RU99118605A - Микромеханический прибор и способ его изготовления - Google Patents
Микромеханический прибор и способ его изготовленияInfo
- Publication number
- RU99118605A RU99118605A RU99118605/28A RU99118605A RU99118605A RU 99118605 A RU99118605 A RU 99118605A RU 99118605/28 A RU99118605/28 A RU 99118605/28A RU 99118605 A RU99118605 A RU 99118605A RU 99118605 A RU99118605 A RU 99118605A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- semiconductor structure
- silicon carbide
- semiconductor layer
- micromechanical device
- sensitivity
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 9
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N Silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 206010057040 Temperature intolerance Diseases 0.000 claims 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims 1
Claims (3)
1. Микромеханический прибор, содержащий тензорезисторный чувствительный элемент, выполненный в полупроводниковой структуре легированного карбида кремния на подложке с диэлектрической поверхностью, отличающийся тем, что в качестве полупроводниковой структуры используют карбид кремния, легированный из расчета соотношения активных и дефектных примесных центров 1:(2-20), при этом в полупроводниковой структуре дополнительно сформирован терморезисторный чувствительный элемент.
2. Способ изготовления микромеханического прибора, предусматривающий осаждение на подложку полупроводникового слоя, содержащего легирующую примесь, под управляющим воздействием по парциальному давлению или скорости подачи газа с последующим нанесением слоя диэлектрика и формированием чувствительных элементов в полученной полупроводниковой структуре с помощью избирательного травления, отличающийся тем, что осаждают полупроводниковый слой на основе карбида кремния, при этом управляющее воздействие осуществляют из расчета соотношения активных и дефектных примесных центров в полупроводниковом слое 1:(2-20), а чувствительные элементы формируют не содержащими потенциальных барьеров.
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что для его осуществления в оптимальном режиме отбирают образцы промежуточного продукта - полупроводниковой структуры легированного карбида кремния, полученной при различных значениях режимных параметров, определяют удельное сопротивление, тензо- и термочувствительность образцов и устанавливают значения управляющих воздействий на стадии осаждения полупроводникового слоя из условия максимума обобщенной функции оптимальности Харрингтона
где Q - обобщенная функция оптимальности Харрингтона;
y1, y2 и y3 - удельное сопротивление (Ом•см), тензочувствительность и термочувствительность (К-1) образца соответственно.
где Q - обобщенная функция оптимальности Харрингтона;
y1, y2 и y3 - удельное сопротивление (Ом•см), тензочувствительность и термочувствительность (К-1) образца соответственно.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU99118605A RU2170993C2 (ru) | 1999-09-02 | 1999-09-02 | Микромеханический прибор и способ его изготовления |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU99118605A RU2170993C2 (ru) | 1999-09-02 | 1999-09-02 | Микромеханический прибор и способ его изготовления |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2170993C2 RU2170993C2 (ru) | 2001-07-20 |
RU99118605A true RU99118605A (ru) | 2001-07-27 |
Family
ID=20224389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU99118605A RU2170993C2 (ru) | 1999-09-02 | 1999-09-02 | Микромеханический прибор и способ его изготовления |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2170993C2 (ru) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2915494B1 (fr) * | 2007-04-30 | 2009-07-24 | Snecma Sa | Procede pour realiser un depot d'alumine sur un substrat recouvert de sic |
FR2915493B1 (fr) * | 2007-04-30 | 2009-07-24 | Snecma Sa | Procede pour realiser un depot sur un substrat recouvert de sic |
-
1999
- 1999-09-02 RU RU99118605A patent/RU2170993C2/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6444487B1 (en) | Flexible silicon strain gage | |
US6896780B2 (en) | Microelectrode, microelectrode array and method for manufacturing the microelectrode | |
KR100495462B1 (ko) | 센서 요소 | |
US20040195096A1 (en) | Method for the fabrication of suspended porous silicon microstructures and application in gas sensors | |
US3893228A (en) | Silicon pressure sensor | |
JP4138036B2 (ja) | 表面微細加工構造を集積化したモノリシック半導体素子の製造方法 | |
US6753639B2 (en) | Micro-electromechanical structure resonator frequency adjustment using radiant energy trimming and laser/focused ion beam assisted deposition | |
JP3493068B2 (ja) | 結晶性材料からなる加速度センサおよびこの加速度センサの製造方法 | |
US5659127A (en) | Substrate structure of monolithic gas sensor | |
US5296255A (en) | In-situ monitoring, and growth of thin films by means of selected area CVD | |
US20070062812A1 (en) | Gas sensor and method for the production thereof | |
EP0697726B1 (en) | Heat sink comprising synthetic diamond film | |
US6190571B1 (en) | Semiconductor micromachine and manufacturing method thereof | |
JPH10148624A (ja) | 化学抵抗ガスマイクロセンサを含む半導体集積回路装置及びその製造方法 | |
US6248609B1 (en) | Integrated semiconductor device comprising a chemoresistive gas microsensor and manufacturing process thereof | |
EP0783686A1 (en) | Method and device for gas sensing | |
US20180340901A1 (en) | Gas sensor platform and the method of making the same | |
KR100529233B1 (ko) | 센서 및 그 제조 방법 | |
JP2003501657A (ja) | 低消費電力センサ | |
RU99118605A (ru) | Микромеханический прибор и способ его изготовления | |
EP0219543A1 (en) | SEMICONDUCTOR PRESSURE CONVERTER WITH SEALED CAVITY AND METHOD FOR IT. | |
US6702637B2 (en) | Method of forming a small gap and its application to the fabrication of a lateral FED | |
JPS6022502B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2002514760A (ja) | ガス検知素子 | |
JPH08262039A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 |