RU97100909A - Способ непрерывной жидкостной химической очистки поверхности, преимущественно, полупроводниковых пластин - Google Patents
Способ непрерывной жидкостной химической очистки поверхности, преимущественно, полупроводниковых пластинInfo
- Publication number
- RU97100909A RU97100909A RU97100909/25A RU97100909A RU97100909A RU 97100909 A RU97100909 A RU 97100909A RU 97100909/25 A RU97100909/25 A RU 97100909/25A RU 97100909 A RU97100909 A RU 97100909A RU 97100909 A RU97100909 A RU 97100909A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- liquid chemical
- continuous liquid
- chemical cleaning
- preferredly
- semiconductor plates
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Claims (2)
1. Способ непрерывной жидкостной химической очистки поверхности, преимущественно, полупроводниковых пластин, включающий электрохимическую обработку водного раствора серной кислоты, воздействие полученного активированного раствора на поверхность полупроводниковых пластин, повторную электрохимическую обработку и очистку раствора, отличающийся тем, что используют раствор серной кислоты 12-15 М, а электрохимическую обработку осуществляют при напряжении на электродах от 5,0 до 5,5 В для формирования озона.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что плотность анодного тока поддерживается в пределах от 5,0 до 5,5 кА/м2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU97100909A RU2118013C1 (ru) | 1997-01-21 | 1997-01-21 | Способ непрерывной жидкостной химической очистки поверхности, преимущественно полупроводниковых пластин |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU97100909A RU2118013C1 (ru) | 1997-01-21 | 1997-01-21 | Способ непрерывной жидкостной химической очистки поверхности, преимущественно полупроводниковых пластин |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2118013C1 RU2118013C1 (ru) | 1998-08-20 |
RU97100909A true RU97100909A (ru) | 1999-01-20 |
Family
ID=20189223
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU97100909A RU2118013C1 (ru) | 1997-01-21 | 1997-01-21 | Способ непрерывной жидкостной химической очистки поверхности, преимущественно полупроводниковых пластин |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2118013C1 (ru) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2534246C2 (ru) * | 2012-12-20 | 2014-11-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Рязанский государственный радиотехнический университет" | Способ определения атомного состава активных нанопримесей в жидкостях |
RU2750315C1 (ru) * | 2020-11-02 | 2021-06-25 | Акционерное общество "Научно-исследовательский институт физических измерений" | Способ глубокой очистки поверхности кремниевых пластин |
-
1997
- 1997-01-21 RU RU97100909A patent/RU2118013C1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100441803B1 (ko) | 반도체웨이퍼의세정방법 | |
JP2738467B2 (ja) | オゾン水製造装置 | |
ATE192725T1 (de) | Wasserbehandlung durch elektroflotation und elektrokoagulation | |
JP2859081B2 (ja) | ウェット処理方法及び処理装置 | |
RU97100909A (ru) | Способ непрерывной жидкостной химической очистки поверхности, преимущественно, полупроводниковых пластин | |
US4278522A (en) | Apparatus for treating contaminated water | |
RU97100908A (ru) | Способ очистки поверхности металлов | |
RU2000130857A (ru) | Способ получения серебряной воды | |
RU97100906A (ru) | Способ непрерывного жидкостного химического снятия слоев полимеров с поверхости изделий, преимущественно, полупроводниковых пластин | |
JP2006231130A (ja) | ウェット処理装置 | |
RU96106302A (ru) | Способ очистки технологических и природных вод от радионуклидов и устройство для его осуществления | |
JP2661632B2 (ja) | 殺菌装置 | |
SU1474097A1 (ru) | Способ очистки воды от органических примесей | |
RU2002102499A (ru) | Электрод, устройство и способ для электролитической обработки жидкости, система восстановления почвы на месте и устройство для выполнения восстановительно-окислительных реакций | |
RU99125401A (ru) | Способ жидкостного химического снятия слоев полимеров с металлизированных поверхностей изделий, преимущественно, полупроводниковых пластин | |
SU1162751A1 (ru) | Способ очистки сточных вод от фенола | |
JPH10137703A (ja) | 貯水槽や配管内に於ける洗浄装置 | |
SU1706967A1 (ru) | Электрокоагул тор | |
JP3191700B2 (ja) | ウェット処理方法 | |
RU2985U1 (ru) | Электродный блок | |
JPS585719B2 (ja) | 水処理装置 | |
SU1416445A1 (ru) | Способ очистки электродов электрокоагул тора | |
SU1583360A1 (ru) | Способ хлорировани воды | |
RU96115094A (ru) | Способ очистки капиллярно-пористой среды, загрязненной нефтью и нефтепродуктами | |
JPH0564784A (ja) | 電極式水処理装置 |