SA01220551B1 - جهاز توزيع من أجل إنتاج خليط متعدد الطور ومفاعل مرتبط به - Google Patents

جهاز توزيع من أجل إنتاج خليط متعدد الطور ومفاعل مرتبط به Download PDF

Info

Publication number
SA01220551B1
SA01220551B1 SA01220551A SA01220551A SA01220551B1 SA 01220551 B1 SA01220551 B1 SA 01220551B1 SA 01220551 A SA01220551 A SA 01220551A SA 01220551 A SA01220551 A SA 01220551A SA 01220551 B1 SA01220551 B1 SA 01220551B1
Authority
SA
Saudi Arabia
Prior art keywords
fluid
reactor
chamber
tubes
liquid
Prior art date
Application number
SA01220551A
Other languages
English (en)
Inventor
بوير كرستوف
كوبارد فينسينت
فانجيت بيرتراند
Original Assignee
انستيتيوت فرانسيس دو بترول
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by انستيتيوت فرانسيس دو بترول filed Critical انستيتيوت فرانسيس دو بترول
Publication of SA01220551B1 publication Critical patent/SA01220551B1/ar

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
    • B01D3/008—Liquid distribution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20—Mixing gases with liquids
    • B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/232—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles
    • B01F23/2322—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles using columns, e.g. multi-staged columns
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/30—Injector mixers
    • B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
    • B01F25/314—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit
    • B01F25/3142—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit the conduit having a plurality of openings in the axial direction or in the circumferential direction
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/30—Injector mixers
    • B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
    • B01F25/314—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit
    • B01F25/3142—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit the conduit having a plurality of openings in the axial direction or in the circumferential direction
    • B01F25/31422—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit the conduit having a plurality of openings in the axial direction or in the circumferential direction with a plurality of perforations in the axial direction only
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/30—Injector mixers
    • B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
    • B01F25/314—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit
    • B01F25/3143—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit characterised by the specific design of the injector
    • B01F25/31434—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit characterised by the specific design of the injector being a bundle of similar tubes, each of them having feedings on the circumferential wall, e.g. as mixer for a reactor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/0242—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid flow within the bed being predominantly vertical
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/0278—Feeding reactive fluids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
    • B01J8/0446—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
    • B01J8/0492—Feeding reactive fluids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
    • B01J2208/00823—Mixing elements
    • B01J2208/00831—Stationary elements
    • B01J2208/0084—Stationary elements inside the bed, e.g. baffles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
    • B01J2208/00823—Mixing elements
    • B01J2208/00831—Stationary elements
    • B01J2208/00849—Stationary elements outside the bed, e.g. baffles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00002—Chemical plants
    • B01J2219/00004—Scale aspects
    • B01J2219/00006—Large-scale industrial plants
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S585/00—Chemistry of hydrocarbon compounds
    • Y10S585/919—Apparatus considerations
    • Y10S585/921—Apparatus considerations using recited apparatus structure
    • Y10S585/922—Reactor fluid manipulating device
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S585/00—Chemistry of hydrocarbon compounds
    • Y10S585/919—Apparatus considerations
    • Y10S585/921—Apparatus considerations using recited apparatus structure
    • Y10S585/922—Reactor fluid manipulating device
    • Y10S585/923—At reactor inlet
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/8593—Systems
    • Y10T137/87571—Multiple inlet with single outlet
    • Y10T137/87652—With means to promote mixing or combining of plural fluids

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

الملخص: يتعلق الاختراع بجهاز device لإنتاج وتوزيع distributing خليط متعدد الطور polyphase mixture بين مادتين مائعتين fluids يشتعل على غرفة chamber لمرور مادة مائعة fluid أولى، تكون الغرفة chamber المذكورة مخترقة بواسطة أنابيب tubes أو مجار مثقبة conduits لتمرير مادة مائعة fluid ثانية في حالة مادية physical state مختلفة عن المادة المائعة fluid الأولى أو غير قابلة للامتزاج miscible مع المادة fluid المائعة fluid الأولى في الغرفة chamber، تكون الأنابيب المذكورة مخترقة بواسطة على الأقل ثقب واحد للسماح بمرور المادة المائعة fluid الأولى والخلط mixing بين المواد المائعة fluids عبر الأنابيب. تحقن injected المادة المائعة fluid الثانية في عكس اتجاه تيارالجهاز divce المذكور وتحقن المادة المائعة fluid الأولى في الجهاز divce المذكور.18 ،

Description

v ‏جهاز توزيع من أجل إنتاج خليط متعدد الطور؛ ومفاعل مرتبط به‎ ‏الوصف الكامل‎ ‏خلفية الإختراع‎ ‏وتوزيع‎ mixing ‏خلط‎ optimising ‏لتحسين‎ device ‏يتعلق الاختراع الحالي بجهاز‎ ‏على سبيل المثالء من طور غازي‎ dull ‏تتكونان‎ fluids ‏مادتين مائعتين‎ distribution ‏على هيدروجين 1170:0860 وطور سائل‎ (JE ‏يشتمل عادة؛ على‎ gaseous phase oo ‏يقع الجهاز المذكور في عكس‎ chydrocarbonate ‏يتألف أساسا من هيدروكربونات‎ liquid phase ‏أو بين طبقتين حبيبيتين تشتملان على‎ granular bed ‏طبقة حبيبية‎ Jocated upstream ‏اتجاه تيار‎ ‏بتميز نشاط حفاز‎ granular solids ‏تحوز المواد الصلبة الحبيبية‎ 320 particles ‏جسيمات صلبة‎ ‏في مفاعل الطبقة‎ distribution ‏والتوزيع‎ mixing ‏تندمج عموما هذه الأنظمة للخلط‎ catalytic ‏في نموذج قطارة تيار مشترك من خلال الطبقة‎ fluid ‏الثابتة الذي يكون فيه تدفق المادة المائعة‎ ٠ -granular solid ‏المذكورة أو الطبقات الصلبة الحبيبية‎ solid bed ‏الصلبة‎ ‏الوصف العام للاختراع‎ ‏خلط‎ «injection systems (jis ‏وأنظمة‎ devices ‏يشير الوصف الحالي بالتساوي إلى أجهزة‎ -distribution ‏وتوزيع‎ mixing ‏طبقة‎ 1008160 upstream ‏عكس اتجاه تيار‎ systems ‏يمكن عموما وضع هذه الأنظمة‎ Vo reactor ‏بتخصيص أكثر عند قمة المفاعل‎ granular bed ‏حبيبية‎ ‏ينطبق الاختراع الحالي على كل الحالات التالية:‎ (ald ‏بوجه‎ ‏بمعنى؛ عندما‎ cliquid phases ‏أكبر من أطوار السائل‎ gas phases ‏حيث تكون أطوار الغاز‎ - ٠:500 ‏وعادة أقل من‎ ٠:2 ‏عادة أكثر من‎ liquids ‏والسوائل‎ gas ‏تكون نسبة الحجم بين الغاز‎ ‏<400)؛‎ liquid ‏حجم السائل‎ /7> gas ‏(حجم الغاز‎ v. ‏بمعنى؛ عندما‎ liquid phases ‏من أطوار السائل‎ Jil gas phases ‏حيث تكون أطوار الغاز‎ - ٠:١ ‏وعادة أقل من‎ Vie) ‏عادة أكثر من‎ liquids ‏تكون نسبة الحجم بين الغاز 885 والسوائل‎ ؛)١<‎ liquid ‏حجم السائل‎ /٠,١> gag ‏الغاز‎ axa) ‏تكميلية في‎ fluid ‏يكون التفاعل مصحوبا بإطلاق حرارة عالية ويتطلب إدخال مادة مائعة‎ Cun — ‘liquid ‏السائل‎ [gas ‏لتبريد خليط الغاز‎ (gas ‏غاز‎ sale «reactor ‏المفاعل‎ Yo r ‏(على سبيل‎ gaseous ‏يحتاج التفاعل إلى اتصال قريب لإذابة مركب يكون عادة غازياً‎ Cua - liquid phase ‏في طور السائل‎ (Hy ‏المثال هيدروجين‎ ‏سائل 110 مثل تلك المستخدمة‎ [gas ‏إن للاختراع الحالي تطبيقا خاصاً في موزعات غاز‎ ‏إزالة كبرتة مائية‎ chydrotreatment “dle ‏معالجة‎ <hydrocracking ‏في إجراء تكسير مائي‎ ‏هدرجة انتقائية‎ hydrodenitrogenation ‏إزالة نترجة مائية‎ <hydrodesulphurisation ٠ ‏هدرجة انتقائتيسة‎ Cy ‏إلى‎ Cy ‏أو كاملة لأجزاء‎ selective hydrogenation ‏مركبات‎ hydrogenation ‏تكسير بخارء هدرجة‎ gasoline ‏لجازولين‎ selective hydrogenation ‏وهدرجة‎ aaphthenic ‏و/أو نفثينية‎ aliphatic ‏في أجزاء أليفاتية‎ aromatic ‏أروماتية‎ ‎.aromatic ‏في أجزاء أروماتية‎ olefins ‏أولفينات‎ hydrogenation ‏مع‎ gas phase ‏لطور غازي‎ faa Gals ‏يطبق الاختراع أيضا لإجراء تفاعلات أخرى تتطلب‎ Vs ‏جزئية أو كاملة؛‎ oxidation ‏على سبيل المثال؛ تفاعلات أكسدة‎ liquid phase ‏سائل‎ sh ammoxidation ‏أكسدة أمونيوم‎ cacetyloxidation ‏أكسدة أسثيل‎ (amination ‏تفاعلات أمينية‎ -chlorination ‏بوجه خاص الكلورينية‎ chalogenation ‏وهلجنة‎ ‏إزالة نترجة مائية‎ chydrodesulphurisation ‏في المجال الخاص بتفاعلات إزالة كبرتة مائية‎ ‏من أجل إنتاج تحولات عالية (للحصول‎ hydrocracking ‏وتكسير مائي‎ hydrodenitrogenation | ٠ ‏أو‎ sulphur ‏من الكبريت‎ "ppm" ‏جزء في المليون‎ Ve Jl ‏سبيل‎ Jeo le ‏على منتج يحتوي‎ ‏لكن أساسا يجب أن يكون‎ das liquid ‏والسائل‎ gas ‏من الغاز‎ US ‏أقل)؛ يجب أن يكون توزيع‎ ‏عادة بين‎ Nite ‏وحوالي‎ ٠: ‏لأن نسب الحجم تكون عموما بين حوالي‎ fas ‏توزيع السائل‎ ‏وحوالي 6 . عند استخدام الإخمادء فإن الاتصال الجيد بين الغاز الداخل يبرد‎ ٠ ‏حوالي‎ ‎-process fluids ‏موائع العملية‎ v. ‏طور غازي‎ BY ‏بوجه عام على‎ ofluid compound ‏من أجل تحسين توزيع مركب مائع‎ ‏فإن أحد الحلول المقترحة في الفن‎ cas) liquid phase ‏واحد وعلى الأقل طور سائل‎ gas phase ‏حقن مختلط من أجل تدفقات قطارة‎ liquid ‏سائل‎ eas Sle ‏السابق تتكون من أنظمة توزيع‎ -dropper flows ‏لوحا مع‎ US Pat. No. 5,688,445 3 FR-A-2 754 202 ‏تقترح براءة الاختراع الفرنسية‎ Yo (upper holes ‏مجار مزودة بفتحات مرتبة بطول المجرى من أجل مرور الغاز (فتحات علوية‎
SLE anal ‏لم يدرس أي نظام في الفن السابق‎ (lower holes ‏وسائل (فتحات سفلية‎
‎fluctuations‏ في السطح البيني ‎interface‏ للسائل ‎[liquid‏ الغاز ‎gas‏ فوق اللوح ‎plate‏ بسبب حقن السائل في قمة المفاعل ‎reactor‏ بسبب هيئتهماء فإن عدم التوازن ‎imbalance‏ في هذا السطح البيني ‎interface‏ يتسبب في عدم التوازن في تدفقات الغاز ‎gas‏ والسائل ‎liquid‏ من مجرى إلى آخر.
تقترح براءة الاختراع الدولية ‎WO-A-95/35159‏ نظام توزيع له مستويان؛ يتكون المستوى الثاني من لوح ‎plate‏ مع مجار مخترقة ‎conduits pierced‏ مع فتحات في قسمها الواقع فوق اللوح ‎plate‏ وفي قسمها الواقع أسفل اللوح ‎plate‏ يكمن عيب اللوح 01816 في أننا نحصل على المرونة في معدل تدفق السائل ‎liquid flow rate‏ باستعمال نوعين من المجارى. لذلك؛ يحدد معدل تدفق السائل ‎liquid flow rate‏ كثافة نقاط الحقن ‎Linjection‏ بالإضافة إلى ذلك؛ يأخذ استخدام مستويين
.0 مساحة كبيرة في قمة المفاعل.
تقترح 4,140,625 ‎U.S.
Pat.
No.‏ نظام لوح ‎plate‏ تعترضه أنابيب فنتورية 7601011 ويحقن ‎liquid Jill‏ عند عنق أو عكس اتجاه تيار الانقباض ‎constriction‏ عندئذ يحقن خليط الغاز ‎liquid Jill /gas‏ في الطبقة الحفازة ‎catalytic bed‏ عيب هذا النظام هو انخفاض مرونته ‎flexibility‏ بالنسبة لمعدل تدفق السائل ‎liquid flow rate‏ نظرا لوجود فقط مستوى واحد من أجل
‎yo‏ الفتحات للسائل.
‏باختصار؛ يمكن استخلاص مايلي من الأنظمة المقترحة في هذه البراءات المختلفة باستخدام لوح حقن مختلط لطور سائل ‎liquid‏ وغاز 88ع: - إما أن اللوح ‎plat‏ يعطي مرونة كبيرة بالنسبة لمعدل تدفق السائل ‎liquid flow rate‏ ولكن ليس له أي وسيلة لثبات السطح البيني للغاز ‎[gas‏ السائل ‎liquid‏ في عكس اتجاه تيار اللوح؛ ‎x‏ - أو أن اللوح ‎plat‏ له مستويان لمواجهة التقلبات في السطح البيني ‎interface‏ للغاز 885/ السائل ‎oS liquid‏ له فقط مرونة ضئيلة بالنسبة لمعدل تدفق السائل ‎liquid flow rate‏ على عكس الاختراع الحالي؛ في أنظمة حقن غاز ‎fgas‏ سائل ‎liquid‏ بأسلوب قطارة. يتم إمداد أنظمة الفن السابق بالكامل بواسطة تدفق غاز ‎[gas‏ سائل ‎liquid‏ عند مدخل المفاعل. يقدم نظام الاختراع حلا ‎Shy‏ وجديدآً للمشاكل التي واجهتها أجهزة الفن السابق. إن مرونة الاختراع الحالي ‎vo‏ عالية بالنسبة لمعدل تدفق السائل ‎diquid flow rate‏ ولاتوجد تقلبات في السطح البيني ‎interface‏ ‏للغاز ‎[gas‏ السائل 010و11.
يوفر الاختراع الحالي ‎device 1 lea‏ لإنتاج خليط ‎mixture‏ متعدد الطور ‎polyphase‏ من مائعين ‎fluids‏ وتوزيعهما ويشتمل الجهاز ‎device‏ على غرفة ‎chamber‏ لمرور مائع ‎«Jl fluid‏ تكون الغرفة ‎chamber‏ المذكورة مخترقة بواسطة أنابيب ‎tubes‏ أو مجار مثقبة ‎conduits‏ لتشكيل ممر خلال الغرفة ‎chamber‏ من أجل مائع ثان في ‎Als‏ مادية ‎physical state‏ مختلفة عن المادة م المائعة ‎fluid‏ الأولى أو غير قابلة للامتزاج مع المادة المائعة ‎fluid‏ الأولى في الغرفة ‎«chamber‏ ‏تكون الأنابيب المذكورة مخترقة بواسطة على الأقل ثقب واحد للسماح بمرور المادة المائعة ‎fluid‏ ‏الأولى والخلط بين المواد المائعة ‎fluids‏ عبر الأنابيب ‎tubes‏ تحقن المادة المائعة ‎fluid‏ الثانية في عكس اتجاه تيار الجهاز ‎device‏ المذكور وتحقن المادة المائعة ‎fluid‏ الأولى في الجهاز 61ل المذكور. ‎ye‏ عموماء يكون المائع الأول ‎first fluid‏ أساسا ‎SB‏ ويكون المائع ‎fluid‏ الثاني أساسا غازيا ‎gaseous‏ في تطبيق إضافي؛ يكون المائع 40 الأول أساسا سائلاً ويكون المائع ‎fluid‏ الثاني أساسا ‎(ib liquid Sila‏ غير قابل للامتزاج ‎miscible‏ مع المائع ‎fluid‏ الأول. من الأفضل وضع الجهاز ‎device‏ بالقرب من قمة المفاعل ‎reactor head‏ يفضل إمداد الغرفة ‎chamber‏ المذكورة بالمائع ‎fluid‏ الأول بواسطة حقنه في اتجاه عرضي ‎٠‏ للجهاز ‎device‏ المذكور عند؛ على الأقل؛ نقطة واحدة. عموماء يحقن ‎injected‏ المائع ‎fluid‏ الثاني محوريا في اتجاه تبار ‎downstream‏ الجهاز ‎device :‏ المذكور. في تطبيق خاصء تمتد الأنابيب ‎tubes‏ لمسافة ,1 أسفل الغرفة ‎.chamber‏ ‏يتعلق الاختراع أيضا بمفاعل :260010 في شكل ممدود بموازة ‎sae‏ 215 واحد؛ يشتمل؛ على © الأقلء على جهاز ‎asl device‏ طبقا للاختراع لخلط ‎mixing‏ وتوزيع ‎distrbuting‏ مائعين ‎fluids‏ في حالتين ماديتين مختلفتين؛ يشتمل؛ على الأقل؛ على طبقة واحدة من مواد صلبة حبيبية ‎bed of granular solids‏ في اتجاه تيار ‎«downstream‏ على الأقل؛ جهاز ‎device‏ واحد للخلط ‎mixing‏ والتوزيع ‎distributing‏ وخطين منفصلين لحقن الموائع ‎fluids‏ في الجهاز ‎device‏ ‏المذكورء يحقن المائع ‎fluid‏ الأول المذكور في الجهاز المذكور ‎device‏ عادة جوهريا عموديا ‎vo‏ على محور المفاعل ‎reactor‏ ويتم حقن المائع ‎fluid‏ الثاني في الجهاز ‎device‏ المذكور عكس اتجاه تيار الجهاز ‎device‏ المذكورء عادة جوهريا بموازاة الاتجاه المحوري للمفاعل ‎reactor‏
ٍ في تطبيق مفضل»؛ يدور طور السائل ‎liquid phase‏ وطور الغاز ‎gas phase‏ بأسلوب قطارة التيار المشترك خلال الطبقة أو الطبقات المذكورة من المواد الصلبة الحبيبية ‎-granular solids‏ بتخصيص ‎SST‏ يمكن حقن مادة تغذية السائل وطور الغاز ‎gas phase‏ عكس اتجاه تيار الطبقة أو الطبقات المذكورة من ‎of gall‏ الصلبة الحبيبية ‎-granular solids‏ بفضل أن تشتمل الطبقة أو الطبقات المذكورة من المواد الصلبة الحبيبية ‎granular solids‏ على الأقل على مادة صلبة واحدة حبيبية حفازة ‎-catalytic granular solid‏ في أحد التطبيقات؛ يكون المائع ‎fulid‏ الأول في طور_سائل ‎phase‏ 110010 ويكون المائع الثاني في طور غاز ‎-gas phase‏ من الأفضل؛ عكس اتجاه تيار قمة المفاعل ‎reactor‏ يوجد فرص عائق ‎buffer drum‏ خارج ‎٠‏ المفاعل ومتصل مع الجهاز عبر خطوط للسماح بتبادل المادة بين الطور السائل ‎liquid phase‏ وطور الغاز ‎gas phase‏ تسمح الخطوط المذكورة بالحقن المنفصل في جهاز الخلط خصوصا الطور السائل ‎phase‏ 1102010 أساسا يحتوي على غاز مذاب وطور الغاز ‎gas phase‏ أساسا يحتوي على سائل؛ ينتج الطوران السائل أساسا والغازي أساسا المذكوران من الاتصال السابق لحالتي السائل والغاز في القرص ‎buffer drum Gadi‏ المذكور. ‎yo‏ يمكن استخدام الأجهزة و/أو المفاعل الموصوفين في الاختراع الحالي في عمليات إزالة الكبرتة المائية ‎chydrodesulphurisation‏ الهدرجة الانتقائية ‎selective hydrogenation‏ أو إزالة النترجة المائية ‎‘hydrodenitrogenation‏ ‏يعني المصطلح "غازي أساسا ‎essentially gaseous‏ طورا يحتوي على الأقل على ‎٠‏ 75 غاز ‎«gas‏ يفضل على الأقل 7970 غاز ‎gas‏ ويفضل أكثر على الأقل 790 غاز 5ع. يعني المصطلح ‎٠‏ "سائل أساسا ‎Ish "essentially liquid‏ يحتوي على الأقل على ‎٠‏ 728 سائل ‎diquid‏ يفضل على الأقل 7770 سائل ‎liquid‏ ويفضل أكثر على الأقل 790 سائل ‎Jiquid‏ ‏شرح مختصر للرسومات يظهر الشكلان ‎١‏ و7 تجسيدين ‎embodiments‏ لمفاعل ‎reactor‏ يمكنه إدماج أجهزة ‎devices‏ ‏الاختراع الحالي. ‎Yo‏ يظهر الشكلان © و؛ تجسيدين ‎embodiments‏ لنظام توزيع ‎distribution‏ يفضل وضعه عكس اتجاه تيار الطبقة الأولى ويعمل في المفاعل ‎reactor‏ الموصوف أعلاه.
تتضح ميزات وخصائص أخرى للاختراع من الوصف المعطى أدناه على سبيل التمثيل. في أحد تجسيدات الجهاز ‎device‏ تقع وسيلة توزيع داخلي ‎internal distribution‏ عند قمة مفاعل ‎reactor‏ الطبقة الثابتة ‎fixed bed‏ تعمل بطريقة القطارة للسائل وحده أو التيار المشترك سائل ‎Mliquid‏ غاز ‎Lgas‏ عندما يعمل المفاعل ‎reactor‏ بطريقة تدفق سائل ‎[lquid‏ غاز ‎cas‏ تحقن م مادة تغذية السائل ومادة تغذية الغاز منفصلتين في وسيلة التوزيع الواقعة عند قمة المفاعل ‎reactor‏ ‏وفي عكس اتجاه تيار الطبقة الأولى. يحقن جزء من الغاز ‎gas‏ المحقون في المفاعل ‎reactor‏ عند مستوى متوسط بين طبقتين متعاقبتين بواسطة نظام الحقن ‎dnjection‏ الخلط ‎mixing‏ والتوزيع ‎distribution‏ من الاختراع الحالي. يظهر هذا الرسم المتتابع الأول المبين وسيلة التوزيع من الاختراع الحالي في شكل ‎.١‏ في اتجاه معاكس لقمة المفاعل؛ يمكن إضافة قرص متحد مع نظام ‎0٠‏ الوزيع لتحسين تبادل المادة بين الطور السائل ‎liquid phase‏ وطور الغاز ‎gas phase‏ (شكل ‎.)١‏ ‏يكون هذا القرص ‎drum‏ خارج المفاعل :68610:. في هذا التجسيدء تتصل مادة تغذية السائل ‎liquid‏ ومادة تغذية الغاز ‎gas‏ بواسطة البقبقة في هذا القرص وترك القرص منفصلا من أجل حقن منفصل في المفاعل ‎reactor‏ هذا البرنامج لاستخدام وسيلة التوزيع ظاهر في شكل ‎.١‏ ‏بتحديد أكثر؛ إن المفاعل ‎reactor‏ (10) الظاهر في شكل ‎١‏ هو مفاعل ‎reactor‏ طبقة ثابتة مع ‎1s‏ طبقتين متراكبتين تعملان بأسلوب قطارة الثيار المشترك. تحقن ‎sole‏ تغذية السائل ‎)١( liquid‏ بالقرب من ‎dad‏ المفاعل ‎reactor‏ في وسيلة التوزيع ‎)٠٠١( distribution‏ عبر الخط ‎L(Y)‏ تحقن مادة تغذية الغاز ‎)١( gas feed‏ عند مستويين في عكس اتجاه تيار المفاعل ‎reactor‏ (10): في قمة المفاعل عبر الخط (7) وإلى مستوى متوسط من المفاعل ‎reactor‏ عبر ‎bal‏ )3( عبر وسيلة توزيع ‎٠٠١( distribution‏ أو ‎(YT‏ تقع بين »| طبقتين متعاقبتين. إذا ارتفع الضغط في وسيلة التوزيع ‎)٠٠١( distribution‏ وفي الخط (7)؛ يقوم نظام تعويض ضغط ‎(VE)‏ (يتكون من ‎valve ples‏ تنظيم يتحكم فيه محس ‎bis‏ ‎pressure sensor‏ متباين) بإخلاء قسم من تدفق السائل ‎liquid‏ إلى الخط ( ") وقمة المفاعل ‎reactor‏ يتحكم في توزيع تدفق الغاز ‎gas‏ المحتون في الخطين (7) و(1) باستخدام صمامي التنظيم ) ‎٠٠‏ ( و) ‎i ١١‏ يكون تدفق الغاز ‎gas‏ المحقون في المفاعل ‎reactor‏ )+ 1( عبر ‎(V) ball‏ ‎ve‏ عادة في حدود ‎Th‏ جزيء جرامي 7 إلى ‎Vo‏ جزيء جرامي 7# من إجمالي معدل التدفق ‎hill‏ ‏الجرامي للغاز ‎gas‏ المحقون في المفاعل ) ‎٠‏ 1( في الخط ) 43 يكون هذا المعدل للتدفق في حدود
A
‏المحقون في‎ gas ‏جزيء جرامي 7 من إجمالي معدل التدفق الجزيئي الجرامي للغاز‎ Ve ‏إلى‎ © (Vo) ‏بعد التفاعل؛ يستعاد المنتج عبر الخط‎ .)٠ ( reactor ‏المفاعل‎ ‏الطبقتين‎ ae AY AGLI reactor ‏الظاهر في شكل ؟ هو مفاعل‎ (Th) ‏إن المفاعل‎ ‏المتراكبتين اللتان تعملان بأسلوب قطارة التيار المشترك.‎ ‏عند‎ )١( gas ‏تحقن مادة تغذية الغاز‎ reactor ‏في قمة المفاعل‎ )١( ‏تحقن مادة تغذية السائل‎ ‏وإلى‎ )7( Bal ‏عبر‎ reactor ‏المفاعل‎ dd (V+) reactor ‏مستويين في عكس اتجاه تيار المفاعل‎ ‏أو‎ You) distribution ‏عبر وسيلة توزيع‎ (1) hall ‏عبر‎ reactor ‏مستوى متوسط من المفاعل‎ ‏ومادة‎ gas ‏تقع بين طبقتين متعاقبتين. من أجل تحسين تبادل المادة بين مادة تغذية الغاز‎ )؟٠‎ ‏المحقونة‎ gas ‏يحقن جزء من مادة تغذية الغاز‎ reactor ‏تغذية السائتل في عكس اتجاه تيار المفاعل‎ gas Jl ‏يتحكم في توزيع تدفق‎ .)0( buffer drum Jalal ‏والقرص‎ (A) ball ‏علويا عبر‎ ٠ ‏يكون تدفق‎ .)١١(و‎ )٠١( ‏تنظيم‎ valves ‏و() باستخدام صمامي‎ (A) ‏المحقون بين الخطوط (1)؛‎ ‏عادة في حدود من صفر جزيء‎ (V) ‏عبر الخط‎ (4) reactor ‏الغاز فوع المحقون في المفاعل‎ ‏معدل التدفق الجزيئي الجرامي‎ Jad ‏من‎ 7 alga save ‏جرامي 7 إلى‎ gas ‏يكون تدفق الغاز‎ ؛)٠١(‎ reactor ‏المحقون في المفاعل‎ gas ‏من الغاز‎ total molar flow rate ‏جزيء‎ Vo ‏عادة في من حدود صفر إلى‎ (A) ‏عبر الخط‎ )8 ( reactor ‏المحقون في المفاعل‎ ١ ‏المحقون‎ gas ‏للغاز‎ total molar flow rate ‏جرامي 7 من إجمالي معدل التدفق الجزيئي الجرامي‎ ‏المحقون عبر الخط )1( في حدود من‎ gas ‏ويكون معدل تدفق الغاز‎ «(1+) reactor ‏في المفاعل‎ total molar flow rate ‏إلى 86 جزيء جرامي # من إجمالي معدل تدفق الجزيئي الجرامي‎ ٠ ‏يمكن حقن مادة‎ reactor ‏عند مدخل المفاعل‎ .)10( reactor ‏المحقون في المفاعل‎ gas ‏للغاز‎ ‎(7) ‏عبر الخط‎ reactor ‏الواقعة عند قمة المفاعل‎ )٠٠١( ‏تغذية السائل مباشرة في وسيلة التوزيع‎ © ‏الاتصال مع وسيلة‎ sale] ‏قبل‎ (04) buffer drum ‏أو يمكن حقنها عبر الخط (4) والقرص الحاجز‎ ‏المحقون في المفاعل‎ liquid ‏يكون جزء تدفق مادة تغذية السائل‎ (VF) ‏عبر الخط‎ )٠٠١( ‏التوزيع‎ ‏إلى 7994 بالوزن_ من إجمالي تدفق السائل‎ 7١ ‏عبر الخط (؟؛) في حدود من‎ reactor ‏ويكون جزء مادة تغذية السائل المحقون في‎ reactor ‏المحقون في المفاعل‎ total liquid flow rate ‏بالوزن من إجمالي معدل تدفق السائل‎ 7١ ‏عبر الخط )¥( في حدود 799 إلى‎ reactor ‏المفاعل‎ vo (Ve) hall ‏المحقون في المفاعل. بعد التفاعل؛ يستعاد المنتج عبر‎ total liquid flow rate
YYYY
إن وسيلة التوزيع ‎)٠٠١( distribution‏ الواقعة بالقرب من قمة المفاعل ‎reactor‏ هي وسيلة أو أنظمة كما تتحدد في الاختراع الحالي وتصور؛ على سبيل ‎JA‏ في التجسيدات الموصوفة أدناه (شكل ؟ £5( . يمكن اختيار وسيلة التوزيع ‎distribution‏ الواقعة عند مستوى متوسط من المفاعل (بين طبقتين متعاقبتين ‎(successive beds‏ من أي ‎device lea‏ خلط ‎mixing‏ و/أو ‎oe‏ توزيع ‎distribution‏ من الفن السابق. يفضل أن تكون أنظمة التوزيع المتوسطة أجهزة كما وصف في طلب براءة الاختراع المقيد من الطالب في نفس يوم الطلب الحالي. مثال على تجسيد لنظام توزيع ‎distribution‏ واقع عند قمة المفاعل ‎reactor‏ عكس اتجاه ثيار الطبقة الأولى الظاهرة في الشكلين © و4؛. في هذا التجسيد؛ يفضل حقن الغاز ‎gas‏ في نظام الخلاط/ الموزع محوريا عند قمة المفاعل خلال الأنابيب المثقبة ‎)٠١8(‏ التي تجتاز غرفة السائل ‎)٠١١( liquid chamber ٠‏ . يجرى إمداد غرفة السائل ‎liquid chamber‏ عندء على الأقل؛ نقطة واحدة بواسطة حقن مادة تغذية السائل عرضيا في المفاعل ‎reactor‏ عبر الخط ‎(V+ Y)‏ يتكون مبدأ التشغيل من الخلط التمهيدي لحالتي السائل ‎liquid‏ والغاز ‎gas‏ في المجاري قبل حقن هذا الخليط عند نقاط مختلفة إلى المدخل ‎inlet‏ إلى الطبقة ‎bed‏ )£ )0( الميزة من هذا الجهاز بالنسبة للألواح الموصوفة في الفن السابق هي أنها تنتج مستوى سائل ‎liquid‏ مستقراً وثابتا في عكس اتجاه تيار ‎١‏ النظام الحالي وأنها توفر مرونة كبيرة في تدفق السائل. في الاختراع الحالي؛ لايعتمد مستوى السائل فوق المجاري على معدل تدفق السائل ‎liquid flow rate‏ في نظام التوزيع ‎distribution‏ الموصوف في شكل © وشكل ‎of‏ يحقن الغاز فوع في غرفة خلط ‎mixing chamber‏ عند قمة المفاعل ‎reactor‏ عبر مدخل واقع على المحور ‎)٠١٠( axis‏ ويدور خلال الأنابيب ‎tubes‏ (8١٠)_المصفوفة‏ في تواز_والتي تجتاز غرفة السائل ‎(VY +) liquid chamber +‏ يتم إمداد غرفة السائل ‎liquid chamber‏ بواسطة مدخل سائل عرضي ‎)٠١١(‏ إلى المفاعل ‎reactor‏ تخترق الأنابيب ‎)٠١4(‏ بالعديد من التقوب ‎)٠٠١5(‏ لمرور السائل. أخيرا؛ تمتد الأنابيب بمسافة ‎hy‏ أسفل غرفة السائل ‎)١١١( liquid chamber‏ لمنع انتشار قسم من السائل أسفل السطح الخارجي السفلي للغرفة ‎)١١١( chamber‏ ولخفض الفراغ بين نقطة حقن ‎laid‏ والمدخل إلى الطبقة. ‎Yo‏ عند إمداد هذه الغرفة ‎chamber‏ مباشرة بواسطة خط السائل (شكل ١)؛‏ ينتج عن تغير في معدل تدفق السائل ‎liquid flow rate‏ تغير في الضغط في الغرفة ‎.)٠١( chamber‏ في حالة التشغيل غير العادي حيث يصل الضغط إلى حده الأقصي في الغرفة ‎(VV) +) chamber‏ يمكن
١ ‏عبر صمام‎ )7( gas ‏إلى خط حقن الغاز‎ liquid ‏لنظام تعويض الضغط إخلاء قسم من تدفق السائل‎ ‏يحسب عدد وقطر الفتحات المثقبة في المجارى‎ .)١ ‏(شكل‎ (V£) gas injection valve ‏حقن غاز‎ chamber ‏باستخدام تقنيات معروفة جيدا للشخص الماهر بحيث تشحن الغرفة‎ )٠١8( conduits ‏يكون تدفق السائل عند أدنى معدلاته. تعبا دائما‎ Laie (liquid ‏(بمعنى أن تعبا بالسائل‎ )٠١١( ‏ولاتوجد مشكلة من أي تقلبات في مستوى السائل عكس‎ cl ‏بالسائل»‎ )٠١١( chamber ‏الغرفة‎ ‏اتجاه تيار نقاط شحن السائل. يفضل أن تكون المسافة بين المستويين المتعاقبين من الفتحات على‎ ‏مم. يفضل أن يكون قطر الفتحات أقل من 7978 من قطر المجرى؛ وعادة أكثر من ؟‎ 5٠ ‏الأقل‎ ‏باستخدام أى تقنية معروفة للشخص الماهر بحيث‎ )٠١8( ‏المجرى‎ )١١3( ‏مم. يحسب قطر‎ ‏عند قاع‎ liquid flow rate ‏لايختنق المجرى؛ على سبيل المثال بحيث لايكون معدل تدفق السائل‎ ‏هو قطر المجرى وع هو التسارع بسبب الجاذبية. يفضل‎ dg Cus gd Vo 725 ‏المجرى أكثر من‎ ٠ ٠٠١ ‏يفضل أكثر أكثر من‎ Ta ‏مجرى/‎ Av ‏أن تكون كثافة المجارى لكل متر مربع على الأقل‎ ‏عند قمة الطبقة‎ liquid ‏السائل‎ —gas ‏من أجل التوزيع الصحيح لنقاط حقن الغاز‎ Ya [sae ‏يفضل في‎ Ta ‏مجرى/‎ 70٠0 ‏إلى‎ ٠٠١ ‏تكون هذه الكثافة عموما في حدود‎ catalytic bed ‏الحفازة‎ ‏عموما أكثر من 60 مم؛‎ )١١١( ‏يكون العمق أسفل أدنى ثقب‎ Tals mao ‏إلى‎ ١5١ ‏حدود‎ ‎mixing ‏يؤثر هذا العمق في إطالة زمن بقاء خليط‎ .مم*٠١‎ Yon ‏ويفضل أن يكون في حدود‎ ve ‏(على‎ gas ‏في المجرى وبذلك يؤدي إلى تحسين انتقال الكتلة بين الغاز‎ liquid ‏السائل‎ gas ‏الغاز‎ ‏والسائل 0110و11. تعمل المجاري في اللوح كخلاط ستاتيكي. أخيراء يفضل امتداد‎ (H, ‏سبيل المثال‎
Sd ‏لمنع انتشار قسم من‎ hy ‏بمسافة‎ (Yo) ‏حقن الغاز‎ chamber ‏أسفل غرفة‎ )٠١ ©( ‏الأنابيب‎ ‏ولخفض الفراغ بين نقطة حقن الخليط والمدخل‎ chamber ‏بموازاة السطح الخارجي السفلي للغرفة‎ ‏مم. من أجل تفادي فصل خليط السائل‎ 8٠ ‏إلى‎ ٠١ ‏عادة في حدود‎ hy ‏إلى الطبقة. تكون المسافة‎ ‏قبل حقنه في الطبقة؛ تكون المسافة بين قاع الأنابيب (؛١٠) وقمة الطبقة في‎ gas ‏الغاز‎ [liquid ‏ممء يستبعد الصفر.‎ ٠١ ‏مم؛ يستبعد الصفر؛ يفضل في حدود صفر إلى‎ 5٠0 ‏حدود صفر إلى‎ ‏يركب تجسيد لنظام التوزيع الظاهر في شكل © في طبقة ثابتة مع قطر 500 مم. تكون كثافة‎ رطقب ‏مم؛ ويثقب كل مجرى بأربع فتحات‎ ١١ ‏يكون قطر المجرى‎ Ya fs ne ‏المجاري 0؟؛‎ ‏المجاري أسفل غرفة السائل‎ hy ‏».مم منفصلة عن بعضها بمسافة 850 مم. تكون مسمافة‎ ‏مم. يكون‎ ٠١ ‏مم. تكون المسافة بين قاع المجاري والمدخل إلى الطبقة‎ ١ liquid chamber ‏مم ويتم إمدادها عند نقطة وحيدة. يختبر أداء هذا‎ You liquid chamber ‏عمق غرفة السائل‎
١
النظام للتوزريع ‎distribution‏ باستخدام التصوير الشعاعي الطبقة بأشضعة جاما ‎(gamma tomography‏ الذي يفيس توزيع السائل ‎liquid‏ والغاز ‎gas‏ الموجودين داخل الطبقة عند مسافة 200 مم من نظام التوزيع. يقارن هذا الأداء؛ تحت نفس ظروف تدفق الغاز والسائل؛ مع الأداء النائج من نظام توزيع تقليدي متكون من أربعة مجاري مع قطر ‎5٠‏ مم من أجل مرور م الغاز و؛؛ فتحة مع قطر ‎٠١‏ مم من أجل مرور السائل. في هذا اللوح الثاني؛ يحقن السائل ‎liquid‏ ‏والغاز ‎gas‏ كتيار مشترك في عكس اتجاه تيار اللوح عند قمة المفاعل ‎reactor‏ يظطهر شكل ‎#٠‏ ‏توزيع الغاز في الطبقة للنظامين محل الدراسة. يقوم نظام التوزيع الموصوف في الطلب الحالي
جوهريا بتحسين توزيع تدفق الغاز داخل الطبقة الحبيبية ‎-granular bed‏

Claims (1)

  1. ١" ‏عناصر الحماية‎ ‎-١ ١‏ جهاز ‎device‏ لخلط مادتين مائعتين ‎fluids‏ ولتوزيع ‎distributing‏ الخليط ‎mixture‏ المذكورء بتميز بأنه يشتمل على غرفة ‎(V) +) chamber‏ يتم إمدادها بمائع ‎fluid‏ أول؛ ‎Sis‏ الغرفة ‎chamber v‏ المذكورة بالمائع 0 الأول المذكور؛ وسلسلة من الأنابيب ‎tubes‏ أو المجاري ‎(Y +A) conduits ¢‏ التي تجتاز الغرفة ‎chamber‏ المذكورة جوهريا في اتجاه رأسي ويتم إمدادها > بمائع 0 ثان؛ تثقب الأنابيب ‎tubes‏ المذكورة بواسطة ثقوب عرضية موزعة فوق العديد من 1 المستويات للسماح باتصال الأنابيب ‎tubes‏ المذكورة مع الغرفة ‎chamber‏ المذكورة؛ تتميز ‎v‏ الأنابيب ‎tubes‏ المذكورة بقطر عل في حدود ؟ إلى ‎٠٠١‏ مم من أجل سرعة حركة السطح ‎A‏ للمائع 10 الأول في حدود ‎٠٠١‏ إلى ‎٠٠١‏ سم/ ثانية؛ تتميز هذه الأنابيب ‎tubes‏ أيضا بأن 9 المسافة بين الثقوب الواقعة عند المستوى الأدنى بالنسبة لاتجاه تدفع المادة المائعة ‎fluid‏ أو ‎ve‏ الخليط المائع ‎fluid‏ عند مخرج الأنبوب ‎tube‏ تكون أكبر من 50 مم. ّ ‎٠‏ 7-جهاز ‎device‏ طبقا لعنصر الحماية ١؛‏ تمتد فيه الأنابيب ‎(V+ A) tubes‏ أسفل المستوى الأدنى ‎Y‏ للغرفة ‎)١١١( chamber‏ بمسافة ‎chy‏ يفضل أن تكون المسافة ,ا في حدود ‎٠١‏ إلى ‎pe 8٠‏ ‎device Jem‏ طبقا لعنصر الحماية ١؛‏ يفضل فيه أن تكون المسافة بين مستوى مخرج الأنبوب ‎)٠١( tube Y‏ والسطح العلوي للطبقة الواقعة أسفل الجهاز 067106 في حدود صفر إلى ‎8٠‏ مم. ‎conduits ‏أو المجاري‎ tubes ‏تكون فيه كثافة الأنابيب‎ ١ ‏طبقا لعنصر الحماية‎ device ‏؛-جهاز‎ ١ ‏مجرى لكل متر مربع.‎ 8٠0 ‏أكثر من‎ Y ‎0١‏ #-جهاز ‎device‏ طبقا لعنصر الحماية ‎oO)‏ يتميز بوجود الجهاز ‎device‏ المذكور في عكس اتجاه ‎Y‏ تيار ‎upstream‏ 10 طبقة حفازة ‎catalytic bed‏ أو عند قمة المفاعل ‎reactor‏ ‏١-جهاز ‎device‏ طبقا لعنصر الحماية 0 واقع عند قمة مفاعل ‎reactor‏ للتكسير المائي ‎<hydrocracking Y‏ المعالجة المائيسسة ‎chydrotreatment‏ الكبرتة لمائيسة ‎hydrodesulphurisation v‏ أو الهدرجة الانتفائية ‎selective hydrogenation‏ لجزء ‎Ca‏ إلى
    ‎.Cs ¢ ‎٠‏ 7-جهاز ‎device‏ طبقا لعخصر ‎VA lanl)‏ حيث يتكون المائع ‎fluid‏ الأول أساسا من ‎Ll gaseous ‏الثاني الغازي‎ fluid ‏ويكون المائع‎ hydrocarbons ‏هيدروكربونات‎ Y ‎hydrogen ‏هيدروجين‎ Y ‎YYYY
    »م
    ‎٠١‏ “-جهاز ‎device‏ طبقا لعنصر الحماية ١؛‏ يتميز بأن الجهاز ‎device‏ المذكور يقع في عكس اتجاه 1 تيار ‎upstream‏ 20 طبقة صلبة حبببية ‎.bed of granular solids‏ 4+4-جهاز ‎device‏ طبقا لعنصر الحماية )0 مزود أيضا بوسيلة لحقن المائع ‎fluid‏ الأول في الغرفة ‎chamber Y‏ عرضياً بالنسبة للجهاز ‎device‏ المذكور. ‎>٠١ ٠‏ جهاز ‎device‏ طبقا لعنصر الحماية ‎١‏ ؛ يتميز بأن الجهاز ‎device‏ المذكور يقع في اتجاه ‎Y‏ تيار طبقة ‎bed‏ من مادة صلبة حبيبية ‎-granular solids‏
    ‎-١١ ٠١‏ مفاعل ‎reactor‏ يشتمل؛ على الأقل؛ على جهاز ‎device‏ واحد طبقا لعنصر الحماية ‎١‏ إلى ‎٠ Y‏ لخلط وتوزيع مادتين مائعتين ‎fluids‏ يشتمل؛ على الأقل؛ على طبقة واحدة من مواد ‎Y‏ صلبة حبيبية ‎granular solids‏ في اتجاه تيار الجهاز ‎device‏ المذكورء يدخل المائع ‎fluid‏ ‏¢ الأول مباشرة في الغرفة ‎(VY +) chamber‏ ويدخل المائع ‎fluid‏ الثاني في عكس اتجاه تيار ° الجهاز ‎device‏ المذكور.
    ‎buffer drum ‏طبقا لعنصر الحماية ١٠؛ يتميز بأنه يشتمل على قرص عائق‎ reactor ‏مفاعل‎ —YY ٠ ‏ويكون متصلا مع الجهاز‎ reactor ‏وخارج المفاعل‎ reactor ‏عكس اتجاه تيار قمة المفاعل‎ ad Y ‏وطور‎ liquid phase ‏للسماح بتبادل المادة بين الطور السائل‎ (VF (VY ( ‏عبر الخطوط‎ device 1 ‏في جهاز‎ separate injection ‏يسمح الخطان المذكوران بالحقن المنفصل‎ «gas phase ‏الغاز‎ ¢ ‏مذاب وطضور‎ gas ‏أساسا يحتوي على غاز‎ liquid phase ‏لطور سائل‎ mixing device ‏الخلط‎ ° liquid ‏بوجه خاص» ينتج طورا السائل‎ liquid ‏أساسا يحتوى على سائل‎ pas phase ‏غازي‎ 1 ‏في‎ gas ‏والغاز‎ liquid ‏أساسا والغازي 5 أساسا من الاتصال السابق لطوري السائل‎ v ‏المذكور.‎ buffer drum ‏القرص العائق‎ A
    ‎fluids ‏طبقا لعنصر الحماية ١١؛ فيه وسيلة لدوران المادتين المائعتين‎ reactor ‏مفاعل‎ -١ ٠١ ‏أو الطبقات المذكورة‎ bed ‏الثيار المشترك خلال الطبقة‎ co-current dropper ‏بأسلوب قطارة‎ Y -granular solids ‏من المواد الصلبة الحبيبية‎ ¥
    ‎-١4 ٠‏ عملية تشتمل على إجزاء إزالة كبرتة مائية ‎Jeli chydrodesulphurisation‏ هدرجة ‎Y‏ انتقائية ‎selective hydrogenation‏ أو إزالة نترجة مائية ‎hydrodenitrogenation‏ في مفاعل ‎Gh reactor 1‏ لعنصر الحماية ‎.١١‏
    ‎Vo‏ جهاز ‎device‏ طبقا لعنصر الحماية ١؛‏ حيث يتكون المائع ‎fluid‏ الأول أساساً من
    ‎hydrogen ‏من‎ Luli ‏الثاني‎ fluid ‏والمائع‎ chydrocarbons Y
    ‎YYYY
    " ‎-١١ ١‏ جهاز ‎device‏ لخلط مائعين ‎fluids‏ وتوزيع الخليط ‎Jat yo Sad)‏ على غرفة ‎(VV)‏ ‎chamber Y‏ 30 335 بمائع ‎Ble Jd fluid‏ يتكون ‎Lulu‏ من ‎chydrocarbons‏ تملا الغرفة ‎v‏ المذكورة وسلسلة من الأنابيب ‎tubes‏ أو المجاري ‎(VA) conduits‏ التي تجتاز الغرفة ‎chamber‏ المذكورة جوهريا في اتجاه رأسي ويتم إمدادها بمائع ‎fluid‏ ثان غازي ‎Luli‏ من > الهيدروجين؛ تثقب الأنابيب ‎tubes‏ المذكورة بواسطة ثقوب عرضية موزعة فوق العديد من 1 المستويات للسماح باتصال الأنابيب ‎tubes‏ المذكورة مع ‎chamber 43 yall‏ المذكورة؛ تتميز 7 الأنابيب ‎tubes‏ المذكورة بقطر 02 في حدود “ إلى ‎٠٠١‏ مم من أجل سرعة حركة السطح ‎A‏ للمائع ‎fluid‏ الأول في حدود ‎٠١‏ إلى ‎٠٠١‏ سم/ ثانية؛ تتميز هذه الأنابيب ‎tubes‏ أيضا بأن 4 المسافة بين الثقوب الواقعة عند المستوى الأدنى بالنسبة لاتجاه تدفع المادة المائعة ‎fluid‏ ‎Ve‏ الخليط المائع ‎fluid‏ عند مخرج الأنبوب ‎tube‏ تكون أكبر من ‎9٠‏ مم؛ يقع الجهاز المذكور عند ‎١‏ رأس مفاعل ‎reactor‏ التكسير المائي ‎chydrocracking‏ المعالجة المائية ‎<hydrotreatment‏ ‎VY‏ إزالة الكبرتة المائية ‎hydrodesulphurisation‏ أو هدرجة انتقائية ‎selective hydrogenation‏ ‎١‏ للجزء ‎Cy‏ إلى ‎Cs‏ ‎-١7 ١‏ جهاز ‎device‏ لخلط مادتين مائعتين ‎fluids‏ ولتوزيع ‎distributing‏ الخنيط ‎mixture‏ ‎Y‏ المذكور؛ يتميز ‎aly‏ بشتمل على غرفة ‎(VY +) chamber‏ يتم إمدادها بمائع 80 أولء؛ ‎a‏ ‎v‏ الغرفة ‎chamber‏ المذكورة بالمائع 12 الأول المذكورء وسلسلة من الأنابيب ‎tubes‏ أو المجاري ‎)٠١( conduits‏ التي تجتاز الغرفة ‎chamber‏ المذكورة جوهريا في اتجاه رأسي ه ويتم إمدادها بمائع 11010 ثان؛ تثقب الأنابيب ‎tubes‏ المذكورة بواسطة ثقوب عرضية موزعة 1 فوق العديد من المستويات للسماح باتصال الأنابيب ‎tubes‏ المذكورة مع الغرفة ‎chamber‏ ‎v‏ المذكورة؛ تتميز الأنابيب ‎tubes‏ المذكورة بقطر عل في حدود ؟ إلى ‎٠٠١‏ مم من أجل سرعة ‎A‏ حركة السطح للمائع ‎fluid‏ الأول في حدود ‎٠١‏ إلى ‎٠٠١‏ سم/ ثانية؛ تتميز هذه الأنابيب ‎tubes 9‏ أيضا بأن المسافة بين الثقوب الواقعة عند المستوى الأدنى بالنسبة لاتجاه تدفع المادة :0 المائعة ‎fluid‏ أو الخليط المائع ‎fluid‏ عند مخرج الأنبوب ‎tube‏ تكون أكبر من 90 مم؛ ‎Ss‏ ‎"١‏ يقع الجهاز ‎device‏ المذكور قبل الطبقة الحفازة أو عند رأس مفاعل ‎reactor‏ ‎YA‏ جهاز ‎Gh device‏ لعنصر الحماية ‎OY‏ يقع عند رأس مفاعل ‎ue reactor‏ المائي ‎<hydrocracking Y‏ المعالجة المائية ‎<hydrotreatment‏ أو مفاعل ‎reactor‏ هدرجة انتقائية ‎selective hydrogenation 1‏ لجزء ‎Ca‏ إلى ‎Cs‏ ‎YYYY‏
SA01220551A 2000-08-17 2001-11-26 جهاز توزيع من أجل إنتاج خليط متعدد الطور ومفاعل مرتبط به SA01220551B1 (ar)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0010694A FR2813024B1 (fr) 2000-08-17 2000-08-17 Dispositif d'injection d'un fluide place entre deux lits successifs permettant de realiser et de distribuer simultanement un melange polyphasique

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SA01220551B1 true SA01220551B1 (ar) 2006-09-05

Family

ID=8853572

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SA01220551A SA01220551B1 (ar) 2000-08-17 2001-11-26 جهاز توزيع من أجل إنتاج خليط متعدد الطور ومفاعل مرتبط به

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6824675B2 (ar)
EP (1) EP1180393B1 (ar)
JP (1) JP2002172321A (ar)
DE (1) DE60137890D1 (ar)
ES (1) ES2322231T3 (ar)
FR (1) FR2813024B1 (ar)
SA (1) SA01220551B1 (ar)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7550123B2 (en) * 2000-03-03 2009-06-23 Steen Research, Llc Method and apparatus for use of reacted hydrogen peroxide compounds in industrial process waters
FR2818559B1 (fr) * 2000-12-21 2003-10-24 Inst Francais Du Petrole Dispositif permettant de realiser une injection separee et une distribution homogene de deux fluides
FR2842435B1 (fr) * 2002-07-16 2004-09-24 Inst Francais Du Petrole Dispositif de melange et de distribution d'un fluide dense et d'un fluide leger place en amont d'un lit granulaire et son utilisation en ecoulement descendant
FR2850664B1 (fr) * 2003-01-31 2006-06-30 Inst Francais Du Petrole Procede d'hydrogenation selective mettant en oeuvre un reacteur catalytique a membrane selective a l'hydrogene
FR2853260B1 (fr) * 2003-04-02 2005-05-06 Inst Francais Du Petrole Dispositif ameliore de melange et de distribution d'une phase gaz et d'une phase liquide alimentant un lit granulaire
US7108838B2 (en) * 2003-10-30 2006-09-19 Conocophillips Company Feed mixer for a partial oxidation reactor
FR2875148B1 (fr) * 2004-09-10 2007-06-29 Inst Francais Du Petrole Installation et methode de melange et de distribution d'une phase liquide et d'une phase gazeuse
US7416571B2 (en) * 2005-03-09 2008-08-26 Conocophillips Company Compact mixer for the mixing of gaseous hydrocarbon and gaseous oxidants
FR2883200B1 (fr) * 2005-03-17 2007-05-11 Inst Francais Du Petrole Dispositif pour le melange et la repartition d'un gaz et d' un liquide en amont d'un lit granulaire
ITMI20052002A1 (it) * 2005-10-21 2007-04-22 Eni Spa Dispositivo per miscelare fluidi inserito o combinato ad un reattore
US8010292B2 (en) * 2006-09-28 2011-08-30 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Method and system for detecting abnormal operation in a hydrocracker
ITMI20070627A1 (it) * 2007-03-29 2008-09-30 Polimeri Europa Spa Dispositivo miscelatore a bassa perdita di carico e suo impiego nella miscelazione di due gas-vapori
FR2933311B1 (fr) * 2008-07-03 2012-02-03 Inst Francais Du Petrole Plateaux de colonnes de contact gaz-liquide a ecoulement co-courant a haut barrage de liquide
FR2948296A1 (fr) * 2009-07-21 2011-01-28 Inst Francais Du Petrole Dispositif de melange de gaz et de distribution du melange resultant a l'entree d'un reacteur catalytique
BRPI0904285B1 (pt) * 2009-10-30 2019-09-10 Petroleo Brasileiro Sa Petrobras dispositivo para resfriamento e distribuição de cargas mistas sobre leitos fixos de catalisador
DE102010029441A1 (de) * 2010-05-28 2011-12-01 Rtm 2000 Ag Vorrichtung zur Verteilung von Flüssigkeit auf eine angeschlossene Kolonnenpackung
US9365781B2 (en) 2012-05-25 2016-06-14 E I Du Pont De Nemours And Company Process for direct hydrogen injection in liquid full hydroprocessing reactors
CN104759229B (zh) * 2014-12-31 2017-06-30 宁波艾迪特设备科技有限公司 一种用于饮料制作的自增压气液混合装置
CN105664805A (zh) * 2016-01-15 2016-06-15 中航黎明锦西化工机械(集团)有限责任公司 滴流床反应器分布器
CN108721931A (zh) * 2018-06-12 2018-11-02 帕提古丽·奥布力 一种制备丁苯胶乳的连续精馏装置
FR3102070B1 (fr) 2019-10-17 2021-09-24 Commissariat Energie Atomique Réacteur échangeur à tubes et calandre permettant l’injection étagée d’un réactif

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE687952C (de) * 1932-05-14 1940-02-09 Chemical Conversion Company Vorrichtung zur Verteilung eines Reaktions-, Regenerations- oder Reinigungsstromes in einer mit einer Kontaktmasse gefuellten Kammer
US2385200A (en) * 1942-06-25 1945-09-18 Hooker Electrochemical Co Methods and apparatus for reacting gases with liquids
US3946104A (en) * 1973-01-13 1976-03-23 Friedrich Uhde Gmbh Method of producing an homogeneous gas mixture
JPS60193227U (ja) * 1984-06-01 1985-12-23 三菱重工業株式会社 固定床用液分散器
JPH0640949B2 (ja) * 1987-05-29 1994-06-01 ユ−オ−ピ− インコ−ポレイテツド 垂直流れ流体−固体接触用混合装置
GB8910372D0 (en) * 1989-05-05 1989-06-21 Framo Dev Ltd Multiphase process mixing and measuring system
GB9000528D0 (en) * 1990-01-10 1990-03-14 Shell Int Research Fixed bed reactor
NO300117B1 (no) * 1994-12-22 1997-04-14 Norske Stats Oljeselskap Reaktor for dehydrogenering av hydrokarboner med selektiv oksidasjon av hydrogen
US6017022A (en) * 1995-10-12 2000-01-25 The Dow Chemical Company Shear mixing apparatus and use thereof
EP0769316B1 (fr) * 1995-10-20 2003-01-15 Institut Français du Pétrole Distributeur permettant l'injection et/ou le soutirage indépendant de fluides
FR2740054B1 (fr) * 1995-10-20 1997-12-19 Inst Francais Du Petrole Chambre de melange munie d'orifices d'injection et/ou de soutirage pour optimiser la fonction de melange
FR2745201B1 (fr) * 1996-02-27 1998-04-24 Inst Francais Du Petrole Dispositif de distribution d'un melange polyphasique a travers un lit catalytique
US5885534A (en) * 1996-03-18 1999-03-23 Chevron U.S.A. Inc. Gas pocket distributor for hydroprocessing a hydrocarbon feed stream
FR2782657B1 (fr) * 1998-09-02 2000-09-29 Inst Francais Du Petrole Systeme distributeur-collecteur de fluides et son procede
US6620389B1 (en) * 2000-06-21 2003-09-16 Utc Fuel Cells, Llc Fuel gas reformer assemblage
FR2813023B1 (fr) * 2000-08-17 2003-10-24 Inst Francais Du Petrole Dispositif de distribution permettant de realiser un melange polyphasique et reacteur associe

Also Published As

Publication number Publication date
US20020021991A1 (en) 2002-02-21
EP1180393B1 (fr) 2009-03-11
FR2813024B1 (fr) 2004-02-13
DE60137890D1 (de) 2009-04-23
EP1180393A3 (fr) 2002-03-06
ES2322231T3 (es) 2009-06-18
JP2002172321A (ja) 2002-06-18
FR2813024A1 (fr) 2002-02-22
EP1180393A2 (fr) 2002-02-20
US6824675B2 (en) 2004-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SA01220551B1 (ar) جهاز توزيع من أجل إنتاج خليط متعدد الطور ومفاعل مرتبط به
JP4721086B2 (ja) 多相混合を生ずる分配装置、および関連反応器
US4233269A (en) Gas liquid distributor
AU2010303517B2 (en) Flow distribution device for downflow catalytic reactors
JP5276098B2 (ja) 触媒床上で液相及び気相の三相反応を実行するための反応器
CN103990393B (zh) 用于两相并行容器的具有切向入口的混合设备和混合方法
US3598541A (en) Fluid contacting apparatus for fluid-solid contacting chambers
US20060078483A1 (en) Fluid distribution apparatus for downflow multibed poly-phase catalytic reactor
JP5270056B2 (ja) 少なくとも１つの気相および少なくとも１つの液相の接触、物質分配ならびに熱および／または物質交換のための多機能サブアセンブリー
DE60002741D1 (de) Einsatzeinspritzsystem für katalytisches krackverfahren
KR101015929B1 (ko) 입자층 상류에 배치된 고밀도 유체와 저밀도 유체의 혼합 및 분배 장치
US3502445A (en) Apparatus for mixing fluids in concurrent downflow relationship
US7988928B2 (en) Treatment or hydrotreatment reactor with a granular bed and an essentially liquid phase and an essentially gaseous phase flowing through the bed
KR20010098537A (ko) 다공성 제트 교란기 부재를 포함하는, 입자상 고체의 층위로 다중 상의 혼합물을 분배시키기 위한 장치
KR20140144655A (ko) 유체 분배 디바이스
KR20090008358A (ko) 유체 분배 트레이 및 접촉 물질 베드에 걸쳐 고분산 유체를분배하는 방법
JP2004522567A (ja) スタック状モノリスリアクタ及びプロセス
KR102532376B1 (ko) 유동화 매체를 함유하는 챔버에서 다상 혼합물을 분배하기 위한 신규의 디바이스
JP3776995B2 (ja) 炭化水素装入物の噴射装置
US7029638B2 (en) Device for separate injection and homogeneous distribution of two fluids
CN108579625A (zh) 一种气固流化床催化剂混合装置
Sylvester et al. Radial liquid distribution in cocurrent two‐phase downflow in packed beds
CN209423569U (zh) 气液混合分配器、气液分配塔盘及加氢反应器
JP4834879B2 (ja) 上昇流で流通する気相および液相を混合および分配するための封入スペース
KR900005171B1 (ko) 수직 흐름 유체-고체 접촉을 위한 혼합장치