RU99118605A - Микромеханический прибор и способ его изготовления - Google Patents

Микромеханический прибор и способ его изготовления

Info

Publication number
RU99118605A
RU99118605A RU99118605/28A RU99118605A RU99118605A RU 99118605 A RU99118605 A RU 99118605A RU 99118605/28 A RU99118605/28 A RU 99118605/28A RU 99118605 A RU99118605 A RU 99118605A RU 99118605 A RU99118605 A RU 99118605A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
semiconductor structure
silicon carbide
semiconductor layer
micromechanical device
sensitivity
Prior art date
Application number
RU99118605/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2170993C2 (ru
Inventor
Виктор Викторович Лучинин
Андрей Владимирович Корляков
Олег Викторович Субботин
Original Assignee
Центр технологий микроэлектроники
Filing date
Publication date
Application filed by Центр технологий микроэлектроники filed Critical Центр технологий микроэлектроники
Priority to RU99118605A priority Critical patent/RU2170993C2/ru
Priority claimed from RU99118605A external-priority patent/RU2170993C2/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2170993C2 publication Critical patent/RU2170993C2/ru
Publication of RU99118605A publication Critical patent/RU99118605A/ru

Links

Claims (3)

1. Микромеханический прибор, содержащий тензорезисторный чувствительный элемент, выполненный в полупроводниковой структуре легированного карбида кремния на подложке с диэлектрической поверхностью, отличающийся тем, что в качестве полупроводниковой структуры используют карбид кремния, легированный из расчета соотношения активных и дефектных примесных центров 1:(2-20), при этом в полупроводниковой структуре дополнительно сформирован терморезисторный чувствительный элемент.
2. Способ изготовления микромеханического прибора, предусматривающий осаждение на подложку полупроводникового слоя, содержащего легирующую примесь, под управляющим воздействием по парциальному давлению или скорости подачи газа с последующим нанесением слоя диэлектрика и формированием чувствительных элементов в полученной полупроводниковой структуре с помощью избирательного травления, отличающийся тем, что осаждают полупроводниковый слой на основе карбида кремния, при этом управляющее воздействие осуществляют из расчета соотношения активных и дефектных примесных центров в полупроводниковом слое 1:(2-20), а чувствительные элементы формируют не содержащими потенциальных барьеров.
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что для его осуществления в оптимальном режиме отбирают образцы промежуточного продукта - полупроводниковой структуры легированного карбида кремния, полученной при различных значениях режимных параметров, определяют удельное сопротивление, тензо- и термочувствительность образцов и устанавливают значения управляющих воздействий на стадии осаждения полупроводникового слоя из условия максимума обобщенной функции оптимальности Харрингтона
Figure 00000001

где Q - обобщенная функция оптимальности Харрингтона;
y1, y2 и y3 - удельное сопротивление (Ом•см), тензочувствительность и термочувствительность (К-1) образца соответственно.
RU99118605A 1999-09-02 1999-09-02 Микромеханический прибор и способ его изготовления RU2170993C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU99118605A RU2170993C2 (ru) 1999-09-02 1999-09-02 Микромеханический прибор и способ его изготовления

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU99118605A RU2170993C2 (ru) 1999-09-02 1999-09-02 Микромеханический прибор и способ его изготовления

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2170993C2 RU2170993C2 (ru) 2001-07-20
RU99118605A true RU99118605A (ru) 2001-07-27

Family

ID=20224389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU99118605A RU2170993C2 (ru) 1999-09-02 1999-09-02 Микромеханический прибор и способ его изготовления

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2170993C2 (ru)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2247443C1 (ru) * 2003-06-30 2005-02-27 Государственное предприятие "Центр технологий микроэлектроники" (ГП "ЦТМ") Чувствительный элемент мембранного типа
FR2915493B1 (fr) * 2007-04-30 2009-07-24 Snecma Sa Procede pour realiser un depot sur un substrat recouvert de sic
FR2915494B1 (fr) * 2007-04-30 2009-07-24 Snecma Sa Procede pour realiser un depot d'alumine sur un substrat recouvert de sic

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5068203A (en) * 1990-09-04 1991-11-26 Delco Electronics Corporation Method for forming thin silicon membrane or beam
US5189777A (en) * 1990-12-07 1993-03-02 Wisconsin Alumni Research Foundation Method of producing micromachined differential pressure transducers
KR970009976B1 (ko) * 1991-08-26 1997-06-19 아메리칸 텔리폰 앤드 텔레그라프 캄파니 증착된 반도체상에 형성된 개선된 유전체
RU2006980C1 (ru) * 1992-01-27 1994-01-30 Красин Александр Алексеевич Способ формирования микроструктур с полостью
FR2700065B1 (fr) * 1992-12-28 1995-02-10 Commissariat Energie Atomique Procédé de fabrication d'accéléromètres utilisant la technologie silicium sur isolant.
RU2050033C1 (ru) * 1994-02-01 1995-12-10 Акционерная компания "Технологический центр" Интегральный балочный тензопреобразователь

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1101087B1 (en) Flexible silicon strain gage
US6896780B2 (en) Microelectrode, microelectrode array and method for manufacturing the microelectrode
KR100495462B1 (ko) 센서 요소
US20040195096A1 (en) Method for the fabrication of suspended porous silicon microstructures and application in gas sensors
US3893228A (en) Silicon pressure sensor
JP4138036B2 (ja) 表面微細加工構造を集積化したモノリシック半導体素子の製造方法
JP3493068B2 (ja) 結晶性材料からなる加速度センサおよびこの加速度センサの製造方法
JPH09119912A (ja) 半導体センサ装置およびその形成方法
US20040148771A1 (en) Micro-electromechanical structure resonator frequency adjustment using radient energy trimming and laser/focused ion beam assisted deposition
US20070062812A1 (en) Gas sensor and method for the production thereof
EP0697726B1 (en) Heat sink comprising synthetic diamond film
JPH10148624A (ja) 化学抵抗ガスマイクロセンサを含む半導体集積回路装置及びその製造方法
US20180340901A1 (en) Gas sensor platform and the method of making the same
JP2003501657A (ja) 低消費電力センサ
RU99118605A (ru) Микромеханический прибор и способ его изготовления
EP0219543A1 (en) PROCESS AND SEMICONDUCTOR PRESSURE TRANSDUCERS WITH SEALED CAVITIES.
US6702637B2 (en) Method of forming a small gap and its application to the fabrication of a lateral FED
JPS6022502B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2002514760A (ja) ガス検知素子
JPH08262039A (ja) 走査型プローブ顕微鏡
EP1335194A1 (en) Flexible silicon strain gage
JP2004506188A (ja) 画素間の寄生熱クロストークを低減したピロ電気センサ
JPH01239466A (ja) 半導体加速度センサの製造方法
EP0504928A2 (en) Thermal type infrared sensor and method for production thereof
RU2123220C1 (ru) Способ изготовления интегрального датчика