للهدف البصري. قد يتم إدخال إشارة الإخراج من الهدف في معالج كمبيوتر الذي تم تكوينه لتحليل خصائص الحزم الضوئية الناتجة عن مصدر 5 ضوء تتبع التركيز» ومن ثم تقديم تقييم للمشغلات على واحد أو أكثر من التجميعات الفرعية؛ أو إلى واجهة المستخدم التخطيطية لتمكين ضبط المكونات البصرية لتحسين شكل الشعاع؛ والطاقة؛ والتركيز . كما ذكر أعلاه؛ في مختلف التطبيقات يمكن استخدام المحرك لوضع مرحلة العينة بالنسبة للمرحلة البصرية عن طريق إعادة وضع إما مرحلة العينة أو المرحلة البصرية (أو أجزاء منها)؛ أو كليهما لتحقيق إعداد التركيز المطلوب. في بعض التطبيقات؛ يمكن استخدام محركات كهرضغطية piezoelectric actuators لتحريك المرحلة المطلوية ٠ في تطبيقات أخرى ٠ يمكن استخدام مشغل لفائف الصوت voice coil actuator لتحربك المرحلة المطلوية. في بعض التطبيقات؛ فإن استخدام مشغل لفائف الصوت يمكن أن يوفر خفض في كمون التركيز focusing latency بالمقارنة مع نظرائه الكهرضغطية piezoelectric counterparts بالنسبة للتطبيقات التي تستخدم مشغل لفائف 5 الصوت؛ يمكن اختيار حجم الملف كحد أدنى لحجم الملف المطلوب لتوفير الحركة المطلوية بحيث يمكن أيضا الحد من الحث inductance في الملف. الحد من حجم ald) ويالتالي الحد من
الحث؛ ويوفر أوقات أسرع للتفاعل ويتطلب جهد أقل لدفع المحرك. كما هو موضح أعلاه؛ وبيغض النظر عن المشغل المستخدم؛ يمكن استخدام معلومات التركيز من نقاط أخرى غير موقع العينة الحالي لتحديد المنحدر أو حجم التغيير في إعداد التركيز لعمليات المسح. يمكن استخدام هذه المعلومات لتحديد ما إذا كانت لتغذية إشارة محرك الأقراص drive signal 5 إلى المشغل في وقت سابق وكيفية ضبط معلمات إشارة محرك الأقراص. بالإضافة إلى ذلك؛ في بعض التطبيقات؛ يمكن معايرة النظام مسبقا للسماح بتحديد الحدود القصوى لمحرك الأقراص للمشغل. على سبيل المثال؛ يمكن تكوين النظام لتوفير إشارات محرك التشغيل actuator drive signals على مستويات مختلفة من مخرجات التحكم control output لتحديد أعلى قدر من مخرجات التحكم (على سبيل المثال؛ الحد الأقصى لكمية محرك الأقراص الحالي) الذي يمكن 0 للمحرك من التحمل دون أن يكون غير مستقر. هذا يمكن أن يسمح للنظام بتحديد الحد الأقصى من كمية مخرجات التحكم ليتم تطبيقها على المحرك. كما هو مستخدم هناء فإن مصطلح المحرك قد يصف Bang معينة من الوظائف التي يمكن القيام بها وفقا لتطبيق واحد أو أكثر من التكنولوجيا التي تم الكشف عنها هنا. كما هو مستخدم هناء قد يتم تطبيق المحرك باستخدام أي شكل من أشكال الأجهزة؛ والبرمجيات» أو مزيج منها. على سبيل المثال؛ قد يتم تطبيق واحد أو أكثر من المعالجات أو وحدات التحكم controllers أو دوائر تطبيق نوعية متكاملة «(application specific integrated circuits (ASICs مصفوفات منطقية قابلة للبرمجة logic array (PLAs عاطقس«م:عم:م)؛ منطقيات صفيفة قابلة للبرمجة programmable (array logic (PALs ¢ أجهزة منطقية معقد قابل للبرمجة complex programmable logic device 15©))؛ مصفوفات بوابة حقل قابلة للبرمجة (field programmable gate array (FPGAs » أو 0 مكونات منطقية logical components أو برامج روتينية software routines أو آليات أخرى لتكوين المحرك ٠ في التطبيق»؛ قد يتم تطبيق مختلف المحركات الموصوفة هنا كالمحركات المنفصلة أو الوظائف والميزات التي تم وصفها يمكن أن تكون مشتركة في جزءِ أو في مجموع بين محرك واحد أو أكثر . بعبارة أخرى؛ كما هو واضح لأحد المهرة العاديين في الفن بعد قراءة هذا الوصف؛ يمكن تنفيذ مختلف الميزات والوظائف الموصوفة هنا في أي تطبيق معين ويمكن تنفيذها 5 في واحد أو أكثر من المحركات المنفصلة أو المشتركة في مجموعات مختلفة وبالتبادل. على الرغم من أن العديد من الميزات أو عناصر الأداء الوظيفي يمكن وصفها بشكل فردي أو تكون موجودة
في عناصر الحماية على أنها محركات منفصلة؛ فإن أحد المهرة العاديين في الفن سوف يفهم أن هذه الميزات والوظائف يمكن أن تكون مشتركة بين واحد أو أكثر من البرامج المشتركة وعناصر الأجهزة؛ وهذا الوصف لا يتطلب أو يشير ضمنا إلى أن مكونات الأجهزة أو البرامج المنفصلة تستخدم لتطبيق هذه الميزات أو الوظائف.
في الحالات التي فيها يتم تطبيق مكونات أو محركات التكنولوجيا كليا أو جزئيا باستخدام البرمجيات؛ في أحد التطبيقات؛ يمكن تطبيق عناصر البرامج هذه للعمل بمحرك حاسوبي أو معالجة قادر على أداء الوظيفة الموصوفة Lad يتعلق بها. JU على ذلك هو محرك الكمبيوتر الظاهر في الشكل 9. مختلف التطبيقات تم وصفها من حيث هذا JU من محرك الكمبيوتر 0. بعد قراءة هذا الوصف؛ سوف يصبح من الواضح للشخص الماهر في الفن ذات الصلة
0 كيفية تنفيذ التكنولوجيا باستخدام محركات الكمبيوتر الأخرى أو الأبنية. بالإشارة الآن إلى الشكل 9 قد يمثل محرك الكمبيوتر 900؛ على سبيل (JE قدرات الكمبيوتر أو المعالجة الموجودة داخل أجهزة الكمبيوتر المكتبية والمحمولة وأجهزة الكمبيوتر المحمولة؛ (PDAS) والهواتف الذكية؛ والهواتف الخلوية؛ وأجهزة الكمبيوتر الشخصية؛ وما إلى ذلك)؛ أو الحواسيب الفائقة؛ أو محطات العمل cworkstations أو الخوادم sservers أو أي نوع AT من 5 أجهزة الكمبيوتر ذات الأغراض الخاصة أو الأغراض العامة التي قد تكون مرغوبة أو مناسبة لتطبيق أو بيئة معينة. قد يمثل محرك الكمبيوتر 900 أيضا إمكانيات حاسوبية مضمنة داخل جهاز معين أو غير متاحة له. على سبيل (J يمكن العثور على محرك كمبيوتر في Seal إلكترونية أخرى»؛ مثل الكاميرات الرقمية وأنظمة الملاحة navigation systems والهواتف الخلوية وأجهزة الحوسبة المحمولة وأجهزة المودم modems والموجهات routers و دبليو أيه بي أس WAPs 0 والمحطات الطرفية terminals وغيرها من الأجهزة الإلكترونية التي قد تتضمن شكلا من أشكال المعالجة الممكنة. قد يتضمن محرك الكمبيوتر 900؛ على سبيل (JU واحد أو أكثر من المعالجات أو وحدات التحكم أو محركات التحكم control engines أو غيرها من أجهزة المعالجة مثل المعالج 904. ويمكن تنفيذ المعالج 4 باستخدام محرك معالجة processing engine للأغراض العامة أو 5 لأغراض خاصة (ie معالج دقيق :0110:00:068880؛ وحدة تحكم؛ أو منطق تحكم آخر. في Jal) التوضيحي؛ يتم توصيل المعالج 904 بالحافلة 902؛ على الرغم من أن أي وسيلة اتصال
communication medium يمكن استخدامها لتسهيل التفاعل مع المكونات الأخرى لمحرك الكمبيوتر 900 أو التواصل خارجيا. قد يتضمن محرك الكمبيوتر 900 محركا واحدا أو أكثر من محركات الذاكرة (memory engines التي يشار Lad) هنا على أنها الذاكرة الرئيسية 908. على سبيل (JU) يمكن استخدام ذاكرة الوصول العشوائي (random access memory (RAM المفضلة أو ذاكرة ديناميكية dynamic (gyal memory لتخزين المعلومات والإرشادات التي سيتم تنفيذها بواسطة المعالج 904. يمكن أيضا استخدام الذاكرة الرئيسية 908 لتخزين المتغيرات المؤقتة أو المعلومات الوسيطة الأخرى أثناء تنفيذ التعليمات التي يتعين تنفيذها بواسطة المعالج 904. يمكن أن يشتمل محرك الكمبيوتر 900 أيضا على ذاكرة للقراءة فقط (‘read only memory ("ROM أو أي جهاز تخزين ثابت static HAT storage device 0 مقترن بالحافلة 902 لتخزين معلومات ثابتة وتعليمات للمعالج 904. قد يتضمن محرك الكمبيوتر 900 أيضا واحدا أو أكثر من أشكال مختلفة من آلية تخزين المعلومات 910 Allg cinformation storage mechanism قد (dads على سبيل (Jul محرك الوسائط 912 media drive واجهة وحدة التخزين 920 storage unit interface محرك الوسائط 2 قد يتضمن محرك أقراص أو آلية أخرى لدعم ثابت أو وسائط تخزين قابلة للإزالة 914. على (Jl Jus 5 قد يتم توفير محرك أقراص hard disk drive dul أو محرك أقراص مرنة floppy disk drive أو محرك أقراص مغناطيسية magnetic tape drive أو محرك أقراص ضوئية optical disk drive أو قرص مضغوط (compact disk (CD أو أقرارص دي في دي DVD (R أو آر دبليو (RW أو محرك أقراص وسائط آخر قابل للإزالة أو ثابت. بناء على ذلك؛ قد تشمل وسائط التخزين 914 «storage media على سبيل (JU) قرصا صلبا أو قرصا مرنا أو شريطا 0 مغناطيسيا magnetic tape خرطوشة أو قرصا ضوئيا أو قرص مضغوط أو 0170 أو أي وسيلة ثابتة أو قابلة للإزالة أخرى يتم قراءتها بوسط مكتوب أو يتم الوصول إليها بواسطة محرك أقراص الوسائط 912. كما توضح هذه الأمثلة؛ يمكن أن تشمل وسائط التخزين 914 وسيطا للتخزين يمكن استخدامه في الحاسوب؛ قد تم تخزين برامج حاسوبية أو البيانات فيه. في عمليات التطبيق البديلة؛ يمكن أن تتضمن آلية تخزين المعلومات 910 أدوات أخرى Liles 5 تسمح بتركيب برامج حاسوبية أو تعليمات أو بيانات أخرى في محرك الكمبيوتر 900. يمكن أن تشمل هذه الأدوات» على سبيل المثال» وحدة تخزين ثابتة أو قابلة للإزالة 922 ووصلة 920.
يمكن أن تشمل أمثلة وحدات التخزين 922 storage units هذه والواجهات 920 واجهة خرطوشة البرنامج program cartridge والخرطوشة؛ أو ذاكرة AL للإزالة Ae) سبيل المثال؛ ذاكرة فلاشض flash memory أو محرك ذاكرة memory engine قابل للإزالة) وفتحة الذاكرة وفتحة بي سي al سي آي أيه PCMCIA ويطاقة تخزين أخرى ثابتة أو ALE للإزالة وحدات 922 والواجهات 920 التي تسمح البرامج والبيانات لنقلها من وحدة التخزين 922 لمحرك الكمبيوتر 900. قد يتضمن محرك الكمبيوتر 900 أيضا واجهة اتصالات 924 .communications interface يمكن استخدام واجهة اتصالات 924 للسماح Ja البيانات والبيانات بين الكمبيوتر المحرك 900 والأجهزة الخارجية. قد تتضمن الأمثلة واجهة اتصالات 924 مودم أو مودم لين softmodem وواجهة شبكة network interface (مثل cui fil أو بطاقة واجهة الشبكة cnetwork interface card
0 أو WiMedia, IEEE 802.XX أو واجهة أخرى) ومنفذ اتصالات communications port (على سبيل المثال منفذ يو أس بي USB ومنفذ آي آر IR ¢ منفذ آر أس 232 85232 واجهة بلوتوث؛ أو منفذ آخر)ء أو غيرها من واجهة الاتصالات. يمكن أن تنقل البرامج والبيانات المنقولة عبر السطح البيني الاتصالات 924 على إشارات يمكن أن تكون إلكترونية أو كهرمغنطيسية (تتضمن إشارات بصرية) أو إشارات أخرى يمكن تبادلها بواجهة اتصالات معينة 924. يمكن توفير هذه
5 الإشارات لواجهة الاتصالات 924 عن طريق القناة 928. قد تحمل هذه القناة 928 إشارات Sass تنفيذها باستخدام وسط اتصال سلكي أو لاسلكي. قد تتضمن بعض الأمثلة على قناة خط هاتف أو وصلة خلوية cellular link أو وصلة آر أف RF أو وصلة بصرية optical link أو واجهة شبكة أو شبكة منطقة محلية أو daly وقنوات اتصال communications channels سلكية أو لاسلكية أخرى .
0 في هذه الوثيقة؛ يتم استخدام المصطلح 'وسط malin الكمبيوتر" و "وسط الكمبيوتر القابل للإستعمال" للإشارة عموما إلى وسائط مثل الذاكرة 908 وحدة التخزين 922 الوسائط 914؛ والقناة 928. هذه الأشكال المختلفة الأخرى من قد تكون وسائط برنامج الكمبيوتر أو وسائط الكمبيوتر القابلة للاستخدام في حمل تسلسل واحد أو أكثر من تعليمات أو أكثر إلى جهاز معالجة processing device للتنفيذ. هذه التعليمات التي تجسد على الوسط يشار إليها عموما باسم 'رمز
5 برنامج الحاسوب" أو 'منتج برنامج حاسوبي" (Sa) تجميعه في شكل برامج حاسوبية أو مجموعات أخرى). عند تنفيذ هذه الإرشادات؛ قد يمكن محرك الكمبيوتر 900 من أداء ميزات أو وظائف تقنية
تم الكشف عنها كما تمت مناقشته هنا. على الرغم من وصف مختلف تطبيقات التكنولوجيا المبينة أعلاه؛ فإنه ينبغي أن يكون مفهوما أنها قد قدمت على سبيل المثال dad وليس على سبيل الحصر. بالمثل؛ فإن المخططات المختلفة قد تصور مثالا لتكوين معماري أو غيره من التكنولوجيا المفصح عنهاء والتي تتم للمساعدة في فهم الميزات والوظائف التي يمكن تضمينها في التكنولوجيا المفصح عنها. لا تقتصر التكنولوجيا التي تم الكشف عنها على أمثلة الأبنية أو التكوينات؛ ولكن يمكن تنفيذ الميزات المطلوبة باستخدام مجموعة متنوعة من الأبنية والتكوينات البديلة. في الواقع سوف يكون واضحا لأحد المهرة في الفن كيف يتم تطبيق الوظيفة البديلة؛ منطقية أو التقسيم المادي والتكوبنات يمكن تنفيذها لتنفيذ الميزات المرجوة من التكنولوجيا التي تم الكشف عنها هنا. أيضاء العديد من مختلف أسماء المحرك المكونة 0 بخلاف تلك الموصوفة هنا يمكن تطبيقها على أقسام مختلفة. بالإضافة إلى ذلك؛ وفيما يتعلق بالرسوم البيانية للتدفقات والأوصاف التشغيلية وعناصر حماية الطريقة؛ فإن الترتيب الذي ترد فيه الخطوات الواردة في هذه الوثيقة لا يجيز تنفيذ مختلف التطبيقات لأداء الوظيفة المكررة بالترتيب نفسه ما لم ينص السياق على خلاف ذلك. ينبغي أن يكون من المفيد أن تكون جميع مجموعات المفاهيم السالفة الذكر (شريطة أن تكون هذه 5 المفاهيم غير متناسقة) جزءا من الموضوع الابتكاري المكشوف هنا. على وجه الخصوص؛ فإن جميع مجموعات المواضيع المطالب بحمايتها والتي تظهر في نهاية هذا الكشف تعتبر جزءا من الموضوع الابتكاري المكشوف هنا. على سبيل المثال» على الرغم من أن التكنولوجيا المفصح عنها تم وصفها أعلاه في الأمثلة التطبيقات المختلفة؛ ينبغي أن يكون مفهوما أن مختلف السمات والجوانب والوظائف الموصوفة في واحد أو أكثر من التطبيقات الفردية لا تقتصر على قابليتها 0 لللتطبيق في تطبيق محدد الذي تم وصفهم معه؛ لكن بدلا من ذلك يمكن تطبيقه؛ بمفرده أو في توليفات مختلفة؛ على واحد أو أكثر من التطبيقات الأخرى للتكنولوجيا التي تم الكشف عنهاء سواء تم وصف مثل هذه التطبيقات أم لا وعما إذا كانت هذه الخصائص معروضة كجزءِ من وصف التطبيق. بالتالي؛ لا ينبغي أن يقتصر اتساع ونطاق التكنولوجيا المكشوف عنها هنا بأي من الأمثلة المذكورة أعلاه على عمليات التنفيذ. 5 ينبغي تفسير المصطلحات والعبارات المستخدمة في هذا المستند؛ والاختلافات بينهاء ما لم ينص صراحة على خلاف ذلك؛ على أنها مفتوحة المدى بدلا من الحد منها. كأمثلة على ما سبق: ينبغي
أن يقرأ مصطلح "بما في ذلك" على أنه يعني Lf في ذلك؛ دون حصر” أو ما شابه ذلك؛ يستخدم مصطلح "Jl لتقديم أمثلة عن هذا البند في المناقشة؛ وليس قائمة شاملة أو مقيدة منها؛ ينبغي أن يقرأ المصطلحان " د" أو ean" أنهما 'واحد على الأقل" أو 'واحد أو أكثر" أو ما شابه ذلك؛ ولا ينبغي تفسير صفات مثل "التقليدية" و " المألوفة" و "العادية" و "المعيارية" و "المعروفة" وشروط المعنى المماثل بأنها تحد من البند الموصوف لفترة زمنية معينة أو إلى بند متاح اعتبارا من ولكن بدلا من ذلك ينبغي قراءتها لتشمل التقنيات التقليدية أو المألوفة أو العادية أو القياسية التي قد تكون متاحة أو معروفة الآن أو في أي وقت في المستقبل. بالمثل» حيث تشير هذه الوثيقة إلى التكنولوجيات التي يمكن أن تكون واضحة أو معروفة لأحد المهرة العاديين في «all وتشمل
هذه التكنولوجيات تلك الظاهرة أو المعروفة للحرف المهرة الآن أو في أي وقت في المستقبل.
0 تستخدم المصطلحات "بشكل جوهري"” و "حول" المستخدمة في هذا الكشف؛ بما في ذلك عناصر الحماية؛ لوصف وحساب التقلبات الصغيرة؛ وذلك بسبب الاختلافات في المعالجة. على سبيل (Jal يمكن أن تشير إلى أقل من أو تساوي + 75 Jie أقل من أو تساوي + 72 مثل أقل من أو تساوي + 71 مثل أقل من أو تساوي + 70.5؛ مثل أقل من أو يساوي + 70.2 Jie أقل من أو يساوي + 70.1 مثل أقل من أو يساوي + 70.05.
5 إلى الحد الذي يمكن تطبيقه؛ يتم استخدام المصطلحات ألا" و 'ثانيا" و "EE وما إلى ذلك في هذه الوثيقة فقط لإظهار الأشياء ذات الصلة الموصوفة بهذه المصطلحات ككيانات منفصلة؛ وليس المقصود منها أن تشير إلى الإحساس بالترتيب الزمني؛ ما لم يكن ينص صراحة على خلاف ذلك. يشير المصطلح 'مقترن" إلى التوصيل المباشر أو غير المباشر أو الربط أو الارتباط أو الاتصال أو الوصل؛ وقد يشير إلى أشكال مختلفة من الاقتران مثل الوصلات المادية أو البصرية أو
0 الكهربائية أو السوائل أو الميكانيكية أو الكيميائية أو المغناطيسية أو الكهرومغناطيسية أو التواصلية أو اقتران آخرء أو مزيج مما سبق. في حالة تحديد شكل واحد من الاقتران؛ لا يعني ذلك استبعاد أشكال أخرى من الاقتران. على سبيل المثال؛ قد يشير عنصر واحد مرتبط فعليا بمكون آخر إلى ارتباط فعلى بين المكونين أو الاتصال به (بشكل مباشر أو غير مباشر)؛ ولكنه لا يستبعد أشكالا أخرى من اقتران بين المكونات مثل؛ على سبيل (JU) وصلة اتصالات Ae) سبيل RE «Jud
5 أو وصلة بصرية) أيضا اقتران التووصل بين العنصرين. cially فإن المصطلحات المختلفة نفسها لا يقصد منها أن تكون متبادلة. على سبيل المثال» اقتران فلويديك (fluidic coupling الاقتران
المغناطيسي أو الاقتران الميكانيكي» من بين أمور أخرى؛ قد يكون شكل من أشكال الاقتران
المادية.
لا يجوز قراءة كلمات وعبارات واسعة مثل 'واحد أو RT "على الأقل”؛ "على سبيل المثال لا
الحصر” أو عبارات أخرى مماثلة في بعض الحالات على أنها تعني أن الحالة الضيقة المقصودة أو مطلوية في الحالات التي قد تكون العبارات الواسعة غير موجودة. استخدام مصطلح "المحرك"
لا يعني أن المكونات أو وظيفة وصفها أو عناصر الحماية كجزءِ من المحرك تم تكوينها كلها في
شعاع مشتركة. في الواقع؛ يمكن الجمع بين أي أو كل المكونات المختلفة للمحرك؛ سواء منطق
التحكم أو المكونات الأخرى؛ في شعاع واحدة أو الحفاظ على حدة ويمكن زيادة توزيعها في
مجموعات أو dail متعددة أو عبر مواقع متعددة.
0 بالإضافة إلى ذلك؛ يتم وصف مختلف التطبيقات المنصوص عليها هنا من حيث الرسوم البيانية كتلة نموذجية؛ الرسوم البيانية والرسوم التوضيحية الأخرى. كما سيصبح واضحا للمهرة العاديين في الفن بعد قراءة هذه الوثيقة؛ والتطبيقات المصورة وبدائلها المختلفة يمكن تنفيذها دون التقييد بالأمثلة المصورة. على سبيل المثال؛ لا ينبغي تفسير مخططات الكتلة والوصف المصاحب لها على أنها فرض بنية أو تكوين معين.
قائمة التتابع: وحدة تتبع التركيز اب" وحدة الانبعاتات البصرية جٍِ عدسة شيئية
منظر علوي "و" أل جى LGM al "yg المستقطب 'ز الليزر الأخضر td الليزر الأحمر
لط" عدسة تباين اختيارية 'ي قفل
الى" عدسة بوال "J مرآة PZT ُو شعاع التعريف io عدسة التصوير اس" المخفف 'e! شعاع الجمع بن مراحل ترجمة العناصر البصرية المتحركة/المتصاعدة وأهداف المحاذاة "ص" أهداف المحاذاة 0G أثار التقييم/المراقبة على شعاع التعريف "J 0 منظر علوي لش" الليزر ات" أيه بى AP "ey دى DM af a أمامي 5 لذ" منظر من الجهة اليسرى Ld خلية التدفق 1 الهدف 'ب "1 ليزر الإثارة lg مظهر جانبي مستوى الهدف د" للتصوير "و [" PL عدسات بوال و1 :M مرأة 'ز 1" 5: قفل "ح1" .| :DM مرآة مزدوجة اللون 5 اط" ©م: المخفف أو المستقطب lg ©5: خلية gall
"Tel مستوى التقاطع 1d منظر جانبي 14" أوه أل OL 1" أف سى FC 5 س1" اتجاه 2< "Is" تكبير الاتجاه X 'اف1" - تكبير الاتجاه 7 "loa اتجاه 7< 'ق1" 4: ازدواج اللون ec\em 0 (ر1" 1: العدسات الشيئية TE وحدة الانبعاثات البصرية: انبعاث ات 1" وحدة البصربات PL "Td 805 التخلص من قطبية مصادر الضوءٍ وعدسة تظليل الشعاع ضمن التجمع الفرعي الأول 815 التخلص من عدسة الأنبوبية والهدف ضمن التجمع الفرعي الثاني 825 التجمع الفرعي المستشعرات البصرية ضمن التجمع الفرعي الثالث 835 التخلص من مصدر الضوءٍ تتبع التركيز والمستشعرات البصرية ضمن التجمع الفرعي الرابع 0 845 اختبار ومحاذاة كل تجمع فرعي 855 الازدواج الميكانيكي لكل تجمع فرعي مع لوحة دقة التجميع 865 ضبط المواقع ومحاذاة المكونات الضوئية القابلة للتعديل الداخلية ضمن كل تجمع فرعي 902 حافلة 5 904 معالج 908 الذاكرة الأساسية
910 آلية التخزين 912 محرك الوسائط 914 وسائط التخزين 920 واجهة وحدة التخزين 922 وحدة التخزين 924 واجهة اتصالات 928 قناة
Claims (1)
- عناصر الحماية1- نظام تصوير cimaging system يتضمن:عدسة شيئية ‘objective lens ووحدة توليد خط cline generation device تشتمل على:مصدر ضوءٍ light source أول منبعث منه الشعاع الضوئي light beam الأول في الطول الموجيwavelength 5 الأول؛مصدر ضوءٍ light source ثاني المنبعث منه الشعاع الضوئي light beam الثاني في الطولالموجي wavelength الثاني؛ وواحد أو أكثر من خطوط تشكيل البصريات line forming optics لتشكيل الشعاع الضوئي lightlight beam الأول في الخط والشعاع الضوئي light source المنبعث من مصدر الضوء beam الثاني في الخط؛ light source المنبعثين من مصدر الضوء 0حيث تقوم العدسة الشيئية objective lens بتركيز الشعاع الضوئي light beam الأول والشعاعالضوئي light beam الثاني في نقطة بؤرية focal point خارجية لعينة لهيكل أخذ العينات¢sampling structure وحيث يتم زيادة عرض خط الشعاع الضوئي light beam الأول إلى كثافة قدرة إجمالية أقل للشعاع الضوئي light beam الأول على سطح هيكل أخذ العينات sampling structure بحيث تكون كثافةالقدرة للشعاع الضوئي light beam الأول على سطح هيكل أخذ العينات sampling structure أقلمن الحد الأدنى للتشبع الضوئي photosaturation للصبغة الأولى للعينة.2- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث يشتمل هيكل أخذ العينات sampling structure 0 على لوحة غلاف ccover plate ركيزة csubstrate وممر سائل liquidliquid حيث يتضمن الممر السائل csubstrate والركيزة cover plate بين لوحة الغلاف passagepassage سطح داخلي علوي وسطح داخلي سفلي؛ وتقع dual) على السطح الداخلي العلوي أو فيالسطح الداخلي السفلي للممر السائل liquid passage3- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 2« يشتمل أيضاً على: مستشعر تكامل fluorescence للكشف عن انبعاثات فلورية (TDI) time delay integration sensor تأخير زمني 8 من العينة؛ حيث يكون لمستشعر تكامل تأخير زمني time delay integration sensor حجم بكسل بين حوالي 5 ميكرومتر وحوالي 15 ميكرومتر؛ وعرض المستشعر sensor بين حوالي0.4 مم وحوالي 0.8 cae وطول المستشعر :80080 بين حوالي 16 مم وحوالي 48 مم. 4- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 3؛ يشتمل Load على: المرحلة z لتوضيح الهدف لضبط عرض خط الشعاع الضوئي light beam الأول وضبط عرض خط الشعاع. الثاني light beam الضوئي 10 5- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 4؛ يشتمل أيضاً على: المعالج ¢processor و وسط لقراءة كمبيوتر غير عابر non-transitory computer readable medium مع تعليمات كمبيوتر ALG للتنفيذ متضمنة فيه؛ تم تكوين تعليمات الكمبيوتر القابلة للتنفيذ لتسبب النظام إلى: 5 تحديد جودة إشارة من مستشعر تكامل تأخير زمني ‘time delay integration sensor توضيح الهدف في المحور 7 لضبط النقطة البؤرية focal point وتحسين جودة الإشارة من مستشعر تكامل تأخير زمني 5605017 -time delay integration 6- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 2 حيث أن عرض خط الشعاع 0 الضوئي light beam الأول وعرض خط الشعاع الضوئي Tight beam الثاني بين حوالي 10 ميكرومتر وحوالي 30 ميكرومتر. 7- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 2 يشتمل كذلك على واحدة أو FET من بصريات اتساع الخط line widening optics لزيادة عرض خط الشعاع الضوئي light beam 5 الأول وعرض خط الشعاع الضوئي light beam الثاني.— 8 4 — 8- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 7( حيث تشتمل الواحدة أو أكثر من بصريات اتساع الخط line widening optics على عدسة تباين defocus lens منشور eprism أو ناشر diffuser 5 9- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 1؛ يشتمل كذلك على : مستشعر بصري optical sensor حيث ركز العدسة الشيئية objective lens النقطة البؤرية focal point للمستشعر البصري optical sensor بهيكل أخذ العينات .sampling structure 0- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث يكون نظام التصوير imaging system 0 نظام تسلسل sequencing system حمض نووى ريبوزى منقوص الأكسجين ٠ (DNA) Deoxyribonucleic acid حيث يكون هيكل أخذ العينات sampling structure عبارة عن خلية تدفق flow cell 1- نظام imaging system gail وفقاً لعنصر الحماية 10 حيث تكون النقطة البؤرية focal point 15 أعلى السطح الداخلي العلوي لخلية التدفق flow cell أو أدنى السطح الداخلي السفلي لخلية التدفق flow cell 2- نظام التصوين imaging system وفقاً لعنصر الحماية 11؛ حيث تكون النقطة البؤرية focal point بين حوالي 50 ميكرومتر وحوالي 150 ميكرومتر تحت السطح الداخلي السفلي لخلية 0 التدفق flow cell أو بين 50 ميكرومتر و 150 ميكرومتر أعلى السطح الداخلي العلوي لخلية التدفق flow cell 3- نظام تصوير imaging system يتضمن: عدسة شيئية ‘objective lens و وحدة توليد خط cline generation device تشتمل tleمصدر ضوءٍ light source أول منبعث منه الشعاع الضوئي light beam الأول في الطول الموجي wavelength الأول؛ مصدر ضوءٍ light source ثاني المنبعث منه الشعاع الضوئي light beam الثاني في الطول الموجي wavelength الثاني؛ وواحدة أو أكثر من بصريات تشكيل الخط line forming optics لتشكيل الشعاع الضوئي light beam المنبعث من مصدر الضوء light source الأول في الخط والشعاع الضوئي light beam المنبعثين من مصدر الضوء light source الثاني في الخط؛ حيث تقوم العدسة الشيئية objective lens بتركيز الشعاع الضوئي light beam الأول والشعاع الضوئي light beam الثاني في نقطة بؤرية focal point خارجية لعينة لهيكل أخذ العيناتstructure 0 عمنادرسه؟؛ يشتمل هيكل أخذ العينات sampling structure على لوحة غلاف cover «plate ركيزة csubstrate وممر سائل بين لوحة الغلاف cover plate والركيزة substrate حيث يتضمن الممر السائل liquid passage سطح داخلي علوي وسطح داخلي سفلي؛ وتقع العينة على السطح الداخلي العلوي أو في السطح الداخلي السفلي للممر السائل ¢liquid passage و حيث تكون النقطة البؤرية focal point أدنى السطح الداخلي السفلي لممر التدفق liquid passage5 لزيادة عرض خط الشعاع الضوئي light beam الأول وعرض خط الشعاع الضوئي light beam الثاني عند السطح الداخلي العلوي لهيكل أخذ العينات .sampling structure4- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 13( حيث تكون النقطة البؤرية focal point بين حوالي 50 ميكرومتر وحوالي 150 ميكرومتر أدنى السطح الداخلي السفلي لهيكل أخذ0 العينات .sampling structure 5- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 14؛ حيث يكون طول خط الشعاع الضوئي light beam الأول وطول خط الشعاع الضوئي light beam الثاني بين حوالي 1 مم وحوالي 1.5 مم.25 6- نظام تصوير imaging system يتضمن:عدسة شيئية ‘objective lens و وحدة توليد خط cline generation device تشتمل على: مصدر ضوءٍ light source أول منبعث منه الشعاع الضوئي light beam الأول في الطول الموجي wavelength الأول؛مصدر ضوءٍ light source ثاني المنبعث منه الشعاع الضوئي light beam الثاني في الطول الموجي wavelength الثاني؛ و واحدة أو أكثر من بصريات تشكيل الخط line forming optics لتشكيل الشعاع الضوئي light beam المنبعث من مصدر الضوء light source الأول في الخط والشعاع الضوئي light beam المنبعثين من مصدر الضوء light source الثاني في الخط؛0 حيث تقوم العدسة الشيئية objective lens بتركيز الشعاع الضوئي light beam الأول والشعاع الضوئي light beam الثاني في نقطة بؤرية focal point خارجية لعينة لهيكل أخذ العينات sampling structure يشتمل هيكل أخذ العينات sampling structure على لوحة غلاف cover ¢plate ركيزة csubstrate وممر سائل aliquid passage لوحة الغلاف cover plate والركيزة Cus substrate يتضمن الممر السائل liquid passage سطح داخلي علوي وسطح داخلي سفلي؛5 وتقع العينة على السطح الداخلي العلوي أو في السطح الداخلي السفلي للممر السائل liquid ‘passage و حيث تكون النقطة البؤرية focal point أعلى السطح الداخلي العلوي لممر السائل liquid passage وذلك لزيادة عرض خط الشعاع الضوئي light beam الأول وعرض خط الشعاع الضوئي light beam الثاني عند السطح الداخلي العلوي لهيكل أخذ العينات .sampling structure7- نظام التصويرن imaging system وفقاً لعنصر الحماية 16( حيث تكون النقطة البؤرية focal point بين حوالي 50 ميكرومتر وحوالي 150 ميكرومتر أعلى السطح الداخلي العلوي لهيكل أخذ العينات .sampling structure86- نظام التصوير imaging system وفقاً لعنصر الحماية 17؛ حيث يكون طول خط الشعاع الضوئي light beam الأول وطول خط الشعاع الضوئي light beam الثاني بين حوالي 1 مم وحوالي 1.5 مم. 19- نظام تصوير imaging system يتضمن: عدسة شيئية ‘objective lens و وحدة توليد خط cline generation device تشتمل على: مصدر ضوءٍ light source أول منبعث منه الشعاع الضوئي light beam الأول في الطول الموجي wavelength الأول؛ 0 مصدر ضوءٍ light source ثاني المنبعث منه الشعاع الضوئي light beam الثاني في الطول الموجي wavelength الثاني؛ و واحدة أو أكثر من بصريات تشكيل الخط line forming optics لتشكيل الشعاع الضوئي light beam المنبعث من مصدر الضوء light source الأول في الخط والشعاع الضوئي light beam المنبعثين من مصدر الضوءٍ light source الثاني في الخط؛ و 5 واحدة أو أكثر من بصريات اتساع الخط line widening optics لزيادة عرض خط الشعاع الضوئي light beam الأول وعرض خط الشعاع الضوئي light beam الثاني؛ تشتمل الواحدة أو أكثر من بصريات اتساع الخط line widening optics على عدسة بوال Powell lens التي تم وضعها بعد عدسة التباين defocus lens في المسار البصري optical path من مصدر الضوء light source الأول ومصدر الضوءٍ light source الثاني إلى العدسة الشيئية ‘objective lens و حيث تقوم العدسة الشيئية objective lens بتركيز الشعاع الضوئي light beam الأول والشعاع الضوئي light beam الثاني في نقطة بؤرية focal point خارجية لعينة لهيكل أخذ العينات.sampling structure 0- نظام تصوير imaging system يتضمن: 5 عدسة شيئية ‘objective lens و وحدة توليد خط cline generation device تشتمل على:مصدر ضوءٍ light source أول منبعث منه الشعاع الضوئي light beam الأول في الطول الموجي wavelength الأول؛ مصدر ضوءٍ light source ثاني المنبعث منه الشعاع الضوئي light beam الثاني في الطول الموجي wavelength الثاني؛ وواحدة أو أكثر من بصريات تشكيل الخط line forming optics لتشكيل الشعاع الضوئي light beam المنبعث من مصدر الضوء light source الأول في الخط والشعاع الضوئي light beam المنبعثين من مصدر الضوء light source الثاني في الخط؛ حيث تقوم العدسة الشيئية objective lens بتركيز الشعاع الضوئي light beam الأول والشعاع الضوئي light beam الثاني في نقطة بؤرية focal point خارجية لعينة لهيكل أخذ العيناتstructure 0 عمناصصة؟؟؛ و حيث يتم زيادة عرض خط الشعاع الضوئي light beam الأول إلى كثافة قدرة إجمالية أقل للشعاع الضوئي light beam الأول على سطح العينة بحيث تكون كثافة القدرة للشعاع الضوئي light beam الأول على سطح العينة أقل من الحد الأدنى للتشبع الضوئي photosaturation للصبغة الأولى على العينة؛ وبحيث يتم زيادة عرض خط الشعاع الضوئي light beam الثاني إلى كثافة 5 قدرة إجمالية أقل للشعاع الضوئي light beam الثاني على سطح العينة بحيث تكون كثافة القدرة للشعاع الضوئي light beam الثاني على سطح العينة أقل من الحد الأدنى للتشبع الضوئي photosaturation للصبغة الثانية على العينة.٠ 5 3 — ان =[ و i د حدما - i د ]= NI | مجر را Le Pell fee] حا | | إ ب شكل iy— 5 4 — A TN xs SB Ji : ال EA لتر ل ل - 3 ANS za مس قي يا م الس لكل ا( ب Spline : 8 “ gy FARE / لقص :7ل SE. yo + ل = gl | يس الخو - oS, [ETI خب PTY مستا اح Topi] ELT للدي gw ARE eS ا IEE CY BIL دن ١ ر_ مضب ay LN EN ب١ شكل— 5 5 — مخ ال د pe EN 1 4 £ ee = a NS og LEE | ال " “م AN NA 0 و ل “>> لف يخ ١ ST بجت > راص <I> حك NN ds xX PE ص NN ANA = w= = a > ل بف pe = - : Bo i. %% Ee © ht NN rs = RN : > Sets 2 _ الب ا لتر سما > d \ Jed— 5 6 — ا RENEE [ed ETSI و ٌ 1 fo, 1 i % خمYE. تيا ليسا ل ; LE ب x 1 { + J Rb al Yk ل ل 1 ا 4ك اا اس الا Command ER PRET a ال 1 1 Verh bed i ! ا 1 وق } 1 i 1 rn 1 ا i pe 3 3 1 Youd ” 0 ; 1 4 & 1 1 إ trad / ERT EE Yaa ل | as لت 4 تسم مس ال زر اا ves,” | Pray] شكل اد== J TT ~ J = a Sm حبق “J “J “y «yp “ QS) - ra 2D ص ه١ شكل٠ 5 8 — لي “a سس" i at أي oe] He" pee frm | kd لا | شكل أو “J re — إل سم لين حدس تس لير حيسي اه سيل ce 3 حا _ هك رخاJ. = شكل JY— 5 9 — “® 8 3 i py " “ ١ 7 RE— . i = 1 يي | B&H ET feed 7 ١ 0 ١ مالا با ل شْ لطا لا | Tl ¢ # AD He fa 5 JE ow 0" ' 0“: - الا معي : : LA CO fee ١ 80 ol] = i lie BK » ّم ب «* م“ ما اا تت بن A 3 1 ل + xy 3 = & § rl = hY } . ١ شكل hy شكل 4" 3 كي 'd— 0 6 — "شن" I, ra ِ 1 ٍّ 7 SAYA i بل "ل و a اس mt med ee nT ساسا سد "لي "١ | ب شكل اي— 6 1 — RE oF A \ 3 ا 1 Vi 7 و خا ١ يسا> ... ا 1717/4 Yoo Ni [a] A =a 1 نا ا ااا 8 / Sy 20 ١ي Ye / | Wy “ ١ شن J y | \ “Vol 124 0 a ةق 1 اال فا ng I WF ك١ شكل ,_ 6 2 _ — Ss 3 0 DUN i — | U J 1 A 8 ' afd 0 ml الس | ed , Ere .——3 po ةا —— = yyy © مر اول ي لللسل || I— 6 3 — — سير ot 8 [i EE J لي 1 £3 i 3 a 5 و | 9 9 i TTT HE - نبالا i A شكل "ب يذ Jedi, ®g و va IR LAR ب 9 ا ] k d Se I © Q ماعن © gy شكل44 2 * YAMA VAY CP SN لبقت يكنا / Yn m 5 با :لبا كل ِ ميم اطي A I=) اوقا iH : Tam RERA النسسشسا2© | = ا w— oo BT NEE Re اس ا = لملللد لمم : We BA ed | erate g gu nes ll Of | ee ee TE TH [I Ty حم ككل ms Ree تح با gal TT اد AN 1-7 مان - امسا ٍ RL ذه ولاخ \ 'V4. و ten 4*5 fei it شكل int Bet to. £4 fe mn /ng - - 0 nn لل“ mw ا nn TCS TD 1 URANUS EL انما NE wif + I< > ب نك fed fe £07 £45 mane ١-١ n 100 111 £01 ل الا لا - لثالذا للا مآ 0 |S لآل لما Zé شكل— 6 5 — rg] | مز 1G aC) SEE ' Na] = J Naa enn: a na Ea SE ذا i g 0 1 —_— 0 bt i ; We o IPH تل — 1H EN F181 Bgl | i i hi Hi 1H AW. NE 0 i جب 8 | * | 4 حر a PSD. SE J ssc NG HEE RPL rp ال أ الل r= 1 LE ny رست > Oe mn | مسالا db سس !سسا د TEE ree > LIL (ii 1 “moe © od = هه | TL fal 12 68 : ge {Bir ee كه الوسر ١ ال[ 2 ا ل jo شكل , و وو و — ال" :8 ' :8 ب Bena Lal © ١ . فلالا alls =, ام ] اليم Lupe [fig — m= 1 1 I Inca ٠ = 1 BIEL .ما ا RHE اللمعة لمعا ا مها ااال [eal ded ILI) 01 = =| a لا | lh 85. الما ma Vo Sl | eoBr. 85h | Cs 42 li = A ll SEER BERET Nien En Toye Sana il] ix gl ZA Ld٠ 6 6 ٠ الفا بلصت ل ال ا 80 Pr == لطم wa يل العم رضنا ا ett en AY ) al 9 \ 0 All INE i 1 ب ذأ ا بايا لمطمااوم لجع ماس ا ل اال لمج م لا bz i TEE wim Le TE i CTE | Td] ييه ألا Re TT EELS gy CTT ل“مسسسسس اك #5 الوا تسكن سنس x A Y $ % i ب al Fs ¥ £ 4+6 JL [8 CIEE ] Tl Lm ae MM = bis betta وح ql حيتي CARTE T= =o of الاح PT Hl I | He 15 | [PEE] RLY ne INE ا | HY] 7 var] عل GET dR | قا 8 ب حي ا {as Tels BL ا م ل اج اد ,أ EL ل ا سال [| = BLS) Pi = Ik H ب ساد د 1 ا >) تتا ا ا د ا هه gee BO Ff الحا nd SERED Irbseontd الاو و إن HEU seu Fn] To 8 Sad] TIER 1 ; وا 7 ا ا ل اا لسمسا i " TE 1 سل ا ب شكل لأ— rg Ais I 7# ~ TT | Alo A شكل٠ 6 8 ٠ "١ نكاس ¥ كث ال I ديق اليه ضa. | 14 ب a | ض He الم 0 ] لكيه 2 we [om تسيا 2 .1 ض | اا اما avd i AXA 0 لصا سب - , شكل ؟لاله الهيلة السعودية الملضية الفكرية ا Sued Authority for intallentual Property RE .¥ + \ ا 0 § 8 Ss o + < م SNE اج > عي كي الج TE I UN BE Ca a ةا ww جيثة > Ld Ed H Ed - 2 Ld وذلك بشرط تسديد المقابل المالي السنوي للبراءة وعدم بطلانها of سقوطها لمخالفتها ع لأي من أحكام نظام براءات الاختراع والتصميمات التخطيطية للدارات المتكاملة والأصناف ع النباتية والنماذج الصناعية أو لائحته التنفيذية. Ad صادرة عن + ب ب ٠. ب الهيئة السعودية للملكية الفكرية > > > فهذا ص ب 101١ .| لريا 1*١ v= ؛ المملكة | لعربية | لسعودية SAIP@SAIP.GOV.SA
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201762468883P | 2017-03-08 | 2017-03-08 | |
| NL2018855A NL2018855B1 (en) | 2017-05-05 | 2017-05-05 | Laser line illuminator for high throughput sequencing |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SA118390415B1 true SA118390415B1 (ar) | 2021-02-10 |
Family
ID=59974829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SA118390415A SA118390415B1 (ar) | 2017-03-08 | 2018-03-07 | مضيء خط ليزر لإجراء تسلسل عالي الإنتاجية |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10774371B2 (ar) |
| EP (1) | EP3373062A1 (ar) |
| JP (2) | JP6782268B2 (ar) |
| KR (2) | KR20180103014A (ar) |
| CN (2) | CN208705562U (ar) |
| AU (1) | AU2018201388B2 (ar) |
| CA (1) | CA2996788C (ar) |
| IL (1) | IL257830B2 (ar) |
| MY (1) | MY196535A (ar) |
| NL (1) | NL2018855B1 (ar) |
| NZ (1) | NZ740257A (ar) |
| SA (1) | SA118390415B1 (ar) |
| SG (1) | SG10201801707XA (ar) |
| TW (1) | TWI721250B (ar) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB201704771D0 (en) * | 2017-01-05 | 2017-05-10 | Illumina Inc | Modular optical analytic systems and methods |
| NL2018855B1 (en) * | 2017-05-05 | 2018-11-14 | Illumina Inc | Laser line illuminator for high throughput sequencing |
| CN111308680B (zh) * | 2018-12-11 | 2022-09-30 | 深圳华大生命科学研究院 | 线状照明装置和基因测序仪 |
| CN109370900A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-02-22 | 深圳麦芽加速器科技有限公司 | 一种基因测序仪 |
| US11499924B2 (en) * | 2019-06-03 | 2022-11-15 | KLA Corp. | Determining one or more characteristics of light in an optical system |
| US20210187503A1 (en) * | 2019-12-19 | 2021-06-24 | Personal Genomics Taiwan, Inc. | Apparatus and system for single-molecule nucleic acids detection |
| CN113155826A (zh) * | 2020-01-07 | 2021-07-23 | 深圳华大智造科技有限公司 | 检测装置 |
| EP4166642A4 (en) * | 2020-06-10 | 2024-03-13 | Bgi Shenzhen | IMAGE COLLECTION DEVICE FOR BIOLOGICAL SAMPLES AND GENE SEQUENCER |
| US20230393073A1 (en) * | 2020-11-04 | 2023-12-07 | Mgi Tech Co., Ltd. | Test system |
| AU2022387406A1 (en) * | 2021-11-10 | 2024-05-02 | Illumina, Inc. | Apparatus and methods for controlling heating of an objective in a linescanning sequencing system to improve resolution |
| WO2024006234A1 (en) * | 2022-06-30 | 2024-01-04 | Illumina, Inc. | Apparatus for reduction of signal variation in sequencing system |
| US11723556B1 (en) | 2022-07-21 | 2023-08-15 | University Of Houston System | Instructional technologies for positioning a lower limb during muscular activity and detecting and tracking performance of a muscular activity |
| US20240109063A1 (en) * | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Illumina, Inc. | Dynamic optical system calibration |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5736410A (en) * | 1992-09-14 | 1998-04-07 | Sri International | Up-converting reporters for biological and other assays using laser excitation techniques |
| US6361495B1 (en) * | 2000-02-07 | 2002-03-26 | Leica Microsystems Inc. | Hand-held non-contact tonometer |
| DE10227119A1 (de) * | 2002-06-15 | 2004-01-15 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Optische Anordnung zur Gewinnung von Informationen von einer Probe oder einem Beobachtungsobjekt |
| US7441703B2 (en) * | 2002-08-20 | 2008-10-28 | Illumina, Inc. | Optical reader for diffraction grating-based encoded optical identification elements |
| JP4762593B2 (ja) * | 2005-04-05 | 2011-08-31 | オリンパス株式会社 | 外部レーザ導入装置 |
| US7791013B2 (en) * | 2006-11-21 | 2010-09-07 | Illumina, Inc. | Biological microarray line scanning method and system |
| CN105349647B (zh) | 2007-10-30 | 2020-08-28 | 完整基因有限公司 | 用于核酸高通量测序的方法 |
| EP2257789B1 (en) | 2008-02-26 | 2020-10-28 | Battelle Memorial Institute | Biological and chemical microscopic targeting |
| WO2009123767A1 (en) | 2008-04-04 | 2009-10-08 | Life Technologies Corporation | Scanning system and method for imaging and sequencing |
| US10114213B2 (en) * | 2008-04-04 | 2018-10-30 | Cvi Laser, Llc | Laser systems and optical devices for manipulating laser beams |
| EP2335111A4 (en) | 2008-10-09 | 2013-12-25 | Ge Healthcare Bio Sciences | SYSTEM AND METHOD FOR ADJUSTING A BEAM DILATOR IN AN IMAGING SYSTEM |
| US20100157086A1 (en) * | 2008-12-15 | 2010-06-24 | Illumina, Inc | Dynamic autofocus method and system for assay imager |
| EP2409133A1 (en) * | 2009-03-20 | 2012-01-25 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Serial-line-scan-encoded multi-color fluorescence microscopy and imaging flow cytometry |
| DE202011003570U1 (de) * | 2010-03-06 | 2012-01-30 | Illumina, Inc. | Systeme und Vorrichtungen zum Detektieren optischer Signale aus einer Probe |
| WO2013036927A1 (en) | 2011-09-08 | 2013-03-14 | Thermo Electron Scientific Instruments Llc | Emission and transmission optical spectrometer |
| CN109387494B (zh) * | 2012-07-06 | 2023-01-24 | Bt成像股份有限公司 | 检查半导体材料的方法与分析半导体材料的方法和系统 |
| JP6053138B2 (ja) * | 2013-01-24 | 2016-12-27 | 株式会社日立エルジーデータストレージ | 光断層観察装置及び光断層観察方法 |
| US9439568B2 (en) * | 2014-07-03 | 2016-09-13 | Align Technology, Inc. | Apparatus and method for measuring surface topography optically |
| JP6583602B2 (ja) * | 2014-09-19 | 2019-10-02 | コニカミノルタ株式会社 | 細胞内の核酸の解析方法ならびにそのためのシステムおよびキット |
| US20160139032A1 (en) * | 2014-11-19 | 2016-05-19 | Kla-Tencor Corporation | Inspection system and method using an off-axis unobscured objective lens |
| TW201629456A (zh) | 2015-01-06 | 2016-08-16 | 鴻海精密工業股份有限公司 | 抗衝擊性能測試裝置 |
| NL2018855B1 (en) * | 2017-05-05 | 2018-11-14 | Illumina Inc | Laser line illuminator for high throughput sequencing |
| JP2018169502A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | オリンパス株式会社 | 顕微鏡装置 |
-
2017
- 2017-05-05 NL NL2018855A patent/NL2018855B1/en active
-
2018
- 2018-02-26 NZ NZ740257A patent/NZ740257A/en unknown
- 2018-02-26 AU AU2018201388A patent/AU2018201388B2/en active Active
- 2018-02-27 CA CA2996788A patent/CA2996788C/en active Active
- 2018-02-27 JP JP2018033475A patent/JP6782268B2/ja active Active
- 2018-02-27 TW TW107106623A patent/TWI721250B/zh active
- 2018-03-01 MY MYPI2018000308A patent/MY196535A/en unknown
- 2018-03-02 IL IL257830A patent/IL257830B2/en unknown
- 2018-03-02 SG SG10201801707XA patent/SG10201801707XA/en unknown
- 2018-03-06 US US15/913,420 patent/US10774371B2/en active Active
- 2018-03-06 EP EP18160332.5A patent/EP3373062A1/en active Pending
- 2018-03-07 SA SA118390415A patent/SA118390415B1/ar unknown
- 2018-03-07 KR KR1020180027087A patent/KR20180103014A/ko active Application Filing
- 2018-03-08 CN CN201820319958.0U patent/CN208705562U/zh not_active Expired - Fee Related
- 2018-03-08 CN CN201810191355.1A patent/CN108572439B/zh active Active
-
2020
- 2020-01-02 KR KR1020200000323A patent/KR102394330B1/ko active IP Right Grant
- 2020-05-01 JP JP2020081101A patent/JP2020170165A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20180258468A1 (en) | 2018-09-13 |
| MY196535A (en) | 2023-04-19 |
| JP6782268B2 (ja) | 2020-11-11 |
| CN208705562U (zh) | 2019-04-05 |
| IL257830A (en) | 2018-04-30 |
| NZ740257A (en) | 2019-08-30 |
| SG10201801707XA (en) | 2018-10-30 |
| CN108572439A (zh) | 2018-09-25 |
| EP3373062A1 (en) | 2018-09-12 |
| TW201843491A (zh) | 2018-12-16 |
| AU2018201388B2 (en) | 2019-10-17 |
| IL257830B2 (en) | 2023-03-01 |
| JP2020170165A (ja) | 2020-10-15 |
| AU2018201388A1 (en) | 2018-09-27 |
| TWI721250B (zh) | 2021-03-11 |
| CN108572439B (zh) | 2021-07-09 |
| BR102018004635A2 (pt) | 2018-10-30 |
| NL2018855B1 (en) | 2018-11-14 |
| KR20200003945A (ko) | 2020-01-10 |
| CA2996788C (en) | 2021-06-15 |
| KR20180103014A (ko) | 2018-09-18 |
| US10774371B2 (en) | 2020-09-15 |
| CA2996788A1 (en) | 2018-09-08 |
| IL257830B (en) | 2022-11-01 |
| KR102394330B1 (ko) | 2022-05-03 |
| JP2018151624A (ja) | 2018-09-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SA118390415B1 (ar) | مضيء خط ليزر لإجراء تسلسل عالي الإنتاجية | |
| US11408828B2 (en) | Modular optical analytic systems and methods | |
| CN110068921B (zh) | 紧凑型显微镜 | |
| EP2112543B1 (en) | Three-dimensional image obtaining device and processing apparatus using the same | |
| EP3293559A1 (en) | Microscope | |
| CN102782557A (zh) | 扫描显微镜和用于光学扫描一个或多个样本的方法 | |
| CN208351127U (zh) | 成像系统及用于成像系统的镜筒透镜 | |
| US10585275B2 (en) | Microscope device, microscope system, and imaging method | |
| JP2019514051A (ja) | 垂直方向のカメラを含む時空間光変調結像システム、および物体を共焦点結像させるための方法 | |
| BR102018004635B1 (pt) | Sistema de imageamento e sistema de sequenciamento de dna |